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反应溅射状态跃变过程 被引量：1
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作者 朱圣龙 王福会 吴维怠 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期547-548,共2页
分析了金属溅射区与氧化物溅射区之间的跃变时的参数变化，说明膜中金属对反应气体的捕获效应和真空室氧分压对靶氧化物形成速率的影响导致了反应溅射状态跃变。
关键词 反应溅射 状态跃变过程 薄膜技术 金属 靶面
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