舌侧活动翼不同翼拉伸长度内收下前牙的生物力学特征 被引量：2

1

作者 张国瑞 张坤武 +4 位作者 陈文远锋 刘一宁 李都红 张新竺 曹宝成 《中国组织工程研究》 CAS 北大核心 2024年第2期247-251,共5页

背景:舌侧活动翼矫治技术是一种新型舌侧矫治技术,不同翼的拉伸长度影响前牙转矩控制效果,目前尚无相关的生物力学研究。目的:探讨舌侧活动翼矫治技术内收下前牙时牙列的位移趋势以及不同翼拉伸长度对下颌前牙生物力学效应的影响。方法... 背景:舌侧活动翼矫治技术是一种新型舌侧矫治技术,不同翼的拉伸长度影响前牙转矩控制效果,目前尚无相关的生物力学研究。目的:探讨舌侧活动翼矫治技术内收下前牙时牙列的位移趋势以及不同翼拉伸长度对下颌前牙生物力学效应的影响。方法:利用锥形束CT采集患者下颌骨以及下牙列数据信息,通过Mimics软件进行三维重建,建立舌侧活动翼内收下前牙的三维有限元模型。在ANSYS软件中分别分析工况A(2 mm拉伸长度)、工况B(2.5 mm拉伸长度)、工况C(3 mm拉伸长度)和工况D(3.5 mm拉伸长度)时下颌前牙的初始位移。结果与结论:①下牙列初始位移趋势:中切牙舌向倾斜移动伴有压低,侧切牙、尖牙轻度舌侧移动伴近中舌向扭转,第二前磨牙远中倾斜并伴有明显舌倾,第一磨牙整体表现为近中倾斜并伴有近中牙冠外翻。因此在下颌拔牙内收病例中,对第二前磨牙的舌向移动应给予重视,临床中可以通过相应的技术予以抵消。②前牙各方向位移趋势:从工况A到工况D,矢状方向:中切牙冠根位移差值由-11.891μm变为-5.7574μm,表示中切牙由倾斜移动向整体移动转变;侧切牙冠根位移差值由-11.8281μm变为-6.71145μm,尖牙冠根位移差值由-7.5723μm变为-4.6955μm,表示侧切牙及尖牙的倾斜移动也在向整体移动转变。垂直方向:从工况A到工况D,切牙的压低量逐渐增大,尖牙的压低量逐渐减小。结果表明,翼的拉伸长度会影响前牙的倾斜移动趋势;随着翼的不断拉伸,下前牙的转矩控制效果越好。 展开更多

关键词 舌侧活动翼矫治技术 三维有限元 生物力学 下前牙 转矩 位移趋势 传统舌侧技术 内收

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用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究 被引量：16

2

作者 曹宝成 于新好 +2 位作者 马瑾 马洪磊 刘忠立 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1226-1229,共4页

目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是 RCA清洗技术 .文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术 .并利用 X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法 ,分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面 .测试结果表... 目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是 RCA清洗技术 .文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术 .并利用 X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法 ,分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面 .测试结果表明 ,它们的去污效果基本相当 .但对硅片表面的粗糙化影响方面 ,新型半导体清洗技术优于标准 RCA清洗技术 . 展开更多

关键词 表面清洗 表面活性剂 螯合剂 清洗液 硅片

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新型半导体清洗剂的清洗工艺 被引量：6

3

作者 曹宝成 于新好 马洪磊 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期777-781,共5页

报道了利用红外吸收谱、X射线光电子谱和表面张力测试仪对新型半导体清洗工艺进行研究的结果 .采用DGQ系列清洗剂清洗硅片时 ,首先需用HF稀溶液浸泡硅片 ,以利于将包埋于氧化层内的金属和有机污染物去除 ;溶液的配比浓度由临界胶束浓度... 报道了利用红外吸收谱、X射线光电子谱和表面张力测试仪对新型半导体清洗工艺进行研究的结果 .采用DGQ系列清洗剂清洗硅片时 ,首先需用HF稀溶液浸泡硅片 ,以利于将包埋于氧化层内的金属和有机污染物去除 ;溶液的配比浓度由临界胶束浓度和硅片表面的污染程度确定 ,要确保清洗过程中溶液内部有足够的胶束存在 ,一般DGQ 1、DGQ 2的配比浓度在 90 %到 98%之间 ;当温度接近表面活性剂溶液的浊点温度时 ,增溶能力最强 ,因而清洗液的温度定在 6 0℃ . 展开更多

