直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的制备工艺探讨被引量：3

Discussion on the manufacturing technic of the direct current arc plasma jet on CVD diamond film

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摘要介绍了直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的沉积原理,探讨了在实际生产过程中获得高质量CVD金刚石膜的工艺条件. The paper introduces the principle of sediment of direct current arc plasma jet on CVD diamond film and concludes the technic condition of obtaining high quality CVD diamond film in production.

作者方向阳

机构地区宁夏机械研究院

出处《宁夏工程技术》 CAS 2002年第3期246-249,共4页 Ningxia Engineering Technology

关键词直流电弧等离子体喷射 CVD 制备工艺化学气相沉积金刚石膜人工合成沉积原理 chemical vapor deposition diamond film plasma jet

分类号 TQ164.8 [化学工程—高温制品工业]

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