微通道板非晶态Al_2O_3电子透射膜 被引量：20

1

作者 田景全 姜德龙 +4 位作者 富丽晨 卢耀华 李野 王桂芬 闫金良 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期1-5,共5页

文中介绍了ＭＣＰ非晶态Ａｌ２Ｏ３电子透射膜在成像器件中的作用，阐述了膜层的选择、形成条件与方法，给出了膜层形成及其与辉光气体放电的关系，测量了膜层及带膜ＭＣＰ的某些特性，并进行了初步分析和讨论．

关键词 微通道板 电子透射膜 离子反馈 象增强器

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新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究 被引量：3

2

作者 田景全 姜德龙 +5 位作者 孙秀平 富丽晨 但唐仁 李野 卢耀华 端木庆铎 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期513-517,共5页

在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层 ,提高了MCP对能量 35～ 5 0keVX射线的探测能力。实验结果表明 :变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时 ,其输出响应可提高 5～ 6倍 ,较无膜MCP提高 1～ 2个数量级 ,和CsBr、KBr相比较 ,... 在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层 ,提高了MCP对能量 35～ 5 0keVX射线的探测能力。实验结果表明 :变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时 ,其输出响应可提高 5～ 6倍 ,较无膜MCP提高 1～ 2个数量级 ,和CsBr、KBr相比较 ,以CsI的响应特性为最佳 ;膜层材料、结构、工艺和X射线能量等是影响探测能力的主要因素。 展开更多

关键词 MCP 反射式X射线敏感薄膜 变密度 卤化物 X射线光阴极 微通道板 工作原理 X射线影像增强器

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测量MCP特性参数的紫外光电法 被引量：8

3

作者 田景全 姜德龙 吴奎 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第5期121-123,共3页

本文介绍了紫外光电法的测试装置、工作原理和测量结果,并对应用前景作了讨论。

关键词 MCP 微通道板 参数测量 紫外光电法

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Lixiscope及几种材料的X射线吸收特性研究 被引量：1

4

作者 田景全 彭海波 +2 位作者 吴奎 卢耀华 姜德龙 《应用光学》 CAS CSCD 1993年第1期6-9,共4页

介绍Lixiscope及模拟系统,测量了钛片(Ti)、玻璃板、镍片(Ni)和铝片(Al)对峰值能量为40keV的X射线的吸收持性,指出平板式X射线像增强器输入窗口材料选择的原则。

关键词 吸收 象增强器 材料 X辐射

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低强度X射线影像系统的噪声分析及图像去噪处理 被引量：15

5

作者 但唐仁 田景全 +4 位作者 高延军 李野 姜德龙 端木庆铎 富丽晨 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期615-618,共4页

新型低强度X射线影像系统主要是由平板式单近贴静电聚焦X射线像增强器和CCD数据采集系统构成。根据系统的组成,分析了图像噪声来源,指出了它们的噪声整体为泊松分布规律的随机白噪声,局部也有正负脉冲干扰等特点,以此提出了处理该图像... 新型低强度X射线影像系统主要是由平板式单近贴静电聚焦X射线像增强器和CCD数据采集系统构成。根据系统的组成,分析了图像噪声来源,指出了它们的噪声整体为泊松分布规律的随机白噪声,局部也有正负脉冲干扰等特点,以此提出了处理该图像噪声的"多帧平均滤波+极值中值滤波"的复合算法。即先根据随机噪声互不相关的特点,将多幅图像叠加平均,突出有用信息,压缩噪声。再在改进标准中值滤波基础上,采用极值中值滤波,更好地去除噪声,保留细节。通过对峰值信噪比的计算表明,该方法明显优于任何单一算法,取得较好效果。 展开更多

