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计算机系统变革性研究的4个问题 被引量:3
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作者 徐志伟 李沛旭 查礼 《计算机研究与发展》 EI CSCD 北大核心 2008年第12期2011-2019,共9页
进入21世纪,计算机科学与技术领域正在面临一次深刻的变革,计算机系统子领域也不例外.指出这次变革的一个主要特征是从"人机共生"跃变到"人机物社会".这个跃变也为计算机系统的研究提出了4个带有基础性的挑战:1)重... 进入21世纪,计算机科学与技术领域正在面临一次深刻的变革,计算机系统子领域也不例外.指出这次变革的一个主要特征是从"人机共生"跃变到"人机物社会".这个跃变也为计算机系统的研究提出了4个带有基础性的挑战:1)重新审视计算和计算机系统概念,以及刻画新型负载和使用模式;2)研究新型的计算机系统度量;3)让计算机系统直接支持网络;4)发现和利用涌现现象.基于中国科学院计算技术研究所织女星网格小组和国际同行的研究工作,讨论了这4个问题,并指出这些问题还没有答案,这提供了很多研究机会. 展开更多
关键词 计算机系统 变革性研究 人机物社会 分散系统 计算度量 涌现性质
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MOCVD生长AlGaInP/InGaAsP大功率808nm无铝量子阱激光器
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作者 李沛旭 夏伟 +4 位作者 李树强 张新 汤庆敏 任忠祥 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期65-67,共3页
设计制作非对称宽波导结构无铝量子阱激光器,可降低内部损耗,实现低阈值电流、高转换效率的目的,同时也增加了最大输出功率。采用金属有机气相化学沉积(MOCVD)进行外延生长,制作了100μm条宽,1500μm腔长的808nm激光器器件,镀膜后阈值电... 设计制作非对称宽波导结构无铝量子阱激光器,可降低内部损耗,实现低阈值电流、高转换效率的目的,同时也增加了最大输出功率。采用金属有机气相化学沉积(MOCVD)进行外延生长,制作了100μm条宽,1500μm腔长的808nm激光器器件,镀膜后阈值电流230.5mA,斜率效率1.31W/A。连续电流条件下,得到最大输出功率超过8W,并且计算得到内吸收系数为1.7cm-1。 展开更多
关键词 量子阱激光器 非对称结构 金属有机化学气相外延
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808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
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作者 王翎 李沛旭 +5 位作者 房玉锁 汤庆敏 张新 夏伟 任忠祥 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第12期920-922,共3页
通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064... 通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064 nm全固态激光器中。20℃下,制作的808 nm,0.5 cm半导体激光器mini阵列,连续驱动电流50 A时输出功率达到50 W,最高光电转换效率达到53%。将该808 nm激光器mini阵列应用到全固态1 064 nm激光模组中,50 W,1 064 nm激光输出时,工作电流只有15 A。经过多于500 h老化以后,1 064 nm全固态激光器的功率衰减小于2%。 展开更多
关键词 半导体激光器mini阵列 InGaAsP/GaInP 应变量子阱 金属有机化合物化学气相淀积
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MOCVD生长GaAsP/InGa(Al)P/GaAs大功率808nm张应变量子阱激光器材料
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作者 蒋锴 李沛旭 +5 位作者 张新 李树强 夏伟 汤庆敏 胡小波 徐现刚 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期285-288,共4页
设计了808 nm高功率GaAsP/InGaAlP/GaAs半导体激光器,采用无铝张应变量子阱和非对称宽波导结构,通过优化金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长条件,提高了外延材料的生长质量,有效提升了激光器转化效率和输出功率。制作了200μm条宽、1500... 设计了808 nm高功率GaAsP/InGaAlP/GaAs半导体激光器,采用无铝张应变量子阱和非对称宽波导结构,通过优化金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长条件,提高了外延材料的生长质量,有效提升了激光器转化效率和输出功率。制作了200μm条宽、1500μm腔长的激光器器件,室温连续条件(CW)测试其阈值电流为650 mA,斜率效率高达到1.35 W/A,输出功率在11 W以上,激射波长808.5 nm@5A,水平和垂直发散角分别为8°和30°,较小的发散角有效的提高了输出光功率密度。 展开更多
关键词 量子阱激光器 张应变 非对称结构 金属有机物化学气相沉积
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非对称结构大功率940nm量子阱激光器
