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折衍混合系统实现长焦深方法研究
被引量:
3
1
作者
白临波
李展
+3 位作者
陈波
杜春雷
曾红军
郭履容
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期1-5,共5页
通过对传统能量守恒法设计长焦深元件进行介绍与分析 ,根据衍射元件设计灵活的特性 ,提出了改进的能量守恒法设计方法 ,利用折衍混合系统实现长焦深元件 ,并建立了优化的评价函数分两步对设计结果进行优化。
关键词
折衍混合系统
长焦深
能量守恒法
衍射元件
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职称材料
衍射微透镜列阵掩模制作软件的设计
被引量:
1
2
作者
白临波
邱传凯
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第5期23-26,共4页
研究了衍射微透镜列阵的设计方法及 CIF格式掩模数据的数据结构与生成方法 ,设计了一套实用软件 ,采用图形切割、跟踪计算等方法 ,解决了生成子孔径为矩形、六方形及圆环扇形的衍射微透镜列阵掩模的问题 ,满足了实际系统对衍射微透镜列...
研究了衍射微透镜列阵的设计方法及 CIF格式掩模数据的数据结构与生成方法 ,设计了一套实用软件 ,采用图形切割、跟踪计算等方法 ,解决了生成子孔径为矩形、六方形及圆环扇形的衍射微透镜列阵掩模的问题 ,满足了实际系统对衍射微透镜列阵子孔径形状的各种需求。
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关键词
衍射微透镜列阵
掩模
图形切割
软件开发
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职称材料
对称相位函数掩模化的研究
3
作者
白临波
杜春雷
李展
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000年第3期255-259,共5页
本文对各种连续对称相位函数及其特性进行了分析 ,讨论了相位函数的 2 π调制、2 N 和 N - 1法量化等问题及数据处理过程 ,提出二元衍射元件 CIF( Caltech IntermediateForm)格式掩模数据的生成方法 ,并建立了实用软件 。
关键词
相位函数
掩模化
激光直写
衍射光学元件
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职称材料
激光直写系统图形编辑软件
4
作者
白临波
孙国良
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期32-36,共5页
简要描述了一套针对激光直写系统,适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——MASK软件,简单介绍了其功能和结构。
关键词
激光直写
衍射光学元件
图形软件
计算机控制
激光光刻机
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职称材料
衍射微透镜列阵的研究与应用
被引量:
6
5
作者
杜春雷
周礼书
+3 位作者
邱传凯
白临波
王永茹
邓启凌
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998年第3期17-19,22,共4页
本文研究了衍射微透镜列阵的设计与制作工艺方法,在此基础上研制出一系列衍射微透镜列阵,衍射效率均大于85%,在深紫外、可见及红外波前传感器中得到了成功应用。
关键词
衍射透镜
衍射效率
激光直写
刻蚀
微透镜列阵
原文传递
ISI-2802激光直写系统及其应用
被引量:
6
6
作者
侯德胜
杜春雷
+1 位作者
邱传凯
白临波
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期27-31,共5页
介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等,并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。
关键词
激光直写
掩模
二元光学
激光光刻机
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职称材料
微透镜列阵与红外探测器列阵集成芯片的研究
被引量:
4
7
作者
杜春雷
邱传凯
+3 位作者
邓启凌
潘丽
白临波
王永茹
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期1-4,共4页
在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平...
在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平面集成芯片,并在热成像中取得了良好的结果。
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关键词
微透镜列阵
红外探测器
集成芯片
热成像
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职称材料
消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究
被引量:
3
8
作者
杜春雷
白临波
+2 位作者
邱传凯
王永茹
潘丽
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000年第5期426-430,共5页
本文研究菲涅耳谐衍射透镜的特性和工作条件 ,分析二元谐衍射透镜的衍射效率及制作要求 ,设计并研制了用于萨克 -哈特曼波前传感器的双波长共焦谐衍射微透镜列阵 ,得到了良好的应用效果 .
关键词
谐衍射透镜
多波长共焦
衍射效率
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职称材料
衍射光学元件表面形貌测量方法研究
被引量:
1
9
作者
周明宝
林大键
白临波
《光电工程》
CAS
CSCD
1998年第A12期29-33,共5页
提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的新型 DOE三维表面形貌测量方法 ,并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明 ,测量系统纵向分辨率为 0 .5 nm,横向分辨率约为 0 .5 μm(NA=0 .4) ,在整个纵向测量范围内重复测量精...
