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硅腐蚀液中加入醋酸作用机理的研究
被引量:
1
1
作者
张前玉
何培之
朱长纯
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第5期35-38,46,共5页
本文用实验证实了化学反应计量比的HNO_3—HF腐蚀液可用作硅器件的深槽腐蚀,而在此腐蚀液中加入醋酸,用于硅器件的浅槽腐蚀比用HNO_3—HF—NH_4F体系的效果更好,并对醋酸在腐蚀液中的作用机理提出了新的见解。
关键词
硅
硅器件
腐蚀液
醋酸
反应机理
下载PDF
职称材料
用两步化学腐蚀法研制大功率达林顿管
2
作者
朱长纯
张前玉
+3 位作者
成勃
吴鑫奎
权孝纯
韩占元
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第5期39-45,共7页
本文报告了研制MJ11033(β>1000,I_C=50A)达林顿晶体管的设计原则、主要制造工艺,提出了制造大阻值内偏电阻R_1的Al—SiO_2双层抗蚀膜两步化学腐蚀法,比较了台面结构与平面结构的单片大功率达林顿晶体管的制造工艺,证明了前者优于后者。
关键词
晶体管
大功率
化学腐蚀
两步法
下载PDF
职称材料
题名
硅腐蚀液中加入醋酸作用机理的研究
被引量:
1
1
作者
张前玉
何培之
朱长纯
机构
西安交通大学化学与化学工程系
西安交通大学电子工程系
出处
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第5期35-38,46,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文用实验证实了化学反应计量比的HNO_3—HF腐蚀液可用作硅器件的深槽腐蚀,而在此腐蚀液中加入醋酸,用于硅器件的浅槽腐蚀比用HNO_3—HF—NH_4F体系的效果更好,并对醋酸在腐蚀液中的作用机理提出了新的见解。
关键词
硅
硅器件
腐蚀液
醋酸
反应机理
Keywords
silicon
etching
reaction mechanism
acetic acid
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
用两步化学腐蚀法研制大功率达林顿管
2
作者
朱长纯
张前玉
成勃
吴鑫奎
权孝纯
韩占元
机构
西安交通大学
抚顺国营八二三一厂
出处
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第5期39-45,共7页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文报告了研制MJ11033(β>1000,I_C=50A)达林顿晶体管的设计原则、主要制造工艺,提出了制造大阻值内偏电阻R_1的Al—SiO_2双层抗蚀膜两步化学腐蚀法,比较了台面结构与平面结构的单片大功率达林顿晶体管的制造工艺,证明了前者优于后者。
关键词
晶体管
大功率
化学腐蚀
两步法
Keywords
high power
transistor
chemical etching
two-step process
分类号
TN305.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅腐蚀液中加入醋酸作用机理的研究
张前玉
何培之
朱长纯
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
1
下载PDF
职称材料
2
用两步化学腐蚀法研制大功率达林顿管
朱长纯
张前玉
成勃
吴鑫奎
权孝纯
韩占元
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
0
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职称材料
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