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作者 蒋锴 李沛旭 +3 位作者 张新 汤庆敏 夏伟 徐现刚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期110-114,共5页
为改善940 nm大功率InGaAs/GaAs半导体激光器输出特性,通过模拟计算了非对称波导层及限制层结构的光场分布,并参照模拟制作了非对称结构半导体激光器器件。采用低压金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长技术,获得了低内吸收系数的高质量外... 为改善940 nm大功率InGaAs/GaAs半导体激光器输出特性,通过模拟计算了非对称波导层及限制层结构的光场分布,并参照模拟制作了非对称结构半导体激光器器件。采用低压金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)生长技术,获得了低内吸收系数的高质量外延材料,通过实验数据计算得到激光器材料内吸收系数仅为0.44mm^(-1)。进而通过管芯工艺制作了条宽100μm、腔长2000μm的940 nm半导体激光器器件。25℃室温10 A直流连续(CW)测试镀膜后器件阈值电流251 mA,斜率效率1.22 W/A,最大输出功率达到9.6 W,最大光电转化效率超过70%。 展开更多
关键词 量子阱激光器 大功率 非对称结构 INGAAS/GAAS 金属有机物化学气相沉积
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烧结温度对AuSn焊料薄膜及封装激光器性能的影响 被引量:4
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作者 杨扬 孙素娟 +2 位作者 李沛旭 夏伟 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第11期840-845,共6页
采用不同温度对Au80Sn20共晶合金焊料进行烧结实验,研究了Au Sn焊料薄膜在烧结后的形貌、物相组成以及对封装激光器的性能影响等。焊料在烧结后形成ζ相Au5Sn和δ相Au Sn两种金属间化合物,随着烧结温度的上升,两相晶粒均明显长大,而ζ相... 采用不同温度对Au80Sn20共晶合金焊料进行烧结实验,研究了Au Sn焊料薄膜在烧结后的形貌、物相组成以及对封装激光器的性能影响等。焊料在烧结后形成ζ相Au5Sn和δ相Au Sn两种金属间化合物,随着烧结温度的上升,两相晶粒均明显长大,而ζ相Au5Sn趋向于形成枝晶。较低温度下烧结的焊料表面粗糙度较高,不利于激光器管芯的贴装。高温过烧焊料薄膜的导电导热性能有少许提升,对封装激光器管芯的功率没有明显影响,但焊料薄膜中残余应力较高,使激射波长有所蓝移。该结果将为Au Sn焊料的烧结参数优化和硬焊料封装激光器的性能分析提供参考和指导。 展开更多
关键词 激光器 金锡焊料 烧结 温度 金属间化合物
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大功率660nm半导体激光器的电流电压特性
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作者 朱振 李沛旭 +2 位作者 张新 王钢 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期661-665,共5页
利用Zn扩散形成非吸收窗口技术,制备了大功率红光660 nm半导体激光器。对封装后的器件进行电流电压(I-V)特性测试。由于材料本身串联电阻的影响,半导体激光器的I-V曲线不再符合理想二极管I-V特性方程。通过数据拟合,得到半导体激光器的... 利用Zn扩散形成非吸收窗口技术,制备了大功率红光660 nm半导体激光器。对封装后的器件进行电流电压(I-V)特性测试。由于材料本身串联电阻的影响,半导体激光器的I-V曲线不再符合理想二极管I-V特性方程。通过数据拟合,得到半导体激光器的串联电阻约为0.5Ω。测试中还发现了两种异常I-V曲线,分别源于器件并联电阻及寄生二极管的影响。对每种I-V曲线建立了电路模型,并推导了I-V特性方程。分析认为制作过程中的金属工艺、烧结工艺和Zn扩散工艺等都会影响半导体激光器的电流分布及I-V特性。I-V特性测试可以用于半导体激光器的工艺监控与失效分析等。 展开更多
关键词 半导体激光器 ZN扩散 电流电压特性 理想二极管 寄生效应
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Development of Surface Grating Distributed Feedback Quantum Cascade Laser for High Output Power and Low Threshold Current Density
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作者 刘颖慧 张锦川 +3 位作者 江建民 孙素娟 李沛旭 刘峰奇 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第2期60-62,共3页
We report on the room-temperature cascade laser (QCL) at λ -4.7μm. cw operation of a surface grating Both grating design and material distributed feedback (DFB) quantum optimization are used to decrease the thre... We report on the room-temperature cascade laser (QCL) at λ -4.7μm. cw operation of a surface grating Both grating design and material distributed feedback (DFB) quantum optimization are