提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的新型 DOE三维表面形貌测量方法 ,并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明 ,测量系统纵向分辨率为 0 .5 nm,横向分辨率约为 0 .5 μm(NA=0 .4) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1 .3nm,满足了 DOE表面形貌测量的需要。
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关键词
衍射光学元件
面形测量
三维测量
相移干涉术
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职称材料
激光直写系统中的对准技术应用研究
10
作者
邱传凯
杜春雷
+1 位作者
白临波
周崇喜
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期98-103,共6页
基于ISI-2802型激光直写系统原有基片的多图形对准方法,针对衍射光学元件(DOE)图形的特点,通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验,产生了一套适于DOE图形套刻的对准方案。其对准误差小,达到了系统规定指...
基于ISI-2802型激光直写系统原有基片的多图形对准方法,针对衍射光学元件(DOE)图形的特点,通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验,产生了一套适于DOE图形套刻的对准方案。其对准误差小,达到了系统规定指标。并实验研制出了16位相台阶的DOE,取得了良好的效果。
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关键词
衍射光学元件
激光光刻机
激光直写
精密定位
对准精度
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职称材料
微透镜列阵提高红外探测器探测能力的方法研究
被引量:
11
11
作者
杜春雷
林祥棣
+5 位作者
周礼书
白临波
邱传凯
徐国森
方家雄
王继元
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第2期246-249,共4页
研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理 ,通过实验将锗微透镜列阵耦合到 180元HgCdTe焦平面红外探测器上 ,使耦合组件探测率提高到原来的 2 .8倍。提出的光学耦合效率概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供...
研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理 ,通过实验将锗微透镜列阵耦合到 180元HgCdTe焦平面红外探测器上 ,使耦合组件探测率提高到原来的 2 .8倍。提出的光学耦合效率概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供了一种新的方法。
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关键词
微透镜列阵
红外焦平面探测器
探测率
冷屏效应
光学耦合效率
微光学
原文传递
双光路双波长相移干涉显微法测量衍射光学元件形貌
12
作者
周明宝
林大键
白临波
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第6期843-846,共4页
衍射光学元件 (DOE)表面形貌的测量需要解决因表面结构深度较大和表面不连续给测量带来的困难。本文将双波长测量法的思想推广应用到不连续深结构表面的测量 ,并提出了一种新型数据处理方法 ,有效地克服了这些困难。理论分析和测量结果...
衍射光学元件 (DOE)表面形貌的测量需要解决因表面结构深度较大和表面不连续给测量带来的困难。本文将双波长测量法的思想推广应用到不连续深结构表面的测量 ,并提出了一种新型数据处理方法 ,有效地克服了这些困难。理论分析和测量结果表明 ,基于这些方法的三维表面形貌测量系统纵向分辨率为 0 .5nm,横向分辨率约为 0 .5μm(NA=0 .4 ) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1.3nm,满足了衍射光学元件表面形貌测量的需要。
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关键词
衍射光学元件
三维表面形貌
干涉显微镜
原文传递
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
被引量:
10
13
作者
曾红军
杜春雷
+5 位作者
王永茹
白临波
邓启凌
陈波
郭履容
袁景和
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期691-696,共6页
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制...
