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具有隔离结构的横向接触式体硅微机械继电器 被引量:4
1
作者 杨振川 李婷 +1 位作者 郝一龙 武国英 《北京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期397-401,共5页
介绍了一种横向接触式体硅微机械继电器。这种继电器采用硅 玻璃键合及深刻蚀(DRIE)工艺加工 ,并利用多晶硅填槽形成隔离结构。继电器采用静电激励 ,横向驱动。分析了继电器静电激励的阈值电压 ,介绍了一种在有限元仿真工具ANSYSTM 下... 介绍了一种横向接触式体硅微机械继电器。这种继电器采用硅 玻璃键合及深刻蚀(DRIE)工艺加工 ,并利用多晶硅填槽形成隔离结构。继电器采用静电激励 ,横向驱动。分析了继电器静电激励的阈值电压 ,介绍了一种在有限元仿真工具ANSYSTM 下用降解模型 (ROM)分析阈值电压的方法 。 展开更多
关键词 微机电系统 微型继电器 有限元仿真 耦合分析 降解模型
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基于干法刻蚀技术的氮化镓MEMS加工工艺(英文) 被引量:1
2
作者 杨振川 吕佳楠 +1 位作者 闫桂珍 陈敬 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2011年第1期78-82,共5页
氮化镓(GaN)材料已成功应用于光电子器件、高频功率器件等领域.近年来,由于GaN优异的材料特性,例如机械、热、化学稳定性以及生物兼容性等,使基于GaN的微机电系统(MEMS)得到了学术界的广泛关注.针对氮化镓MEMS结构的有效的图形化及释放... 氮化镓(GaN)材料已成功应用于光电子器件、高频功率器件等领域.近年来,由于GaN优异的材料特性,例如机械、热、化学稳定性以及生物兼容性等,使基于GaN的微机电系统(MEMS)得到了学术界的广泛关注.针对氮化镓MEMS结构的有效的图形化及释放技术是工艺研究的重点.设计、采用了一种全干法刻蚀技术,实现了(111)晶向硅衬底上的氮化镓基MEMS微结构的加工制造.利用提出的工艺方案,实现了多种悬浮GaN微结构的加工与测试表征实验.通过电子扫描显微镜(SEM)和光学轮廓仪进行了基本形貌表征;利用微拉曼光谱实验进行了加工结构的残余应力表征. 展开更多
关键词 干法刻蚀 氮化镓(GaN) MEMS
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基于LabVIEW的微机械陀螺自动测试系统开发 被引量:13
3
作者 何春华 崔健 +6 位作者 闫俊杰 林龙涛 王福娟 郭中洋 杨振川 蔡志岗 闫桂珍 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期170-174,共5页
为了快速评估微机械陀螺的性能参数,结合NI PXI 4461数据采集卡,用LabVIEW软件实现了陀螺信号处理算法和若干关键指标测试功能,包括陀螺扫频测试、闭环驱动控制测试、标度因数和零偏等相关性能测试。实验结果表明,该自动测试系统借助Lab... 为了快速评估微机械陀螺的性能参数,结合NI PXI 4461数据采集卡,用LabVIEW软件实现了陀螺信号处理算法和若干关键指标测试功能,包括陀螺扫频测试、闭环驱动控制测试、标度因数和零偏等相关性能测试。实验结果表明,该自动测试系统借助LabVIEW强大的信号处理功能以及灵活的在线调试大大地提高了陀螺芯片测试与筛选的效率,可以快速可靠地挑选出性能优良的陀螺芯片,对陀螺的生产加工具有重要的促进作用。 展开更多
关键词 微机械陀螺 性能测试 闭环驱动控制 LABVIEW软件
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硅在KOH中各向异性腐蚀的物理模型 被引量:11
4
作者 姜岩峰 黄庆安 +2 位作者 吴文刚 郝一龙 杨振川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期434-439,共6页
针对硅在 KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型 .此模型从微观角度出发 ,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态 ,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数 .将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率的影响也反映了进去 .计算结果与实验... 针对硅在 KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型 .此模型从微观角度出发 ,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态 ,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数 .将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率的影响也反映了进去 .计算结果与实验结果进行了对比 ,表明此模型在解释硅在 KOH中各向异性腐蚀特性等方面具有一定的合理性 . 展开更多
