大能量177.3 nm真空紫外激光研究被引量：1

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摘要真空紫外(波长短于180 nm)全固态激光(VUV-DPL)凭借其光子能量高及可满足精密化和实用化需求等优势在谱仪和光电子显微镜等领域中有广泛应用。此外,大能量VUV激光可用于超精细加工,成倍提高加工精度,也可作为大型光刻机的种子激光源。因此,为了扩大VUV-DPL的应用范围,我们研究了高脉冲能量177.3 nm VUV激光。

作者温宁宗楠张申金高宏伟薄勇彭钦军崔大复许祖彦汪楠林学春

机构地区中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光技术重点实验室中国科学院理化技术研究所固体激光重点实验室中国科学院大学中国科学院半导体研究所全固态光源实验室

出处《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第11期227-228,共2页 Chinese Journal of Lasers

关键词超精细加工全固态激光光电子显微镜光子能量高脉冲能量真空紫外光刻机 DPL

分类号 TN249 [电子电信—物理电子学] TN23 [电子电信—物理电子学]

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引证文献1

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中国激光

2022年第11期

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