used to decrease the threshold current density and to increase the output power. For a high-reflectivity-coated 13-μm-wide and 4- mm-long laser, high wall-plug efficiency of 6% is obtained at 20℃ from a single facet producing over I W of ew output power. The threshold current density of DFB QCL is as low as 1.13kA/cm^2 at 10℃ and 1.34kA/cm2 at 30℃ in cw mode. Stable single-mode emission with a side-mode suppression ratio of about 30 dB is observed in tile working temperature range of 20-50℃. 展开更多
关键词 DFB QCL Development of Surface Grating Distributed Feedback Quantum Cascade Laser for High Output Power and Low Threshold Current Density
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76%光电转换效率梯度渐变折射率结构940nm半导体激光器(英文) 被引量:6
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作者 蒋锴 李沛旭 +5 位作者 沈燕 张新 汤庆敏 任忠祥 胡小波 徐现刚 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期12-15,共4页
为改善宽面940nm半导体激光二极管(LD)的输出功率及光电转换效率(WPE),设计并制作了一种包含梯度渐变折射率(GRIN)结构的新型量子阱激光器。通过二维自洽软件模拟计算了新结构激光器与传统分别限制结构(SCH)激光器的能带结构,结果表明... 为改善宽面940nm半导体激光二极管(LD)的输出功率及光电转换效率(WPE),设计并制作了一种包含梯度渐变折射率(GRIN)结构的新型量子阱激光器。通过二维自洽软件模拟计算了新结构激光器与传统分别限制结构(SCH)激光器的能带结构,结果表明新的激光器结构能够显著消除各异质结间的过渡势垒。通过低压金属有机物化学气相沉积(LP-MOCVD)的方法生长了高质量激光器外延材料。制成后的100μm条宽、2000μm腔长的激光器器件在室温25℃下经过连续(CW)电流测试发现,梯度渐变折射率结构激光器较分别限制结构激光器在10A电流下电压约低0.07V。通过结构与生长优化,激光器内吸收系数从0.52cm-1降至0.43cm-1,最大光电转换效率由69%提升至76%。最终制成的940nm半导体激光器器件室温25℃下输出功率10.0W(10A电流时),斜率效率高达1.24W/A。 展开更多
关键词 激光器 激光二极管 梯度渐变折射率结构 高功率 高光电转换效率
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808 nm连续输出13.6 W单芯片大功率激光器 被引量:6
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作者 李沛旭 殷方军 +5 位作者 张成山 开北超 孙素娟 江建民 夏伟 徐现刚 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第1期75-78,共4页
通过对大功率激光器腔面光学灾变损伤的研究,分析了激光器腔面镀膜的损伤机理。为了提高激光器的输出功率,采用TiO_2替换Si作为高折射率材料,建立非标准膜系降低电场强度,同时优化膜层材料的粗糙度,并采用离子源进行清洗和助镀,有效提... 通过对大功率激光器腔面光学灾变损伤的研究,分析了激光器腔面镀膜的损伤机理。为了提高激光器的输出功率,采用TiO_2替换Si作为高折射率材料,建立非标准膜系降低电场强度,同时优化膜层材料的粗糙度,并采用离子源进行清洗和助镀,有效提高了激光器的腔面光学灾变损伤阈值。结果表明,所制作的808nm激光器,最大连续输出功率达到13.6 W。 展开更多
关键词 激光器 光学灾变损伤 腔面镀膜 TIO2 808 nm波长
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MOCVD growth of AlGaInP/GaInP quantum well laser diode with asymmetric cladding structure for high power applications 被引量:2
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作者 李沛旭 王翎 +5 位作者 李树强 夏伟 张新 汤庆敏 任忠祥 徐现刚 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第6期489-491,共3页
