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磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析 被引量:1

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摘要 文章基于CNABS和DWPI数据库,通过检索、筛选、统计和分析国内外有关磁流变抛光装置的专利申请,梳理了磁流变抛光装置领域的技术发展脉络,对各主要技术分支的申请年度、申请量、地域分布进行统计,同时对磁流变抛光装置领域的重要申请人进行分析。 Based on CNABS and DWPI databases,this paper,searching,screening,statistics and analysis of domestic and for-eign patent applications for magnetorheological polishing devices,traces the technical development of magnetorheological polishing de-vices. The application year,application amount and geographical distribution of the main technical branches are analyzed. At thesame time,the important applicants in the field of magnetorheological polishing device are analyzed.
出处 《科技创新与应用》 2018年第8期28-29,共2页 Technology Innovation and Application
关键词 磁流变抛光装置 专利技术 分析 magnetorheological polishing device patent technology analysis
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