关键词 KOH 物理模型 各向异性腐蚀
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《药用基础化学》“订单式”实验教学课程改革初探 被引量:3
5
作者 潘伦 许新 +3 位作者 何坪 陈先玉 程家蓉 杨振川 《重庆医学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期712-713,共2页
如今,高职高专院校广泛开展了以“任务为驱动”的“订单式”人才培养模式的研究和探索。从岗位的实际特点和需求出发,形成了岗位任务指导专业与课程建设的格局。课程构建形成了职业岗位能力“订单”专业课程,专业课程“订单”基础课... 如今,高职高专院校广泛开展了以“任务为驱动”的“订单式”人才培养模式的研究和探索。从岗位的实际特点和需求出发,形成了岗位任务指导专业与课程建设的格局。课程构建形成了职业岗位能力“订单”专业课程,专业课程“订单”基础课程的规律。 展开更多
关键词 课程改革 实验教学 基础化学 职业岗位能力 药用 人才培养模式 专业课程 高职高专
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微机械陀螺冲击特性及可靠性研究 被引量:4
6
作者 何春华 赵前程 +2 位作者 杨振川 张大成 闫桂珍 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期643-648,共6页
为了深入掌握微机械陀螺的冲击响应特性,本文进行了详细的理论推导和MATLAB仿真分析,并进行了测试验证。冲击试验结果表明,理论分析和试验结果基本一致,考虑最坏情况可知,当脉宽对应的冲击频率与陀螺固有频率越接近,并且陀螺品质因子和... 为了深入掌握微机械陀螺的冲击响应特性,本文进行了详细的理论推导和MATLAB仿真分析,并进行了测试验证。冲击试验结果表明,理论分析和试验结果基本一致,考虑最坏情况可知,当脉宽对应的冲击频率与陀螺固有频率越接近,并且陀螺品质因子和冲击加速度幅值越大时,则冲击带来的影响就越大,梁越容易发生断裂失效。因此要使MEMS陀螺具有较强的抗冲击能力,必须综合优化设计陀螺的真空度和固有频率。 展开更多
关键词 微机械陀螺 冲击可靠性 响应模型 冲击特性
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加速度系统的结点化模型仿真 被引量:2
7
作者 肖志勇 杨振川 +1 位作者 张海霞 郝一龙 《北京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期432-436,共5页
利用在ZeniVDE平台下建立的梁、平板质量、集总质量、气隙、压膜阻尼和锚点等结点化基本单元模型 ,对一种电容式加速度计系统进行了一系列的仿真 ,仿真内容包括静态仿真 ,时域仿真和频域仿真等。
关键词 VHDL-AMS 结点化设计 MEMS CAD 模拟混合信号
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硅各向异性腐蚀模型及其模拟进展 被引量:1
8
作者 姜岩峰 黄庆安 +2 位作者 吴文刚 郝一龙 杨振川 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期81-85,共5页
分析了硅各向异性腐蚀模型及其模拟的研究现状。介绍了两类主要的腐蚀模型—几何模型和原子模型各自的特点、利弊及发展变化的趋势 ,最后又列举了几种成熟的、应用不同模型的模拟软件。
关键词 模拟 各向异性腐蚀 模型 微机械加工 MEMS CAD
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化学实验中玻璃仪器的洗涤 被引量:2
9
作者 杨振川 《中国医药指南》 2008年第16期103-104,共2页
化学实验中干净的玻璃仪器有利于实验者观察到正确的实验现象,归纳、推理出正确的结论。因此,选择合适的洗涤剂,正确及时洗涤玻璃仪器,对于化学实验尤为重要。
关键词 方法 及时 注意事项
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用深反应离子刻蚀和介质填充技术制造具有高深宽比的超深电隔离槽(英文)
10
作者 朱泳 闫桂珍 +4 位作者 王成伟 杨振川 范杰 周健 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期16-21,共6页
提出了一种利用深反应离子刻蚀 (DRIE)和电介质填充方法来制造具有高深宽比的深电学隔离槽的新型技术 .还详细讨论了DRIE刻蚀参数与深槽侧壁形状之间的关系 ,并作了理论上的阐述 .采用经过参数优化的DRIE刻蚀深硅槽 ,并用反应离子刻蚀 (... 提出了一种利用深反应离子刻蚀 (DRIE)和电介质填充方法来制造具有高深宽比的深电学隔离槽的新型技术 .还详细讨论了DRIE刻蚀参数与深槽侧壁形状之间的关系 ,并作了理论上的阐述 .采用经过参数优化的DRIE刻蚀深硅槽 ,并用反应离子刻蚀 (RIE)对深槽开口形状进行修正 ,制造了具有理想侧壁形状的深槽 ,利于介质的完全填充 ,避免产生空洞 .电隔离槽宽 5 μm ,深 92 μm ,侧壁上有 0 5 μm厚的氧化层作为电隔离材料 .I V测试结果表明该隔离结构具有很好的电绝缘特性 :0~ 10 0V偏压范围内 ,电阻大于 10 11Ω ,击穿电压大于 10 0V .电隔离深槽被首次应用于体硅集成微机械陀螺仪上的微机械结构与电路之间的电气隔离与机械连接 。 展开更多
