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ITO/AgNWs/ITO薄膜的制备及其性能研究
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作者 杨涛 陈彩明 +4 位作者 黄瑜佳 吴少平 徐华蕊 汪坤喆 朱归胜 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第7期1150-1159,共10页
随着显示面板向超大尺寸、超高清、可触控的方向发展,单一的氧化铟锡(ITO)薄膜难以满足显示器件越来越高的光电性能要求,因此复合导电薄膜得以发展。本文制备了以二维银纳米线(AgNWs)导电网络嵌入ITO薄膜形成的ITO(222)/AgNWs/ITO(400)... 随着显示面板向超大尺寸、超高清、可触控的方向发展,单一的氧化铟锡(ITO)薄膜难以满足显示器件越来越高的光电性能要求,因此复合导电薄膜得以发展。本文制备了以二维银纳米线(AgNWs)导电网络嵌入ITO薄膜形成的ITO(222)/AgNWs/ITO(400)复合薄膜结构,系统研究了AgNWs添加量和上层ITO薄膜溅射温度对复合薄膜结构与光电性能的影响,AgNWs金属导电网络不仅提升了薄膜的电学性能,还保持了优良的光学性能。结果表明,在旋涂600μL的AgNWs分散液、上层ITO薄膜的溅射温度为175℃时,制备的复合ITO薄膜方阻为7.13Ω/□,在550 nm处透过率为91.52%,且品质因数为57.82×10^(-3)Ω^(-1),实现了超低电阻率和高可见光透过率复合ITO薄膜的制备。 展开更多
关键词 ITO薄膜 磁控溅射 AgNWs 导电网络 复合薄膜 光电性能 溅射温度
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溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能的影响 被引量:1
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作者 程媛媛 黄瑜佳 +4 位作者 朱归胜 徐华蕊 万乐 焦培文 汪坤喆 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1028-1033,共6页
本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm... 本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm)靶材分层溅射,使ITO薄膜和Ag薄膜依次沉积在钠-钙玻璃基片上。结果表明,溅射温度对该薄膜的形貌和结构具有显著的影响。在中间Ag薄膜和顶层ITO薄膜的溅射温度均为120℃时,薄膜表面晶粒形貌由类球形转变为菱形,此时薄膜方阻为3.68Ω/Sq,在488 nm处透射率为88.98%,且品质因数为0.03Ω^(-1),实现了低方阻高可见光透射率ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的制备。 展开更多
关键词 磁控溅射 分层溅射 复合薄膜 ITO薄膜 Ag薄膜 溅射温度
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