纳米ITO粉体的团聚与分散分析被引量：2

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摘要铟锡氧化物(ITO)是一种N型半导体材料,通常包括ITO粉体、ITO靶材以及ITO导电薄膜。目前制备ITO粉体常见的方法有:水热合成法、共沉淀法机械混合法和喷雾热分解法。其中,国内主要以化学沉淀法为主,该方法具备制备成本低、方法简单、易于工业化生产优点,但最大的缺点是易出现纳米颗粒的团聚[1]。

作者杨扬傅清波谢梦

机构地区株洲冶炼集团股份有限公司

出处《新材料产业》 2019年第8期54-57,共4页 Advanced Materials Industry

关键词纳米ITO 粉体团聚分散喷雾热分解法半导体材料铟锡氧化物 ITO靶材

分类号 TB383.3 [一般工业技术—材料科学与工程]

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