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化学镀工艺在微电子材料中的研究和应用 被引量:11

Study and application of electroless plating process in micro-electronic materials
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摘要 简要综述了化学镀工艺在微电子材料中的应用,讨论了影响化学镀镍、铜、锡、钴和贵金属等的主要因素,阐述了化学镀微电子材料的特性、存在问题及研究动态。 The applications of the process of electroless plating in micro-electronic materials are briefly reviewed in this paper.Also,the effects of several main electroless platings of nickel,copper,tin,cobalt and noble metals are discussed.Properties of the electroless plating in micro-electronic materials as well as the research and development tendency are then clarified.
出处 《微纳电子技术》 CAS 2003年第5期23-27,共5页 Micronanoelectronic Technology
基金 上海市纳米科技专项基金资助课题(No.0252nm012)
关键词 化学镀工艺 微电子材料 表面技术 化学镀镍 电磁屏蔽 electroless plating process micro-electronic material surface technique
  • 相关文献

参考文献5

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共引文献4

同被引文献139

引证文献11

二级引证文献70

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