关键词 深反应离子刻蚀 电隔离槽 体微结构 单片集成
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微机械惯性传感器 被引量:1
11
作者 李志宏 杨振川 武国英 《电子科技导报》 1999年第8期19-24,共6页
综述微机械惯性传感器的基本工作原理和典型的器件结构,展望它的未来发展趋势。
关键词 微机械惯性传感器 加速度计 陀螺 微电子机械系统
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一种新型静电驱动的单轴扭转微镜
12
作者 王丛舜 熊春阳 +2 位作者 杨振川 张大成 方竞 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期419-421,共3页
基于MEMS技术的微镜在投影显示、光学扫描和光通信等领域中都具有重要的应用价值。本文提出了一种新型的静电驱动的单轴扭转微镜 ,这种MEMS微镜采用标准体硅工艺和绝缘连接工艺制成。由于驱动力作用线和扭转中心之间存在一定的距离 ,使... 基于MEMS技术的微镜在投影显示、光学扫描和光通信等领域中都具有重要的应用价值。本文提出了一种新型的静电驱动的单轴扭转微镜 ,这种MEMS微镜采用标准体硅工艺和绝缘连接工艺制成。由于驱动力作用线和扭转中心之间存在一定的距离 ,使得微镜在梳齿驱动器的横向静电力驱动下 ,发生一定角度的扭转。测试中发现了微镜初步设计中的薄弱环节 。 展开更多
关键词 静电驱动 单轴扭转微镜 梳齿驱动器 体硅工艺 MEMS技术
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反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法 被引量:2
13
作者 丁海涛 杨振川 闫桂珍 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1201-1204,共4页
提出了一种在反应离子深刻蚀中既可以加强热传递又可以抑制notching效应的方法,尤其适用于含有细长梁结构的刻蚀.通过在硅结构的下表面溅射一薄层金属,以加强刻蚀过程中产生的热量的消散,降低了硅结构的温度.用有限元仿真和实验分别验... 提出了一种在反应离子深刻蚀中既可以加强热传递又可以抑制notching效应的方法,尤其适用于含有细长梁结构的刻蚀.通过在硅结构的下表面溅射一薄层金属,以加强刻蚀过程中产生的热量的消散,降低了硅结构的温度.用有限元仿真和实验分别验证了该方法的有效性.同时,金属层也抑制了刻蚀离子所带电荷在绝缘介质层上的积累,防止了自建电场的产生,抑制了notching效应.该方法通过扫描电子显微镜的测量也得到了实验验证.加工了一个SOI梳齿驱动器,检验了本方法的有效性和适应性. 展开更多
关键词 反应离子深刻蚀 热传递 notching效应
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一种用有限元工具仿真水平轴微陀螺解耦性能的方法 被引量:1
14
作者 吕博 刘雪松 +2 位作者 崔健 杨振川 闫桂珍 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期255-257,共3页
提出了一种用有限元工具ANSYSTM的谐响应分析功能仿真陀螺在模态频率下位移的方法。利用这种方法,仿真得到了陀螺模态间的机械耦合,并通过测试对仿真结果进行了验证。这种方法还能仿真由于工艺误差造成的结构不对称性对陀螺性能的影响,... 提出了一种用有限元工具ANSYSTM的谐响应分析功能仿真陀螺在模态频率下位移的方法。利用这种方法,仿真得到了陀螺模态间的机械耦合,并通过测试对仿真结果进行了验证。这种方法还能仿真由于工艺误差造成的结构不对称性对陀螺性能的影响,并证明了双解耦性能有利于抑制这种不对称带来的误差。 展开更多
关键词 微陀螺 机械耦合 有限元工具 谐响应分析
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采用防Footing效应工艺加工的SOI微加速度计 被引量:1
15
作者 毛旭 杨振川 +1 位作者 李志宏 闫桂珍 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2010年第4期330-334,共5页
为了解决深刻蚀绝缘体上硅(silicon on insulator,SOI)材料时存在的横向刻蚀(Footing)效应,在背腔释放SOI微机电系统(micro electro mechanical system,MEMS)工艺基础上,提出并实现了一种改进的利用背面保护电极抑制Footing效应的工艺方... 为了解决深刻蚀绝缘体上硅(silicon on insulator,SOI)材料时存在的横向刻蚀(Footing)效应,在背腔释放SOI微机电系统(micro electro mechanical system,MEMS)工艺基础上,提出并实现了一种改进的利用背面保护电极抑制Footing效应的工艺方案.在SOI圆片上生长SiO2和Si3N4掩模材料并图形化后,背面腐蚀支撑层Si至掩埋层SiO2.去除掩埋层SiO2后,完成正面Al电极和背面保护Al电极的溅射.深反应离子干法刻蚀SOI圆片形成结构,再腐蚀背面Al薄膜完成结构释放.基于该工艺,对结构层厚度为80μm的采用双端固支梁的SOI微加速度计的结构进行设计与仿真、器件加工和最终的性能测试.加速度计在±1 g(g=9.8 m/s2)范围内的灵敏度和非线性度分别为106.7 mV/g和0.1%.实验结果表明,该改进工艺方案可以有效抑制Footing效应对器件结构的损伤,提高加工的可靠性. 展开更多
