高速发展的光学光刻技术

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摘要光学光刻设备日益精进,相关技术不断革新,使光学曝光技术继续主宰九十年代的光刻设备市场。新颖的光学光刻设备仍将在进入本世纪末0.15微米1GDRAM极大规模时代扮演主要角色。本文将对光学微细技术不同发展阶段的主要技术进步和设备概况作以介绍,并对光学光刻设备的市场和今后的发展趋势作了分析。

作者张世恩童志义

机构地区机电部第四十五所

出处《电子工业专用设备》 1992年第4期7-18,6,共13页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光学光刻移相曝光准分子光刻

电子工业专用设备

1992年第4期

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