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
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关键词
连续微光学元件
光刻胶线性
面形控制
集成电路
原文传递
题名
折衍混合系统实现长焦深方法研究
被引量:
3
1
作者
白临波
李展
陈波
杜春雷
曾红军
郭履容
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期1-5,共5页
文摘
通过对传统能量守恒法设计长焦深元件进行介绍与分析 ,根据衍射元件设计灵活的特性 ,提出了改进的能量守恒法设计方法 ,利用折衍混合系统实现长焦深元件 ,并建立了优化的评价函数分两步对设计结果进行优化。
关键词
折衍混合系统
长焦深
能量守恒法
衍射元件
Keywords
Refraction diffraction hybrid system
Long focal depth
Energy conservation law
Evaluation functions
分类号
TN256 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
衍射微透镜列阵掩模制作软件的设计
被引量:
1
2
作者
白临波
邱传凯
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第5期23-26,共4页
文摘
研究了衍射微透镜列阵的设计方法及 CIF格式掩模数据的数据结构与生成方法 ,设计了一套实用软件 ,采用图形切割、跟踪计算等方法 ,解决了生成子孔径为矩形、六方形及圆环扇形的衍射微透镜列阵掩模的问题 ,满足了实际系统对衍射微透镜列阵子孔径形状的各种需求。
关键词
衍射微透镜列阵
掩模
图形切割
软件开发
Keywords
Diffractive microlens arrays
Software design
Mask data file
Pattern segmentation
分类号
TP311.52 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
TP391.41 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
对称相位函数掩模化的研究
3
作者
白临波
杜春雷
李展
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000年第3期255-259,共5页
文摘
本文对各种连续对称相位函数及其特性进行了分析 ,讨论了相位函数的 2 π调制、2 N 和 N - 1法量化等问题及数据处理过程 ,提出二元衍射元件 CIF( Caltech IntermediateForm)格式掩模数据的生成方法 ,并建立了实用软件 。
关键词
相位函数
掩模化
激光直写
衍射光学元件
Keywords
Phase function
Masking
Direct laser writing
CIF format
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
激光直写系统图形编辑软件
4
作者
白临波
孙国良
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期32-36,共5页
基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金
文摘
简要描述了一套针对激光直写系统,适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——MASK软件,简单介绍了其功能和结构。
关键词
激光直写
衍射光学元件
图形软件
计算机控制
激光光刻机
Keywords
Laser direct write,Diffractive optical elements,Graphics software,Computer control,Laser photoetching machines.
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
衍射微透镜列阵的研究与应用
被引量:
6
5
作者
杜春雷
周礼书
邱传凯
白临波
王永茹
邓启凌
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998年第3期17-19,22,共4页
文摘
本文研究了衍射微透镜列阵的设计与制作工艺方法,在此基础上研制出一系列衍射微透镜列阵,衍射效率均大于85%,在深紫外、可见及红外波前传感器中得到了成功应用。
关键词
衍射透镜
衍射效率
激光直写
刻蚀
微透镜列阵
Keywords
diffractive lens, diffractive efficiency, laser direct write, RIE etching.
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
ISI-2802激光直写系统及其应用
被引量:
6
6
作者
侯德胜
杜春雷
邱传凯
白临波
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期27-31,共5页
基金
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室基金
文摘
介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等,并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。
关键词
激光直写
掩模
二元光学
激光光刻机
Keywords
Laser direct write,Masks,Binary optics,Laser photoetching machines.
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
微透镜列阵与红外探测器列阵集成芯片的研究
被引量:
4
7
作者
杜春雷
邱传凯
邓启凌
潘丽
白临波
王永茹
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点开放实验室
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期1-4,共4页
基金
国防预研项目
文摘
在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平面集成芯片,并在热成像中取得了良好的结果。
关键词
微透镜列阵
红外探测器
集成芯片
热成像
Keywords
Detectors
Energy utilization
Infrared imaging
Silicon
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究
被引量:
3
8
作者
杜春雷
白临波
邱传凯
王永茹
潘丽
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000年第5期426-430,共5页
文摘
本文研究菲涅耳谐衍射透镜的特性和工作条件 ,分析二元谐衍射透镜的衍射效率及制作要求 ,设计并研制了用于萨克 -哈特曼波前传感器的双波长共焦谐衍射微透镜列阵 ,得到了良好的应用效果 .
关键词
谐衍射透镜
多波长共焦
衍射效率
Keywords
Multiorder diffractive lens
Achromatic at multi wavelength
Diffractive efficiency
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
TH74 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
衍射光学元件表面形貌测量方法研究
被引量:
1
9
作者
周明宝
林大键
白临波
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1998年第A12期29-33,共5页
文摘
提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的新型 DOE三维表面形貌测量方法 ,并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明 ,测量系统纵向分辨率为 0 .5 nm,横向分辨率约为 0 .5 μm(NA=0 .4) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1 .3nm,满足了 DOE表面形貌测量的需要。
关键词
衍射光学元件
面形测量
三维测量
相移干涉术
Keywords
Diffractive optical elements,Surface shape measurement,Three- dimensional measurement,Phase- shifting interferometry
分类号
TH740.3 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
激光直写系统中的对准技术应用研究
10
作者
邱传凯
杜春雷
白临波
周崇喜
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期98-103,共6页
基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金
文摘
基于ISI-2802型激光直写系统原有基片的多图形对准方法,针对衍射光学元件(DOE)图形的特点,通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验,产生了一套适于DOE图形套刻的对准方案。其对准误差小,达到了系统规定指标。并实验研制出了16位相台阶的DOE,取得了良好的效果。
关键词
衍射光学元件
激光光刻机
激光直写
精密定位
对准精度
Keywords
Diffractive optical elements,Laser photoetching machines,Laser direct write,Precision positioning,Alignment accuracy.