关键词 低强度X射线影像系统 噪声分析 去噪 多帧平均 极值中值滤波 图像处理 X射线像增强器

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基于粒子系统的实时雨雪模拟 被引量：60

6

作者 王润杰 田景全 倪政国 《系统仿真学报》 CAS CSCD 2003年第4期495-496,501,共3页

雨雪效果的模拟可以大大提高飞行模拟器视景的逼真度.粒子系统是模拟雨雪效果的有效方法。在分析粒子系统的基础上,提出了一种模拟雨雪的实时算法。该算法的基本思想是将全部雨雪粒子分布于眼点前的视区内,高效率地利用有限的粒子来渲... 雨雪效果的模拟可以大大提高飞行模拟器视景的逼真度.粒子系统是模拟雨雪效果的有效方法。在分析粒子系统的基础上,提出了一种模拟雨雪的实时算法。该算法的基本思想是将全部雨雪粒子分布于眼点前的视区内,高效率地利用有限的粒子来渲染场景。通过恰当选择粒子数量和粒子模型,该算法可以生成逼真的视觉效果并满足视景系统实时性的要求。 展开更多

关键词 飞行模拟器 飞行训练 粒子系统 实时雨雪模拟 视景系统 实时性 计算机成象

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微通道板电子透射膜及其粒子透过特性的研究 被引量：6

7

作者 端木庆铎 姜德龙 +5 位作者 田景全 李野 高延军 王国政 吴奎 富丽晨 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期904-907,共4页

　文中介绍了微光像管中微通道板电子透射膜及其形成技术,研究了粒子(电子和离子)透过特性.给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出了采用XPS进行成分分析的结果.介绍了电子透射膜的离子透过特... 　文中介绍了微光像管中微通道板电子透射膜及其形成技术,研究了粒子(电子和离子)透过特性.给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出了采用XPS进行成分分析的结果.介绍了电子透射膜的离子透过特性,给出了表征膜层对离子阻止能力的离子透过率的概念,提出了离子透过率测试的原理方案和相关技术等问题. 展开更多

关键词 微通道板 电子透射膜 免污染成膜工艺 死电压 离子透过率

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硅微通道板电子倍增器 被引量：9

8

作者 端木庆铎 李野 +5 位作者 卢耀华 姜德龙 但唐仁 高延军 富丽晨 田景全 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1680-1682,共3页

本文采用感应耦合等离子体刻蚀机 (ICP)和低压化学气相淀积 (LPCVD)技术制备了硅微孔列阵和连续打拿极 ,得到具有一定性能的硅微通道板 .同时分析讨论了微孔列阵的表面形貌、反应离子刻蚀的尺寸效应以及电子增益系数等问题 .与传统工艺... 本文采用感应耦合等离子体刻蚀机 (ICP)和低压化学气相淀积 (LPCVD)技术制备了硅微孔列阵和连续打拿极 ,得到具有一定性能的硅微通道板 .同时分析讨论了微孔列阵的表面形貌、反应离子刻蚀的尺寸效应以及电子增益系数等问题 .与传统工艺相比 ,新工艺将微通道板基体材料与打拿极材料的选择分开、微孔列阵形成和连续打拿极制作过程分开 。 展开更多

关键词 硅 微通道板 电子倍增器

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基于BCG-MCP的四代微光像增强技术 被引量：6

9

作者 姜德龙 吴奎 +4 位作者 王国政 李野 富丽晨 端木庆铎 田景全 《红外技术》 CSCD 北大核心 2003年第6期45-48,共4页

介绍了Ⅲ代微光像管中的防离子反馈膜技术 ,阐述了美国Litton公司基于BCG MCP的Ⅳ代像管的近期发展及应用概况 ,给出了实际应用中的对比情况 ,指出了BCG MCP。

关键词 BCG-MCP 自动门控电源 无晕技术 体导电玻璃微通道板 BCGMCP 四代微光像管 离子反馈 晕光效应

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二维电子倍增器及其新发展 被引量：8

10

作者 端木庆铎 田景全 +4 位作者 姜会林 姜德龙 李野 卢耀华 富丽晨 《红外技术》 CSCD 北大核心 1999年第6期6-11,共6页

概述了二维电子倍增器ＲＬＳＧ-ＭＣＰ的发展概况和工艺的局限性，提出了用半导体工艺制作ＡＴ－ＭＣＰ的技术途径，阐述了ＡＴ－ＭＣＰ的优点；介绍了新型ＭＳＰ电子倍增器的原理和特点，最后展望了电子倍增器的发展前景．

