电子级多晶硅清洗过程管控要点被引量：7

下载PDF

导出

摘要电子级多晶硅是集成电路产业链中重要的基础材料,是制造集成电路抛光片、高纯硅制品的主要原料。电子级多晶硅表面金属杂质含量的高低对单晶拉制以及晶圆片的良率的高低有着密切的关系,因此,在生产过程中,通过表面清洗来控制电子级多晶硅后处理过程中带来的表面金属杂质含量,提升电子级多晶硅的质量,保证单晶拉制的成功率、晶圆片的良率。

作者厉忠海于跃王阳沈棽

机构地区江苏鑫华半导体材料科技有限公司

出处《中国设备工程》 2019年第4期174-175,共2页 China Plant Engineering

关键词电子级多晶硅清洗方法表面金属含量

分类号 TN304 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

参考文献2

1梁骏吾.电子级多晶硅的生产工艺[J].中国工程科学,2000,2(12):34-39. 被引量：164
2王恩俊,武锦涛,银建中,赵建.太阳能级多晶硅生产工艺的现状与发展[J].当代化工,2012,41(12):1340-1343. 被引量：13

二级参考文献12

1丘克强,龙桂花,陈少纯.对发展我国太阳能级多晶硅低成本制备技术的战略思考与选择[J].新材料产业,2008(6):20-28. 被引量：6
2周鸿军,张泰生,李红波,陈鸣波.锌还原四氯化硅的产业化应用研究[J].新材料产业,2008(11):59-62. 被引量：7
3陈涵斌,李育亮,印永祥.四氯化硅转化技术的现状与发展趋势[J].氯碱工业,2009,45(4):27-31. 被引量：61
4周鸿军,陈鸣波.锌还原四氯化硅的产业化应用研究进展[J].新材料产业,2009(8):15-17. 被引量：11
5张愿成,张滢清,郭飞,韩晓龙,黄碧龙,张玉霞,贺珍俊.锌还原四氯化硅制备多晶硅技术的国内外进展[J].新材料产业,2010(2):48-51. 被引量：2
6郭志鹏,张云.多晶硅生产中还原工序的节能减排探讨[J].煤,2010,19(7):113-115. 被引量：4
7吴明明,谈瑛,侯清麟,王吉清.四氯化硅的应用现状研究[J].湖南工业大学学报,2010,24(6):18-22. 被引量：12
8宋佳,曹祖宾,李会朋,姜召坤,朱元宝.多晶硅副产物四氯化硅的利用[J].化学与粘合,2011,33(1):57-62. 被引量：17
9念保义,郭海琼,何绍福.化学法多晶硅生产工艺研究进展[J].广州化工,2011,39(6):21-24. 被引量：10
10李建隆,陈光辉,张攀,王伟文,段继海.Technical Challenges and Progress in Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition of Polysilicon[J].Chinese Journal of Chemical Engineering,2011,19(5):747-753. 被引量：12

共引文献172

1吴锋.集成电路用电子级多晶硅沉积工艺研究[J].当代化工,2020,49(12):2814-2817. 被引量：3
2宋东明,谢刚,马卓煌,陈丽娟,张艺,侯彦青.多晶硅材料制备中施主杂质磷的模拟计算研究[J].功能材料与器件学报,2013,19(3):105-108. 被引量：3
3李刚.三氯氢硅精馏工艺改造浅析[J].中国石油和化工标准与质量,2012,32(3):29-29. 被引量：3
4杨志国.多晶硅还原中三氯氢硅几种汽化方式的比较[J].科协论坛（下半月）,2009(7):89-90. 被引量：4
5廖勇明,董立军,韩敬东,陈大鹏,叶甜春.用SiH_2Cl_2沉积MEMS中的多晶硅薄膜研究[J].电子工业专用设备,2005,34(1):28-30. 被引量：1
6梁骏吾.光伏产业面临多晶硅瓶颈及对策[J].科技导报,2006,24(6):5-7. 被引量：35
7胡蕴成,邓良平,刘宜家.半导体硅材料与信息化社会的高速发展[J].新材料产业,2007(7):52-56. 被引量：1
8李国栋,张秀玲,胡仰栋.电子级多晶硅生产工艺的热力学分析[J].过程工程学报,2007,7(3):520-525. 被引量：25
9冉祎,兰天石,覃攀,戴晓雁,印永祥.等离子体还原SiCl_4一步法制备多晶硅实验研究[J].人工晶体学报,2007,36(4):828-831. 被引量：17
10温雅,胡仰栋,单廷亮.改良西门子法多晶硅生产中分离工艺的改进[J].化学工业与工程,2008,25(2):154-159. 被引量：17

