光刻胶处理系统的国内外现状
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2王玉明.液晶显示的技术国内外现状[J].电子外贸,1999(9):56-57.
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3穆启道,曹立新.光刻技术的发展与光刻胶的应用[J].集成电路应用,2003,20(6):69-75. 被引量：13
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4刘锡洹,慎微.光致抗蚀剂的国内外发展动向[J].影像科学与实践,1990(4):24-26.
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5赵友洲,张萍,张礼德.光刻胶上的PECVD二氧化硅[J].微电子学与计算机,1989,6(10):4-5.
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7史国兴,颜悦明.制板工艺设备国内外现状[J].LSI制造与测试,1989,10(2):12-20.
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8王琮.硅材料加工设备国内外现状[J].电子工业专用设备,1993(4):4-11.
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9李淑琴,时贤庆.用于制作小面积隧道结的悬挂光刻胶掩模[J].低温与超导,1990,18(4):15-18.
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10谢常青,叶甜春,陈梦真.193nm与x射线光刻技术比较[J].半导体技术,1998,23(4):1-4. 被引量：2
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