关键词 半导体 清洗剂 清洗工艺 红外吸收谱 X射线光电子谱

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氢氟酸在新型清洗工艺中的作用 被引量：5

4

作者 曹宝成 于新好 +1 位作者 马洪磊 张庆坤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第7期23-25,共3页

介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧... 介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧化硅的吸收。 展开更多

关键词 硅片清洗 氢氟酸 润湿性 二氧化硅吸收

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清洗后硅片表面的电子结构 被引量：4

5

作者 曹宝成 于新好 +2 位作者 马谨 马洪磊 刘忠立 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期496-499,共4页

介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等 ,把它和标准 RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明 ,经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成 ,它... 介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等 ,把它和标准 RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明 ,经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成 ,它们分别以 Si-O键、C-O键和 Si-C键的形式存在。两种清洗技术都在硅片表面产生氧化硅层 ,在硅片表面都存在有机碳污染 ,但新型半导体清洗工艺产生的有机碳污染少于标准 RCA清洗。在对硅片表面的粗糙化影响方面 ,新型半导体清洗技术清洗明显优于标准 展开更多

关键词 表面清洗 红外吸收谱 X射线光电子谱 原子力显微镜

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掺氮TiO_2修饰自凝基托树脂的抗菌性能研究 被引量：3

6

作者 曹宝成 张旭 +2 位作者 王育华 高静 刘斌 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期119-123,共5页

研究自凝基托树脂经TiO2-xNy修饰后的体外抗菌性能。采用溶剂热法成功制备TiO2-xNy纳米粉,通过多功能电子能谱仪、激光动态散射仪、X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计对粉末的掺氮量、颗粒大小、结构及光催化活性进行检测。在自凝基托... 研究自凝基托树脂经TiO2-xNy修饰后的体外抗菌性能。采用溶剂热法成功制备TiO2-xNy纳米粉,通过多功能电子能谱仪、激光动态散射仪、X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计对粉末的掺氮量、颗粒大小、结构及光催化活性进行检测。在自凝基托树脂粉中分别加入3%、5%、7%和10%不同比例的TiO2-xNy纳米粉和TiO2商用粉,制备成直径为10mm、厚度为1mm的树脂试样,采用抑菌圈实验法测试添加不同浓度的两种粉末后,基托树脂对变形链球菌和白色念珠菌的抗菌性能。结果表明,TiO2-xNy纳米粉为锐钛矿结构,具有可见光光催化活性。在可见光照条件下,TiO2-xNy基托树脂的抗菌性明显优于TiO2基托树脂,且随着TiO2-xNy纳米粉浓度的增加,抑菌性也随之增强。 展开更多

关键词 自凝基托树脂 TiO2-xNy纳米粉 抗菌性能

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新型电子工业清洗工艺研究 被引量：1

7

作者 曹宝成 马洪磊 +1 位作者 宗福建 李玉香 《山东电子》 1998年第4期26-27,共2页

本文报告了一种新型电子工业清洗工艺。用该工艺清洗过的硅片上的钠残留量低于常规ｃｍｏｓ／ｓｏｓ栅氧化工艺，去重金属离子的能力及对器件参数的影响与常规ｃｍｏｓ／ｓｏｓ栅氧化工艺相当。新型清洗工艺具有操作简单，价格低廉等优... 本文报告了一种新型电子工业清洗工艺。用该工艺清洗过的硅片上的钠残留量低于常规ｃｍｏｓ／ｓｏｓ栅氧化工艺，去重金属离子的能力及对器件参数的影响与常规ｃｍｏｓ／ｓｏｓ栅氧化工艺相当。新型清洗工艺具有操作简单，价格低廉等优点，无毒，无腐蚀性，对人体无危害，对环境无污染。 展开更多

关键词 清洗工艺 半导体 硅片 栅氧化工艺

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Ⅱ-Ⅵ族化合物(Hg_(1-x)Cd_xTe)非晶薄膜的半导体性质

8

作者 曹宝成 刘明 戴国才 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第7期527-532,共6页

本文对用蒸发法制备的非晶和多晶碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe)薄膜的结构特性及其光学和电学性质进行了研究。在800—2600nm的波长范围内测量了样品的透过率,得到了非晶和多晶状态相应的光学隙分别为1eV以上和0.65eV左右。对非晶样品的退火... 本文对用蒸发法制备的非晶和多晶碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe)薄膜的结构特性及其光学和电学性质进行了研究。在800—2600nm的波长范围内测量了样品的透过率,得到了非晶和多晶状态相应的光学隙分别为1eV以上和0.65eV左右。对非晶样品的退火实验发现,在90—100℃区间退火使非晶样品的结构转变为多晶,同时电阻率突然变小约5个数量级和光学隙由1eV以上突变为0.62eV左右。在20—300K的温度范围内,分别测量了非晶与多晶样品的电阻率,所得结果可用现代非晶半导体理论进行解释。 展开更多