同被引文献36

1吴锋.集成电路用电子级多晶硅沉积工艺研究[J].当代化工,2020,49(12):2814-2817. 被引量：3
2戴剑锋,孙毅彬,张超,李扬,王青,李维学.采用超临界CO_2流体清除硅芯片上的纳米粒子[J].纳米技术与精密工程,2009,7(1):20-24. 被引量：4
3潘绍忠.高纯氢氟酸的研究[J].有机氟工业,2009(2):45-47. 被引量：6
4李海玲,王文静,周春兰,赵雷,刁宏伟.在HNO3/HF混合液中反应副产物对腐蚀特性的影响[J].太阳能学报,2010,31(9):1150-1153. 被引量：5
5王敬,屠海令,朱悟新,周旗钢,刘安生,张椿.稀氢氟酸中硅表面氢终端的原位拉曼光谱研究[J].光散射学报,1999,11(2):147-150. 被引量：1
6刘飞,邱祖军,尹峰,蒋月明.电子级氢氟酸的纯化技术及其发展现状[J].硫磷设计与粉体工程,2012(1):44-48. 被引量：11
7张穗忠,李杰.电感耦合等离子体原子发射光谱法测量萤石中硫含量[J].武汉工程职业技术学院学报,2013,25(4):1-3. 被引量：9
8张海波.氟材料行业分析[J].新材料产业,2002(4):25-27. 被引量：11
9周哲,付丙磊,王栋,颜秀文,高德平,王志越.集成电路制造工艺技术现状与发展趋势[J].电子工业专用设备,2017,46(3):34-38. 被引量：11
10朱磊,李平仓,赵惠,沈春豫.爆炸焊接银不锈钢复合板的银板表面防护措施研究[J].热加工工艺,2017,46(15):176-178. 被引量：3

引证文献7

1赵晋荣,韦刚,侯珏,曹永友,董金卫,卢夕生,孙伟.集成电路核心工艺装备技术的现状与展望[J].前瞻科技,2022(3):61-72.
2于跃,厉忠海,李春松,高召帅,吴锋.电子级多晶硅化学清洗表面氢氧终端性能研究[J].新型工业化,2019,9(10):59-62. 被引量：1
3马磊.洁净用品在高纯多晶硅后处理过程中的重要性[J].化工设计通讯,2021,47(1):54-55.
4张艾民.浅析电子级多晶硅的清洗工序[J].清洗世界,2021,37(8):5-6. 被引量：1
5陈远新,于跃,杨亮.浅谈半导体级多晶硅关键接触材料的选择[J].中国设备工程,2022(23):118-119. 被引量：1
6朱博超,章志成.电子级氢氟酸研究进展[J].辽宁化工,2023,52(8):1217-1219.
7赵云,陈辉.电子级硅料清洗质量影响因素分析[J].绿色矿冶,2023,39(6):49-52. 被引量：2

二级引证文献5

1张艾民.浅析电子级多晶硅的清洗工序[J].清洗世界,2021,37(8):5-6. 被引量：1
2朱磊,魏艺斌.退火温度对爆炸焊接银/钢复合板中银层组织与力学性能的影响[J].金属热处理,2023,48(8):154-160. 被引量：1
3赵云,陈辉.电子级硅料清洗质量影响因素分析[J].绿色矿冶,2023,39(6):49-52. 被引量：2
4霍海洋,宗佰利.电子级多晶硅的生产工艺探讨[J].智能城市应用,2024,7(2):120-122.
5宋维东.电子级多晶硅生产技术及发展现状[J].中国粉体工业,2024(5):18-20.

1彭绍虎.浅谈房地产开发企业对建设工程项目质量的管控[J].居舍,2019(2):127-127. 被引量：4
2王安平.地下室人防工程施工质量管控要点分析[J].居舍,2018(23):98-98. 被引量：2
3吴林.河蟹和小龙虾养殖池塘水草管理与控制技术[J].现代农业科技,2019(1):204-205. 被引量：1
4王祥科.前言:环境放射化学专刊[J].中国科学：化学,2019,49(1):1-1.
5田原,王云彪,龚一夫,耿莉.空间电池用锗抛光片的Marangoni干燥技术[J].节能技术,2018,36(6):552-555. 被引量：1
6程炜东,王洪亚,郭开彦.面向脏数据的贝叶斯统计建模研究[J].智能计算机与应用,2019,9(2):104-107. 被引量：1
7李占结,李松琴,李琳,杨悦,陈文森,张永祥,刘波.新内镜中心验收过程发现的问题及对策[J].中国感染控制杂志,2019,18(1):69-73. 被引量：6
8张媛媛,程群峰.石墨烯复合纤维材料研究进展[J].中国材料进展,2019,38(1):49-57. 被引量：10
9胡志强,赵奉超,赵周,廖洪彬,武兴华,王晓宇,冯开明.低活化马氏体钢热等静压焊接接头性能初步研究[J].核聚变与等离子体物理,2018,38(3):344-349. 被引量：3

中国设备工程

2019年第4期

浏览历史

内容加载中请稍等...

电子级多晶硅清洗过程管控要点被引量：7

参考文献2

二级参考文献12

共引文献172

同被引文献36

引证文献7

二级引证文献5

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史

电子级多晶硅清洗过程管控要点 被引量：7

参考文献2

二级参考文献12

共引文献172

同被引文献36

引证文献7

二级引证文献5

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史

电子级多晶硅清洗过程管控要点被引量：7