In order to improve the characteristics of the general broad-waveguide 808-nm semiconductor laser diode (LD), we design a new type quantum well LD with an asymmetric cladding structure. The structure is grown by met... In order to improve the characteristics of the general broad-waveguide 808-nm semiconductor laser diode (LD), we design a new type quantum well LD with an asymmetric cladding structure. The structure is grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). For the devices with 100-ttm-wide stripe and 1000-/zm-long cavity under continuous-wave (CW) operation condition, the typical threshold current is 190 mA, the slope efficiency is 1.31 W/A, the wall-plug efficiency reaches 63%, and the maximum output power reaches higher than 7 W. And the internal absorption value decreases to 1.5 cm^-1. 展开更多
关键词 MOCVD growth of AlGaInP/GaInP quantum well laser diode with asymmetric cladding structure for high power applications well high
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Influence of the upper waveguide layer thickness on optical field in asymmetric heterostructure quantum well laser diode 被引量:2
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作者 李沛旭 蒋锴 +5 位作者 李树强 夏伟 张新 汤庆敏 任忠祥 徐现刚 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第5期493-495,共3页
Asymmetric broad-waveguide separate-confinement heterostructure(BW-SCH) quantum well(QW) laser diode emitting at 808 nm is analyzed and designed theoretically.The dependence of the optical field distribution, vert... Asymmetric broad-waveguide separate-confinement heterostructure(BW-SCH) quantum well(QW) laser diode emitting at 808 nm is analyzed and designed theoretically.The dependence of the optical field distribution, vertical far-field angle,and internal loss on different thicknesses of the upper waveguide layer is calculated and analyzed.Calculated results show that when the thicknesses of the lower and upper waveguide layers are 0.45 and 0.3μm,respectively,for the devices with 100-μm-wide stripe and 1000-μm-long cavity,an output power of 7.6 W at 8 A,a vertical far-field angle of 37°,a slope efficiency of 1.32 W/A, and a threshold current of 189 mA can be obtained. 展开更多
关键词 Semiconductor quantum wells WAVEGUIDES
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半导体激光器结温的测试及分析(英文) 被引量:2
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作者 杨扬 于果蕾 +2 位作者 李沛旭 夏伟 徐现刚 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2016年第1期157-163,共7页
结温/热阻是反映激光器器件散热能力的综合参数,与封装焊料层的烧结质量关系密切。本文分别通过正向电压法和波长漂移法,测试计算得到激光器的工作结温,利用扫描声学显微镜分析了激光器焊料层中空洞分布;验证了结温测试方法的可行性,并... 结温/热阻是反映激光器器件散热能力的综合参数,与封装焊料层的烧结质量关系密切。本文分别通过正向电压法和波长漂移法,测试计算得到激光器的工作结温,利用扫描声学显微镜分析了激光器焊料层中空洞分布;验证了结温测试方法的可行性,并确认了激光器结温与焊料层烧结质量之间的对应关系,相关结果将指导半导体激光器的研制改进和器件分筛。 展开更多
关键词 激光器 结温 热阻 扫描声学显微镜
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大功率640nm红光半导体激光器的设计及制备 被引量:13
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作者 朱振 肖成峰 +4 位作者 夏伟 张新 苏建 李沛旭 徐现刚 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2018年第8期338-342,共5页
