期刊文献+
共找到3篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响(英文) 被引量:5
1
作者 许小红 李佐宜 +3 位作者 段静芳 晋芳 黄致新 林更其 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期361-363,共3页
研究了真空退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响。结果表明:薄膜从溅射态的非晶薄膜转化为退火态的微晶薄膜,并以(100)面择优取向,其c轴平行于基片。在真空退火不改变TbCo薄膜的成分的条件下,发现TbCo薄膜从溅射态的垂直磁化膜转化为退火... 研究了真空退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响。结果表明:薄膜从溅射态的非晶薄膜转化为退火态的微晶薄膜,并以(100)面择优取向,其c轴平行于基片。在真空退火不改变TbCo薄膜的成分的条件下,发现TbCo薄膜从溅射态的垂直磁化膜转化为退火态的面内膜。 展开更多
关键词 退火 磁性能 TbCo薄膜
下载PDF
磁控溅射制备Cu底层的实验研究 被引量:5
2
作者 张迪 程伟明 +1 位作者 林更其 杨晓非 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期138-139,143,共3页
使用射频磁控溅射方法在载玻片上制备Cu薄膜,并通过调整其溅射参数来改变Cu薄膜的内部结构。实验结果表明:当基的片加热温度为100~150℃、薄膜厚度为405nm、溅射功率为150~300W时,所制得的沿(111)面择优生长的Cu薄膜的Ⅰ(111)... 使用射频磁控溅射方法在载玻片上制备Cu薄膜,并通过调整其溅射参数来改变Cu薄膜的内部结构。实验结果表明:当基的片加热温度为100~150℃、薄膜厚度为405nm、溅射功率为150~300W时,所制得的沿(111)面择优生长的Cu薄膜的Ⅰ(111)/Ⅰ(200)均大于15,可作为SmCo5垂直磁化薄膜的衬底层。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 SMCO5 垂直磁化膜 Cu薄膜
下载PDF
非晶稀土-过渡金属磁光薄膜热稳定性研究
3
作者 熊锐 李佐宜 +4 位作者 卢正启 林更其 胡作启 杨晓非 邱进军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期27-29,共3页
采用射频磁控溅射方法制备非晶 Dy Fe Co磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示 ,薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明 ,随着退火时间的增加 ,矫顽力下降 ,垂直磁各向异性能减少 ,但克尔角变化不明显 ,其内在机制与薄膜... 采用射频磁控溅射方法制备非晶 Dy Fe Co磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示 ,薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明 ,随着退火时间的增加 ,矫顽力下降 ,垂直磁各向异性能减少 ,但克尔角变化不明显 ,其内在机制与薄膜中的微缺陷和应力的弛豫过程有关。 展开更多
关键词 稀土-过渡金属 磁光薄膜 薄膜 退火 热稳定性
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部