关键词 电子倍增器 微通道板 微球板 RLSG-MCP

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微通道板离子壁垒膜及其对入射离子的阻止作用 被引量：4

11

作者 姜德龙 刘庆飞 +6 位作者 李野 王国政 高延军 吴奎 付申成 端木庆铎 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1015-1020,共6页

给出了三代微光像管中微通道板离子壁垒膜对入射正离子阻止作用的描述,引进了核阻止本领、电子阻止本领和平均射程的概念。结合Tomas-Fermi屏蔽势进行了分析讨论和Monte-Carlo模拟计算,给出Al2O3和SiO2薄膜对不同能量垂直入射时的核、... 给出了三代微光像管中微通道板离子壁垒膜对入射正离子阻止作用的描述,引进了核阻止本领、电子阻止本领和平均射程的概念。结合Tomas-Fermi屏蔽势进行了分析讨论和Monte-Carlo模拟计算,给出Al2O3和SiO2薄膜对不同能量垂直入射时的核、电子阻止的定量结果。得出了Al2O3薄膜阻止本领比SiO2阻止本领高的结论。证实了选用Al2O3离子壁垒膜的科学性和可行性。 展开更多

关键词 微通道板 离子壁垒膜 核阻止 电子阻止 蒙特卡罗模拟

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一种基于小波相位信息的低强度X射线影像系统的图像去噪方法 被引量：4

12

作者 但唐仁 田景全 +2 位作者 端木庆铎 李野 高延军 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期977-979,共3页

新型低强度X射线影像系统主要是由平板式单近贴静电聚焦X射线像增强器和CCD数据采集系统构成 .文章简述了低强度X射线影像系统的图像噪声来源和特点 ,并根据图像噪声的特点 ,先进行多帧叠加平均预处理 ,再进行小波变换滤波 .区别于传统... 新型低强度X射线影像系统主要是由平板式单近贴静电聚焦X射线像增强器和CCD数据采集系统构成 .文章简述了低强度X射线影像系统的图像噪声来源和特点 ,并根据图像噪声的特点 ,先进行多帧叠加平均预处理 ,再进行小波变换滤波 .区别于传统的小波变换方法 ,引入小波变换的相位信息概念 ,根据噪声和图像信息小波变换后的相位不同特点 ,从局部和相邻尺度两方面联合进行噪声自动判别和滤除 .小波反变换后 ,得到输出图像 ,通过对峰值信噪比的计算 。 展开更多

关键词 X射线 噪声 多帧平均 小波变换 相位

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微通道板SiO_2防离子反馈膜技术研究 被引量：4

13

作者 李野 姜德龙 +7 位作者 向嵘 付申成 王国政 吴奎 王新 端木庆铎 富丽晨 田景全 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2400-2404,共5页

本文利用射频磁控溅射方法,在微通道板输入面上成功地制备出二氧化硅防离子反馈膜.通过对二氧化硅防离子反馈膜的电子透过特性测试,给出了特性曲线.利用蒙特卡罗模拟方法对二氧化硅和三氧化二铝两种防离子反馈膜的电子透过和离子阻止能... 本文利用射频磁控溅射方法,在微通道板输入面上成功地制备出二氧化硅防离子反馈膜.通过对二氧化硅防离子反馈膜的电子透过特性测试,给出了特性曲线.利用蒙特卡罗模拟方法对二氧化硅和三氧化二铝两种防离子反馈膜的电子透过和离子阻止能力进行了分析和比较,得出了二氧化硅薄膜比三氧化二铝薄膜对电子的透过特性稍好,而后者比前者对离子的阻止能力较优越的结论. 展开更多