关键词 HGCDTE 非晶薄膜 光电性质

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前方牵引器矫治骨性Ⅲ类错

9

作者 曹宝成 郑艳 +1 位作者 王静 潘晓婧 《兰州医学院学报》 2003年第1期68-69,共2页

关键词 前方牵引器 矫治 骨性Ⅲ类错He 治疗

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固定矫治托槽周围釉质脱矿的临床调查 被引量：10

10

作者 张颖杰 曹宝成 +3 位作者 李淼 焦鑫 王婧 王璞 《中国组织工程研究》 CAS CSCD 2012年第29期5481-5484,共4页

背景:托槽周围釉质脱矿是固定矫治常见并发症之一,青少年和成人固定矫治后牙釉质脱矿的发病特点尚未见报道。目的:调查青少年和成人固定矫治后托槽周围牙釉质脱矿的发病情况。方法:随机选取2005-01/2009-07在兰州大学口腔医院进行正畸... 背景:托槽周围釉质脱矿是固定矫治常见并发症之一,青少年和成人固定矫治后牙釉质脱矿的发病特点尚未见报道。目的:调查青少年和成人固定矫治后托槽周围牙釉质脱矿的发病情况。方法:随机选取2005-01/2009-07在兰州大学口腔医院进行正畸固定矫治的恒牙列患者140例3179颗牙齿,包括青少年78例和成人62例,记录固定矫治前后牙齿唇颊面釉质脱矿的发病情况,进行统计学分析。结果与结论:①固定矫治中有122例发生釉质脱矿,发病率为87.14%,青少年发病率高于成人,差异有显著性意义(P<0.05)。②固定矫治中发生釉质脱矿536颗牙齿,发病率为16.86%。青少年组观察牙齿1784颗,发生釉质脱矿320颗,发病率为17.94%。成人组观察牙齿1395颗,发生釉质脱矿216颗,发病率为15.48%。③青少年组和成人组上颌牙齿的发病率均大于下颌,差异有显著性意义(P<0.05)。固定矫治后牙釉质脱矿好发于上颌切牙。由此可见,正畸固定矫治中托槽周围釉质脱矿发病率较高,临床上应采取一定措施进行防治。 展开更多

关键词 固定矫治 托槽 牙釉质 脱矿 纵向研究

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掺氮TiO_(2-x)N_x薄膜托槽的制备及其性能研究 被引量：4

11

作者 李娜 曹宝成 +2 位作者 王育华 刘斌 张颖杰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B11期835-838,共4页

利用射频磁控溅射制备了氮掺杂TiO2-xNx薄膜托槽,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等测试手段表征了托槽表面薄膜的结构、形貌,并通过原子力显微镜(AFM)、多功能材料表面试验仪等研究了TiO2-xNx薄膜与基底托槽的附着力、TiO2-xNx薄膜... 利用射频磁控溅射制备了氮掺杂TiO2-xNx薄膜托槽,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等测试手段表征了托槽表面薄膜的结构、形貌,并通过原子力显微镜(AFM)、多功能材料表面试验仪等研究了TiO2-xNx薄膜与基底托槽的附着力、TiO2-xNx薄膜托槽的表面粗糙度以及表面摩擦系数。结果表明制备的托槽表面为均一的锐钛矿相结构TiO2-xNx薄膜,晶粒粒径为30nm,纳米TiO2-xNx薄膜托槽表面致密、平整,薄膜与托槽衬底结合紧密、附着性好,托槽表面粗糙度降低,摩擦系数变小,改善了托槽表面性能,为抗菌性研究奠定了基础。 展开更多

关键词 托槽 TiO2-xNx薄膜 附着力 表面粗糙度 摩擦力

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纳米TiO_(2-x)N_x薄膜的制备及抗菌性能分析 被引量：7

12

作者 李娜 曹宝成 +1 位作者 王育华 刘斌 《南方医科大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第7期952-955,共4页

