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SOI技术的新进展 被引量:9

New progress in SOI technology
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摘要 综述了SOI技术的发展历程,SOI的主流技术,SOI技术发展的新动向,SOI技术的应用进展,并介绍了上海微系统与信息技术研究所和上海新傲科技有限公司的SOI研发和产业化情况。 This subject is a review of new progress of silicon on insulator (SOI)technology. The development history, the main SOI technologies, the new fabrication meth-ods and their applications are discussed. The status of R&D on SOI technology in ShanghaiInstitute of Microsystem and Information Technology and Shanghai Simgui Technology Co.Ltd are reported.
作者 林成鲁
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第9期39-43,共5页 Semiconductor Technology
关键词 SOI技术 绝缘层上硅 离子注入 注氧隔离 薄层转移 硅集成电路 silicon-on-insulator ion implantation separation by implanted O+ layertransfer
  • 相关文献

参考文献8

  • 1林成鲁,张苗.SOI—二十一世纪的微电子技术[J].功能材料与器件学报,1999,5(1):1-7. 被引量:12
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二级参考文献11

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共引文献11

同被引文献40

引证文献9

二级引证文献2

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