关键词 微通道板 二氧化硅 防离子反馈膜 蒙特卡罗模拟

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基于氧化铝缓冲层的Si基ZnO薄膜研究 被引量：4

14

作者 向嵘 王新 +2 位作者 姜德龙 李野 田景全 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1063-1066,共4页

高质量的ZnO薄膜通常生长在蓝宝石等晶格匹配好的衬底上,在晶格失配较大的Si衬底上很难得到高质量的ZnO薄膜,而在Si衬底上制备高质量的ZnO薄膜更具有广泛应用前景。本文采用反应磁控溅射的方法,在Si衬底上,通过引入Al2O3缓冲层,在不同... 高质量的ZnO薄膜通常生长在蓝宝石等晶格匹配好的衬底上,在晶格失配较大的Si衬底上很难得到高质量的ZnO薄膜,而在Si衬底上制备高质量的ZnO薄膜更具有广泛应用前景。本文采用反应磁控溅射的方法,在Si衬底上,通过引入Al2O3缓冲层,在不同氧气和氩气比例下制备了高质量的ZnO薄膜。研究了引入Al2O3缓冲层后,对ZnO薄膜结构和光学特性的影响。发现对于不同氧气和氩气比例下生长的ZnO薄膜样品,其(002)方向的X射线衍射峰的半峰宽(FWHM)明显减小,光致发光谱中紫外发光与可见发光峰值强度比明显增强。表明引入Al2O3缓冲层后,ZnO薄膜的结构和光学特性得到了很大改善,从而为在Si衬底上制备高质量ZnO薄膜提供了参考。 展开更多

关键词 半导体技术 ZNO薄膜 Al2O3缓冲层 X射线衍射 发光光谱

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基于众值理论的微光图像帧积分算法 被引量：3

15

作者 陈立 李野 +1 位作者 秦旭磊 田景全 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期2217-2220,共4页

帧积分算法是图像增强技术中常用的一种方法,它在处理微光图像时有一定的局限性.本文对此做了进一步的实验与讨论,提出了一种改进的算法———众值帧积分.众值帧积分是对邻帧内对应像素点的灰度值作数学统计,并取出现几率最大的像素灰... 帧积分算法是图像增强技术中常用的一种方法,它在处理微光图像时有一定的局限性.本文对此做了进一步的实验与讨论,提出了一种改进的算法———众值帧积分.众值帧积分是对邻帧内对应像素点的灰度值作数学统计,并取出现几率最大的像素灰度值作为滤波结果,因此处理过的图像更接近真实.实验结果表明,众值帧积分能有效地抑制微光图像中的亮点噪声和暗点噪声,对图像边缘的保护特性比帧积分好,具有重要实用价值. 展开更多

关键词 噪声 帧积分 众值帧积分 微光图像 峰值信噪比

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磁控溅射制备氧化硅薄膜生长速率(英文) 被引量：3

16

作者 姜德龙 王新 +2 位作者 向嵘 王国政 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期888-891,共4页

氧化硅薄膜是半导体工业中常见的薄膜材料,通常采用化学气相沉积方法制备。但是这种制备方法存在缺欠。采用磁控溅射的方法首先在石英衬底上制备了氧化硅薄膜。研究了射频功率、氧气含量和溅射压强对氧化硅薄膜沉积速率的影响。发现沉... 氧化硅薄膜是半导体工业中常见的薄膜材料,通常采用化学气相沉积方法制备。但是这种制备方法存在缺欠。采用磁控溅射的方法首先在石英衬底上制备了氧化硅薄膜。研究了射频功率、氧气含量和溅射压强对氧化硅薄膜沉积速率的影响。发现沉积速率随着射频功率的增加而增加;随着氧气含量的增加,先减小后增大;当溅射压强在0.4～0.8Pa之间变化时,沉积速率变化很小,当溅射压强超过0.8Pa时沉积速率迅速下降。讨论了不同生长条件下造成氧化硅薄膜生长速率变化的原因。 展开更多

