摘要
在（100）硅片上进行各向异性腐蚀时，能暴露垂直的{100}面、倾角为45°的{110}面和倾角54°的{111}面，{111}面是沿着<100>方向形成的，{100}和{110}面是沿着<100>方向形成的。用纯KOH水溶液和KOH+IPA（异丙醇）混合水溶液在（100）硅片上沿<100>方向腐蚀所暴露的平面是不同的，使用纯KOH水溶液总是能暴露与衬底垂直的{100}面，在使用KOH+IPA混合溶液时，当KOH的浓度较低的，暴露与裤底倾角是45℃的{110}面，当KOH溶度高于50％时，暴露出光滑且与衬底垂直的{100}面。根据这一结论，使用KOH浓度高于50％的KOH+IPA混合水溶液，在（100）硅片上沿着<100>方向制作出微反射镜，微镜的表面粗糙度低于100nm。
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期151-154,共4页
Acta Photonica Sinica