目的利用TiO2的抗菌特性,开发一种能够应用于口腔的无机抗菌材料。方法采用射频磁控溅射法在医用不锈钢表面制备TiO2-xNx薄膜,用XRD、SEM、EDS等测试手段表征薄膜的结构、形貌、组成,并通过覆膜法利用口腔常见致病菌考察TiO2-xNx薄膜的... 目的利用TiO2的抗菌特性,开发一种能够应用于口腔的无机抗菌材料。方法采用射频磁控溅射法在医用不锈钢表面制备TiO2-xNx薄膜,用XRD、SEM、EDS等测试手段表征薄膜的结构、形貌、组成,并通过覆膜法利用口腔常见致病菌考察TiO2-xNx薄膜的抗菌性能。结果纳米TiO2-xNx抗菌薄膜为锐钛矿相结构,氮元素质量比为0.13%,表面结构均匀致密,对变形链球菌、粘性放线菌及白色念珠菌的抗菌率分别为97.79%、49.42%和96.84%。结论纳米TiO2-xNx抗菌薄膜对口腔常见致病菌具有较强的抗菌效果,可作为一种新型抗菌剂应用于口腔临床。 展开更多

关键词 纳米掺氮二氧化钛 薄膜 抗菌

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淫羊藿苷可抑制正畸致牙根的吸收 被引量：5

13

作者 周艳妮 曹宝成 +1 位作者 蒋小龙 曹帅 《中国组织工程研究》 CAS CSCD 2013年第28期5171-5176,共6页

背景:淫羊藿的主要成分之一淫羊藿苷对破骨细胞有抑制作用。目的:进一步验证淫羊藿苷对大鼠上颌第1磨牙近中根已形成的牙根吸收的影响。方法:建立大鼠左侧上颌正畸致牙根吸收模型,分别在左侧第1磨牙的颊侧骨膜上局部分别注射200mg/kg的... 背景:淫羊藿的主要成分之一淫羊藿苷对破骨细胞有抑制作用。目的:进一步验证淫羊藿苷对大鼠上颌第1磨牙近中根已形成的牙根吸收的影响。方法:建立大鼠左侧上颌正畸致牙根吸收模型,分别在左侧第1磨牙的颊侧骨膜上局部分别注射200mg/kg的淫羊藿苷(淫羊藿苷组)或生理盐水(阳性对照组),所有大鼠的右侧上颌为阴性对照组,即不放置矫治器也不注射药物。测量安放矫治器前后双侧第1磨牙近中面到对侧上颌切牙远中面的距离,用扫描电镜观察拔除后双侧上颌第1磨牙的近中根的近中面。结果与结论:淫羊藿苷组大鼠上颌磨牙向近中移动量明显少于阳性对照组(P<0.05)。扫描电镜观察显示:淫羊藿苷组为散在小的吸收陷窝,阳性对照组牙根表面出现大量较大的吸收陷窝,并相互连成片状,与阴性对照组的光滑牙根面形成鲜明对比。说明淫羊藿苷可以抑制正畸致牙根吸收的发生,同时也减少了矫治力作用下磨牙的移动量。 展开更多

关键词 组织构建 口腔组织构建 淫羊藿 淫羊藿苷 正畸致牙根吸收 正畸 牙根吸收 上颌 矫治器 扫描电镜 移动量 第1磨牙

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超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展 被引量：3

14

作者 张树永 郭永榔 +1 位作者 曹宝成 于新好 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 2000年第1期103-107,共5页

本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状，并对技术的未来发展进行了展望。

关键词 VLSI 集成电路 硅片 溶液清洗技术 清洁度

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掺氮TiO_(2-x)N_x薄膜托槽生物相容性的实验研究 被引量：3

15

作者 张颖杰 曹宝成 +3 位作者 王育华 王璞 张旭 李娜 《第三军医大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第16期1630-1635,共6页