关键词 氧化硅 薄膜 磁控溅射

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微通道板离子壁垒膜及其特性 被引量：2

17

作者 姜德龙 吴奎 +5 位作者 王国政 李野 高延军 端木庆铎 富丽晨 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期737-742,共6页

介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术,研究了其粒子(电子和离子)透过特性。给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出采用X射线光电子能谱(XPS)进行成分分析的结果。介绍了离子壁垒... 介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术,研究了其粒子(电子和离子)透过特性。给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出采用X射线光电子能谱(XPS)进行成分分析的结果。介绍了离子壁垒膜的离子透过特性,给出了表征膜层对离子阻止能力的离子透过率的概念,提出了离子透过率测试的原理方案和相关技术等问题。 展开更多

关键词 微通道板 离子壁垒膜 免污染成膜工艺 死电压 离子透过率

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新一代二维通道电子倍增器的薄膜连续打拿极 被引量：2

18

作者 李野 高延军 +5 位作者 王国政 付申成 吴奎 姜德龙 端木庆铎 田景全 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期421-425,共5页

概述了传统还原铅硅酸盐玻璃微通道板(RLSG-MCP)及其特点以及MCP的新发展;介绍了材料的二次发射特性,给出了传统MCP薄膜连续打拿极结构特点和形成工艺。在此基础上,重点论述了用半导体工艺技术制作新一代二维电子倍增器———先进技术... 概述了传统还原铅硅酸盐玻璃微通道板(RLSG-MCP)及其特点以及MCP的新发展;介绍了材料的二次发射特性,给出了传统MCP薄膜连续打拿极结构特点和形成工艺。在此基础上,重点论述了用半导体工艺技术制作新一代二维电子倍增器———先进技术微通道板(AT-MCP)的薄膜连续打拿极制备新技术,给出了具体工艺和实验结果,示出了电镜照片和实验曲线,指出了新工艺的优点和发展前景。 展开更多

关键词 微通道板 连续打拿极 低压化学气相沉积 二次电子发射

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低强度X射线影像仪的新发展 被引量：2

19

作者 李野 姜德龙 +3 位作者 卢耀华 端木庆铎 田景全 富丽晨 《应用光学》 CAS CSCD 1999年第5期12-14,共3页

扼要介绍国内外Ｌｉｘｉｓｃｏｐｅ 的概况。提出在国产系统中在Ｘ射线源前加置Ｘ射线准直器，Ｘ 射线影像增强器采用纤维光学输出窗和小孔径大面积微通道板，可以改普像质、扩大视场。

关键词 X射线 影像增强器 准直器 微通道板

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Si基体二维深通道微孔列阵刻蚀技术 被引量：2

20

作者 向嵘 王国政 +5 位作者 陈立 高延军 王新 李野 端木庆铎 田景全 《微纳电子技术》 CAS 2008年第12期729-733,共5页

Si材料二维深通道微孔列阵是新型二维通道电子倍增器的基体,其可以采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀和光电化学(PEC)刻蚀等半导体工艺技术实现。简述了ICP工艺原理和实验方法,给出了微孔直径6～10μm、长径比约20、平均刻蚀速率约1.0μm/... Si材料二维深通道微孔列阵是新型二维通道电子倍增器的基体,其可以采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀和光电化学(PEC)刻蚀等半导体工艺技术实现。简述了ICP工艺原理和实验方法,给出了微孔直径6～10μm、长径比约20、平均刻蚀速率约1.0μm/min的实验样品,指出了深通道内壁存在纵向条带不均匀分布现象、成因和解决途径;重点论述了微孔深通道列阵PEC刻蚀原理和实验方法,在优化的光电化学工艺参数下,得到了方孔边长3.0μm、中心距为6.0μm、深度约为160μm的n型Si基二维深通道微孔列阵基体样品,得出了辐照光强、Si基晶向与HF的质量分数是影响样品质量的结论,指出了光电化学刻蚀工艺的优越性。 展开更多

关键词 硅基体 二维通道电子倍增器 微孔列阵 感应耦合等离子体 光电化学刻蚀

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