设计并制备了一款短波长红光640nm的大功率半导体激光器。利用金属有机化学气相沉积技术生长了AlGaInP材料的激光器外延层,其中,限制层使用低折射率的AlInP材料,有源区使用张应变的GaInP/AlGaInP量子阱。外延层有源区的光致发光谱出现... 设计并制备了一款短波长红光640nm的大功率半导体激光器。利用金属有机化学气相沉积技术生长了AlGaInP材料的激光器外延层,其中,限制层使用低折射率的AlInP材料,有源区使用张应变的GaInP/AlGaInP量子阱。外延层有源区的光致发光谱出现两个分裂的发光峰,位于627nm及616nm处,分别对应于电子到轻空穴及重空穴的跃迁。对芯片窗口区域进行选择性Zn扩散,量子阱原子发生混杂,波长蓝移了43nm。不带非吸收窗口的器件在1.9A发生腔面灾变性光学损伤(COD),功率为1.4 W。而带窗口结构的器件没有产生COD,功率输出受限于热饱和,最大功率为2.3 W。室温连续电流测试,1A下波长为639nm,1.5A下波长为640nm。器件水平发散角为6°,垂直发散角为41°。 展开更多
关键词 激光器 二极管激光器 640nm 窗口结构 热饱和 张应变
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高可靠性瓦级660nm半导体激光器研制 被引量:8
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作者 朱振 张新 +4 位作者 肖成峰 李沛旭 孙素娟 夏伟 徐现刚 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期7-11,共5页
利用Zn扩散形成非吸收窗口的技术,制备了大功率660nm半导体激光器。在芯片窗口区用选择性扩Zn方式,使得窗口区有源层发光波长蓝移了61nm,有效降低了腔面的光吸收。制备的激光器芯片有源区条宽为150μm,腔长为1000μm,p面朝下用AuSn焊料... 利用Zn扩散形成非吸收窗口的技术,制备了大功率660nm半导体激光器。在芯片窗口区用选择性扩Zn方式,使得窗口区有源层发光波长蓝移了61nm,有效降低了腔面的光吸收。制备的激光器芯片有源区条宽为150μm,腔长为1000μm,p面朝下用AuSn焊料烧结于AlN陶瓷热沉上。封装后的器件最高输出功率达到了4.2 W,并且没有出现灾变性光学腔面损伤的现象。半导体激光器的水平发散角为6°,垂直发散角为39°,室温1.5A电流下的激光峰值波长为659nm。使用简易的风冷散热条件,在1.5 A连续电流下老化10只激光器,4000h小时仍未出现失效现象。可见,所制备的660nm半导体激光器在瓦级以上功率连续输出时同时具有可靠性高及使用成本低的优势。 展开更多
关键词 激光器 瓦级激光器 ZN扩散 半导体激光器 风冷
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Voltage reduction of 808 nm GaAsP/(Al)GaInP laser diodes with GaInAsP intermediate layer
16
作者 朱振 张新 +2 位作者 李沛旭 王钢 徐现刚 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第1期105-107,共3页
Ga In As P layers and Ga As P/(Al) Ga In P laser diodes(LDs) have been grown on Ga As substrates by metalorganic chemical vapor deposition. The Ga In As P layer, which is lattice matched to Ga As, has an intermedi... Ga In As P layers and Ga As P/(Al) Ga In P laser diodes(LDs) have been grown on Ga As substrates by metalorganic chemical vapor deposition. The Ga In As P layer, which is lattice matched to Ga As, has an intermediate band gap between Ga0.5In0.5P and Ga As. The Ga In P/Ga As heterojunction spikes, especially in the valence band,can be suppressed by introducing this thin Ga In As P layer into the heterostructure interface. The 808 nm Ga As P/(Al)Ga In P LDs with Ga In As P intermediate layer show a reduced operating voltage compared to the conventional LDs with abrupt Ga In P/Ga As interface due to the enhanced hole injection. As a result, the power conversion efficiency is improved from 52% to 60% at 350 m W output power. At high current injection, the LD with Ga In As P intermediate layer has higher light power owing to the decreased joule heating. 展开更多
关键词 MOCVD GaInAsP layer heterojunction voltage reduction
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