目的制备掺氮TiO2-xNx薄膜托槽并评价薄膜托槽的生物相容性。方法采用射频磁控溅射法在直丝弓金属托槽原材料试样表面制备锐钛矿相掺氮TiO2-xNx薄膜:①将薄膜材料(薄膜托槽组)和普通托槽材料(普通托槽组)分别缝合于大鼠颊黏膜2侧,2周后... 目的制备掺氮TiO2-xNx薄膜托槽并评价薄膜托槽的生物相容性。方法采用射频磁控溅射法在直丝弓金属托槽原材料试样表面制备锐钛矿相掺氮TiO2-xNx薄膜:①将薄膜材料(薄膜托槽组)和普通托槽材料(普通托槽组)分别缝合于大鼠颊黏膜2侧,2周后肉眼观察和组织学评价薄膜的口腔黏膜刺激性;②分别用薄膜材料(薄膜托槽组)、普通托槽材料(普通托槽组)浸提液和生理盐水(生理盐水组)给小鼠灌胃1周,观察小鼠的临床毒性体征、体质量增长率和重要脏器组织学变化以评价薄膜材料的短期全身毒性作用;③薄膜材料对兔血的溶血实验评价材料的溶血性;④分组同②,各组小鼠在24 h内给予对应液灌胃2次,制备小鼠骨髓涂片评价薄膜材料可能的致畸致突变作用。结果大鼠饮食、活动如常,薄膜托槽组的口腔黏膜与普通托槽组组织学表现一致,表明薄膜托槽无明显口腔黏膜刺激作用;短期全身毒性实验中,3组小鼠体质量增长率差异无统计学意义(P>0.05),所有动物未观察到明显的临床毒性体征,病理解剖也未观察到明显异常,表明薄膜托槽无明显短期全身毒性作用;溶血实验中,薄膜托槽组溶血率<5%,未发现红细胞破象,表明薄膜试样不引起急性溶血;微核实验中生理盐水组、薄膜托槽组和普通托槽组的微核率分别为1.48‰、2.08‰和2.16‰,均低于5‰,且两两之间差异无统计学意义(P>0.05)。结论掺氮TiO2-xNx薄膜托槽无口腔黏膜刺激性、无短期全身毒性、无溶血性以及无遗传毒性,具有良好的生物相容性。 展开更多

关键词 掺氮TiO2-xNx薄膜 MBT直丝弓金属托槽 生物相容性

原文传递

固定矫治器对青少年口腔念珠菌菌群的影响 被引量：3

16

作者 郑艳 栗震亚 +1 位作者 何祥一 曹宝成 《实用口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期401-405,共5页

目的:探索健康青少年戴用正畸固定矫治器前后口腔念珠菌菌群的变化规律。方法:采用病例自身对照的方法,对研究对象在固定矫治前后的口腔念珠菌菌群进行检测,纵向研究固定矫治器对念珠菌菌群变化的影响。结果:戴固定矫治器后2个月青少年... 目的:探索健康青少年戴用正畸固定矫治器前后口腔念珠菌菌群的变化规律。方法:采用病例自身对照的方法,对研究对象在固定矫治前后的口腔念珠菌菌群进行检测,纵向研究固定矫治器对念珠菌菌群变化的影响。结果:戴固定矫治器后2个月青少年口腔念珠菌混合带菌者比例、总菌落数量有明显增加,念珠菌种类也有明显变化。结论:固定矫治器可引起青少年口腔念珠菌菌群的变化。 展开更多

关键词 固定矫治器 口腔念珠菌 青少年

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制备TiO_2-xNx薄膜陶瓷托槽的抗菌性能 被引量：2

17

作者 王建卫 王宇 +2 位作者 车远倩 朱博武 曹宝成 《中国组织工程研究》 CAS 北大核心 2016年第34期5039-5044,共6页

背景:正畸固定矫治中牙釉质脱矿发生率较高,因此探寻一种降低正畸固定矫治中釉质脱矿率的有效方法是众多学者一直的努力。目的:在陶瓷托槽表面制备不同厚度的TiO 2-xN x薄膜,检测其抗菌性能。方法:通过溶胶-凝胶浸渍法在陶瓷托槽表面制... 背景:正畸固定矫治中牙釉质脱矿发生率较高,因此探寻一种降低正畸固定矫治中釉质脱矿率的有效方法是众多学者一直的努力。目的:在陶瓷托槽表面制备不同厚度的TiO 2-xN x薄膜,检测其抗菌性能。方法:通过溶胶-凝胶浸渍法在陶瓷托槽表面制备不同厚度的TiO 2-xN x薄膜,采用X射线衍射分析薄膜的晶体结构,扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,多功能材料表面试验仪检测薄膜的附着力,使用比色仪评价镀膜前后陶瓷托槽的色泽变化。通过平板菌落计数法评估TiO 2-xN x薄膜陶瓷托槽对白色念珠菌、变形链球菌的抗菌性能。结果与结论:(1)TiO 2-xN x薄膜为锐钛矿型,结构均匀致密,随着薄膜厚度的增加,X射线衍射峰表现为增强趋势;(2)厚度最高薄膜最终附着力为18.37 N,说明薄膜与托槽具有较好的附着力,可承受在口腔应用中所受到的摩擦;(3)镀膜后,厚度最高薄膜托槽的色泽均有所变化,但变化较小,不至于影响陶瓷托槽原有的美观特性;(4)TiO 2-xN x薄膜陶瓷托槽对白色念珠菌、变形链球菌均有一定的抗菌性能,且随着薄膜厚度的增加抗菌性能逐渐增强,对变形链球菌的抗菌效果更明显;(5)结果表明,TiO 2-xN x薄膜陶瓷托槽在不影响美观的同时,对常见口腔致龋菌和条件致病菌具有较高的抗菌作用,且与托槽具有较好的附着力。 展开更多