关键词 绝缘体上硅(SOI) 微加速度计 横向刻蚀 保护电极
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反应离子深刻蚀中硅/玻璃结构footing效应的实验研究(英文) 被引量:1
16
作者 丁海涛 杨振川 +1 位作者 张美丽 闫桂珍 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1088-1093,共6页
针对反应离子深刻蚀中硅/玻璃键合结构的footing效应问题,用实验方法进行了研究.通过2~4和0.01~0.03Ω·cm两种不同电导率的硅结构过刻蚀的对比,以及对50,20和5μm三组不同间隙高度的器件结构过刻蚀的对比,揭示了单晶硅结构的电... 针对反应离子深刻蚀中硅/玻璃键合结构的footing效应问题,用实验方法进行了研究.通过2~4和0.01~0.03Ω·cm两种不同电导率的硅结构过刻蚀的对比,以及对50,20和5μm三组不同间隙高度的器件结构过刻蚀的对比,揭示了单晶硅结构的电导率及器件结构和玻璃衬底间隙高度对footing效应的影响.实验结果显示电导率为2 ~4Ω·cm的硅结构比电导率为0.01 ~0.03Ω·cm的硅结构footing效应严重;硅结构和玻璃衬底的间隙为5μm的比间隙为20和50μm的footing效应严重.对这一现象的理论分析认为,被刻蚀的硅的电导率越高,硅结构与玻璃衬底的间隙越大,footing效应越不明显.本文中不同电导率和不同间隙高度的实验对比结果可以为硅微传感器材料类型的选取和器件的优化设计提供参考. 展开更多
关键词 footing效应 硅/玻璃键合 反应离子深刻蚀
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CMOS-MEMS体硅集成陀螺的系统仿真
17
作者 王佳 钱梁 +1 位作者 杨振川 闫桂珍 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期563-566,共4页
体硅MEMS和CMOS电路的单片集成技术是提高传感器性能的有效途径,但是集成技术会对陀螺的设计和CMOS电路的设计提出更高的要求。通过建立CMOS-MEMS体硅陀螺的等效电学模型,实现了对CMOS-MEMS体硅陀螺的系统级仿真。通过系统仿真,陀螺的... 体硅MEMS和CMOS电路的单片集成技术是提高传感器性能的有效途径,但是集成技术会对陀螺的设计和CMOS电路的设计提出更高的要求。通过建立CMOS-MEMS体硅陀螺的等效电学模型,实现了对CMOS-MEMS体硅陀螺的系统级仿真。通过系统仿真,陀螺的结构部分、电路部分、集成产生的寄生效应以及工艺误差得到了有效的分析,从而能够了解它们相互之间的影响,更好的指导CMOS-MEMS体硅集成器件的设计。 展开更多
关键词 陀螺电学模型 CMOS-MEMS体硅陀螺 工艺误差 系统仿真
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航空发动机承力结构隔振设计方法及试验 被引量:2
18
作者 洪杰 杨振川 +1 位作者 王永锋 马艳红 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期10-17,共8页
基于先进航空发动机承力框架的结构与力学特征,通过理论分析与仿真计算验证了高隔振性承力框架结构动力学设计方法。通过对承力结构刚度/质量分布及几何构形突变的优化设计,提高转子支承结构在宽频域内的机械阻抗,实现在转子工作转速范... 基于先进航空发动机承力框架的结构与力学特征,通过理论分析与仿真计算验证了高隔振性承力框架结构动力学设计方法。通过对承力结构刚度/质量分布及几何构形突变的优化设计,提高转子支承结构在宽频域内的机械阻抗,实现在转子工作转速范围内的高隔振性。根据承力结构刚度/质量分布对隔振性的影响,采用折返式非连续结构,设计并搭建了转子-承力框架试验系统,通过试验进一步验证了高隔振性承力框架设计方法。试验结果表明:在承力结构中采用非连续性设计可在宽频域内对不同位置支点处激励具有良好的隔振效果。 展开更多
关键词 承力框架 隔振性 刚度/质量分布 非连续性 机械阻抗
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TOPSIS法在综合评价食品卫生工作中的应用 被引量:4
19
作者 梁祖美 曾金赐 杨振川 《现代预防医学》 CAS 2004年第2期275-276,共2页
关键词 TOPSIS法 综合评价 食品卫生 卫生监督
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最令人记不住的名字
20
作者 杨振川 《课堂内外(创新作文)(小学版)》 2008年第2期16-16,共1页
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