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硅烷的分析 被引量:4
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作者 尹恩华 杨雪珍 +1 位作者 于凤来 郎文卉 《低温与特气》 CAS 1985年第1期67-74,共8页
在大规模集成电路和非晶硅研制中,常常要对硅烷的纯度及其组分进行分析。有关硅烷分析的文章国内、外公开报道的不多。现有文献以苏联的居多,其次是日本和美国。1975年B.T.Peзчиков等报道了用光谱法测定硅烷中的总碳。
关键词 硅烷 大规模集成电路 B.T. 非晶硅 光谱法 PE
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三氯化磷中碳化物的色谱分析
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作者 于凤来 尹恩华 +1 位作者 陆大成 汪度 《低温与特气》 CAS 1985年第3期44-46,共3页
一、问题的提出 InP用于外延工艺中,发现在温度高于500℃区域内,有黑色膜或黑斑点淀积在石英反应管壁上,甚至在衬底支架上。这种现象可能是高温下三氯化磷中碳化物的热分解所造成的。由此提出分析外延试剂的杂质成分问题。试图从中... 一、问题的提出 InP用于外延工艺中,发现在温度高于500℃区域内,有黑色膜或黑斑点淀积在石英反应管壁上,甚至在衬底支架上。这种现象可能是高温下三氯化磷中碳化物的热分解所造成的。由此提出分析外延试剂的杂质成分问题。试图从中找出沾污的原因及解决污染的办法。 展开更多
关键词 碳化物 色谱分析 热分解 外延 三氯化磷
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几种特气在半导体工艺中的应用
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作者 于凤来 《低温与特气》 CAS 1985年第3期42-44,共3页
在半导体工艺中,如低压化学气相沉积法(LCVD)制备多晶硅和氮化硅薄膜,以及等离子刻蚀等工艺,都要使用特种气体。有些特种气体我国已有生产,如氨气、氯化氢。有些特种气体在半导体工艺中很有用途,但到目前为止,还没有生产单位,... 在半导体工艺中,如低压化学气相沉积法(LCVD)制备多晶硅和氮化硅薄膜,以及等离子刻蚀等工艺,都要使用特种气体。有些特种气体我国已有生产,如氨气、氯化氢。有些特种气体在半导体工艺中很有用途,但到目前为止,还没有生产单位,或质量没有过关。现介绍我所在半导体工艺中需用的几种特种气体。 展开更多
关键词 半导体工艺 特种气体 应用 等离子刻蚀 低压化学气相沉积法 三氟甲烷 乙硅烷
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数学理解水平的划分 被引量:21
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作者 李春雷 于凤来 《数学教育学报》 CSSCI 北大核心 2022年第4期68-73,97,共7页
基于经典的数学理解内涵的阐释以及已有各家理解水平的划分,将学生数学理解划分为工具性理解、关系性理解、创造性理解、文化性理解4个水平,并以均值不等式为典型案例,详细解读学生各数学理解水平的内涵和表现形态.工具性理解水平的价... 基于经典的数学理解内涵的阐释以及已有各家理解水平的划分,将学生数学理解划分为工具性理解、关系性理解、创造性理解、文化性理解4个水平,并以均值不等式为典型案例,详细解读学生各数学理解水平的内涵和表现形态.工具性理解水平的价值不能忽视.学生个体数学理解水平是发展变化的,学生间的数学理解水平是有差异的.在力所能及的范围内,鼓励学生追根问底式地深层次学习,达到“关系理解”的水平;鼓励学生对知识进行自我建构,达到“创造性”理解水平;鼓励学生在历史文化、审美情趣、人文关怀中进行熏陶,达到“文化性理解”的水平. 展开更多
关键词 数学理解 工具性理解 关系性理解 创造性理解 文化性理解
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DX—1型天然电场选频仪在金属找矿中的初步应用
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作者 于凤来 《河南有色金属地质》 1990年第1期61-66,共6页
关键词 金属矿 找矿 电场 选频仪 DX-1型
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DX—1型选频仪资料处理方法
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作者 于凤来 《河南有色金属地质》 1992年第2期60-64,共5页
关键词 选频仪 DX-1型 资料 处理
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三烷基镓的纯化 被引量:1
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作者 J.B.Mullin 于凤来 《低温与特气》 CAS 1986年第3期34-37,共4页
一种制备较纯三烷基镓(例如三甲基镓)化合物的方法包括以下几步:1.用分子式为R_1R_2O,沸点至少高于三烷基镓化合物沸点50℃的醚,与三烷基镓生成三烷基镓的加合物;2.在低于该加合物分解温度的温度下,用抽空或蒸馏方法除去挥发性杂质;3.... 一种制备较纯三烷基镓(例如三甲基镓)化合物的方法包括以下几步:1.用分子式为R_1R_2O,沸点至少高于三烷基镓化合物沸点50℃的醚,与三烷基镓生成三烷基镓的加合物;2.在低于该加合物分解温度的温度下,用抽空或蒸馏方法除去挥发性杂质;3.将加合物加热使之解离,生成三烷基镓蒸气,再将该蒸气分馏,分离出三烷基镓化合物。 展开更多
关键词 三烷基镓 纯化 加合物 解离
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河南洛宁金矿区构造控矿规律研究
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作者 王志光 于凤来 《河南有色金属地质》 1992年第1期11-22,共12页
关键词 金矿 地质构造 控矿规律
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