关键词 生物材料 口腔生物材料 组织工程口腔材料 溶胶凝胶-浸渍法 TiO2-xNx薄膜 陶瓷托槽 抗菌性 比色 甘肃省自然科学基金

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龈炎病人戴固定矫治器前用派力奥治疗的临床效果 被引量：2

18

作者 王雪梅 薄磊 +3 位作者 王菁 张菊梅 曹宝成 余占海 《牙体牙髓牙周病学杂志》 CAS 北大核心 2011年第11期647-649,共3页

目的:对患有牙龈炎的病人在固定矫治前使用派丽奥软膏治疗,评价其在矫治过程中的疗效。方法:选择在我院进行正畸治疗,年龄<18岁并患有牙龈炎的病人60名,首先进行龈上洁治,然后随机分为3组:派丽奥治疗组(A组),碘甘油治疗组(B组),空白... 目的:对患有牙龈炎的病人在固定矫治前使用派丽奥软膏治疗,评价其在矫治过程中的疗效。方法:选择在我院进行正畸治疗,年龄<18岁并患有牙龈炎的病人60名,首先进行龈上洁治,然后随机分为3组:派丽奥治疗组(A组),碘甘油治疗组(B组),空白对照组(C组),比较正畸治疗前以及治疗中1、3、6个月3组牙周指标(PLI,GI,GD)。结果:A组的GI、PLI、GD与B组相比,在1、3个月有显著差异(P<0.05)与C组相比,在1、3、6个月有显著差异(P<0.05)。结论:对患有牙龈炎的正畸病人在正畸前使用派丽奥治疗,正畸治疗的1～3个月内,能有效减轻牙龈炎。 展开更多

关键词 派丽奥 矫治器 牙龈炎

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局部注射淫羊藿苷对大鼠正畸致炎性牙根吸收的影响 被引量：2

19

作者 周艳妮 袁学顺 +1 位作者 岳子琪 曹宝成 《西安交通大学学报（医学版）》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期400-403,413,共5页

目的了解局部使用淫羊藿苷对正畸致炎性牙根吸收的影响。方法建立大鼠正畸牙移动模型,分别注射200mg/kg的淫羊藿苷(淫羊藿苷组)或生理盐水(阳性对照组),左侧上颌为阴性对照组。通过SEM、HE及TRAP染色,观察牙根表面的吸收陷窝,并计算吸... 目的了解局部使用淫羊藿苷对正畸致炎性牙根吸收的影响。方法建立大鼠正畸牙移动模型,分别注射200mg/kg的淫羊藿苷(淫羊藿苷组)或生理盐水(阳性对照组),左侧上颌为阴性对照组。通过SEM、HE及TRAP染色,观察牙根表面的吸收陷窝,并计算吸收陷窝率和TRAP阳性细胞数。结果淫羊藿苷组SEM吸收陷窝率和TRAP阳性细胞数明显少于阳性对照组(P<0.05);阴性对照组和阳性对照组测量值均有统计学差异(P<0.05);淫羊藿苷组和阴性对照组TRAP阳性细胞数有统计学差异(P<0.05),但SEM吸收陷窝率无统计学差异(P>0.05)。结论局部注射淫羊藿苷可降低正畸致炎性牙根吸收发生的程度。 展开更多

关键词 淫羊藿苷 正畸致炎性牙根吸收 局部注射 吸收陷窝

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精密金属零件非ODS清洗技术研究 被引量：1

20

作者 刘建强 李玉香 +3 位作者 肖洪地 刘万里 曹宝成 马洪磊 《山东大学学报（理学版）》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期69-71,共3页

由于精密金属零件表面洁净度要求很高,目前一般采用ODS溶剂清洗.介绍了一种非ODS清洗技术,并利用X射线光电子谱等测试方法,分别比较用两种清洗技术清洗过的金属零件表面,结果表明新型清洗技术优于传统ODS清洗技术.

关键词 精密金属零件 非ODS 清洗技术 X射线光电子谱

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