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Zr基MOFs材料UiO-66-NH_(2)负载g-C_(3)N_(4)催化剂的制备及光催化性能

Preparation of Zr-based MOFs material UiO-66-NH_(2) supported g-C_(3)N_(4) catalyst and its photocatalytic property
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摘要 通过溶剂热法制备了UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4)催化剂,以甲基橙(MO)染料溶液为模拟污染物,研究可见光照射下UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4)光催化活性和循环使用稳定性。结果表明:UiO-66-NH_(2)均匀地负载在层状g-C_(3)N_(4)表面,UiO-66-NH_(2)与g-C_(3)N_(4)形成Ⅱ型异质结,抑制了光生电子-空穴的复合;当催化剂质量浓度为1.25 g/L时,其对MO的光催化降解率达到了95.6%,催化剂循环使用5次后其对MO的光催化降解率仍达到了85.2%。 UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4) catalyst is prepared by solvothermal method.The photocatalytic activity and recycling stability of UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4) under visible light irradiation are studied by using Methyl Orange(MO)as a simulated pollutant.The results show that UiO-66-NH_(2) is uniformly loaded on the surface of layered g-C_(3)N_(4),and UiO-66-NH_(2) and g-C_(3)N_(4) form type II heterojunction,which inhibits the recombination of photogenerated electrons and holes.When the catalyst dosage is 1.25 g/L,the photocatalytic degradation rate of MO reaches 95.6%.After five cycles of UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4) catalyst,the photocatalytic degradation rate of MO still reaches 85.2%.
作者 刘思乐 洪雯雯 单译 回梁川 张磊 LIU Sile;HONG Wenwen;SHAN Yi;HUI Liangchuan;ZHANG Lei(Department of Chemistry and Chemical Engineering,Shenyang Institute of Science and Technology,Shenyang 110167,China)
出处 《印染》 CAS 北大核心 2024年第3期15-19,共5页 China Dyeing and Finishing
基金 辽宁省教育厅2022年高等学校基本科研项目面上项目(LJKM20221989) 国家级大学生创新创业训练计划项目(202313621002)。
关键词 UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4) 甲基橙 光催化降解 溶剂热法 MOFS 层状多孔 UiO-66-NH_(2)/g-C_(3)N_(4) Methyl Orange photocatalytic degradation solvothermal method MOFs layered porous
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