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
微透镜列阵提高红外探测器探测能力的方法研究
被引量:
11
11
作者
杜春雷
林祥棣
周礼书
白临波
邱传凯
徐国森
方家雄
王继元
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
中国科学院上海技术物理研究所
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第2期246-249,共4页
基金
国家科委 86 3高科技及国防预研等资助项目
文摘
研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理 ,通过实验将锗微透镜列阵耦合到 180元HgCdTe焦平面红外探测器上 ,使耦合组件探测率提高到原来的 2 .8倍。提出的光学耦合效率概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供了一种新的方法。
关键词
微透镜列阵
红外焦平面探测器
探测率
冷屏效应
光学耦合效率
微光学
Keywords
microlens array
infrared focal plane detector
detectivity
cooling shield effect
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
O439 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
双光路双波长相移干涉显微法测量衍射光学元件形貌
12
作者
周明宝
林大键
白临波
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第6期843-846,共4页
文摘
衍射光学元件 (DOE)表面形貌的测量需要解决因表面结构深度较大和表面不连续给测量带来的困难。本文将双波长测量法的思想推广应用到不连续深结构表面的测量 ,并提出了一种新型数据处理方法 ,有效地克服了这些困难。理论分析和测量结果表明 ,基于这些方法的三维表面形貌测量系统纵向分辨率为 0 .5nm,横向分辨率约为 0 .5μm(NA=0 .4 ) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1.3nm,满足了衍射光学元件表面形貌测量的需要。
关键词
衍射光学元件
三维表面形貌
干涉显微镜
Keywords
diffraction optical element, 3 D surface topography, interference microscope, phase shifting interferometry.
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
被引量:
10
13
作者
曾红军
杜春雷
王永茹
白临波
邓启凌
陈波
郭履容
袁景和
机构
中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
四川大学信息光学研究中心
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期691-696,共6页
基金
国家科委"九五"攻关项目资助
文摘
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
关键词
连续微光学元件
光刻胶线性
面形控制
集成电路
Keywords
continuous micro- optic element, linear property of photoresist, reciprocal e- quation, profile control
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
折衍混合系统实现长焦深方法研究
白临波
李展
陈波
杜春雷
曾红军
郭履容
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2001
3
下载PDF
职称材料
2
衍射微透镜列阵掩模制作软件的设计
白临波
邱传凯
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000
1
下载PDF
职称材料
3
对称相位函数掩模化的研究
白临波
杜春雷
李展
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000
0
下载PDF
职称材料
4
激光直写系统图形编辑软件
白临波
孙国良
《光电工程》
CAS
CSCD
1997
0
下载PDF
职称材料
5
衍射微透镜列阵的研究与应用
杜春雷
周礼书
邱传凯
白临波
王永茹
邓启凌
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998
6
原文传递
6
ISI-2802激光直写系统及其应用
侯德胜
杜春雷
邱传凯
白临波
《光电工程》
CAS
CSCD
1997
6
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职称材料
7
微透镜列阵与红外探测器列阵集成芯片的研究
杜春雷
邱传凯
邓启凌
潘丽
白临波
王永茹
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
4
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职称材料
8
消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究
杜春雷
白临波
邱传凯
王永茹
潘丽
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
2000
3
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职称材料
9
衍射光学元件表面形貌测量方法研究
周明宝
林大键
白临波
《光电工程》
CAS
CSCD
1998
1
下载PDF
职称材料
10
激光直写系统中的对准技术应用研究
邱传凯
杜春雷
白临波
周崇喜
《光电工程》
CAS
CSCD
1997
0
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职称材料
11
微透镜列阵提高红外探测器探测能力的方法研究
杜春雷
林祥棣
周礼书
白临波
邱传凯
徐国森
方家雄
王继元
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
11
原文传递
12
双光路双波长相移干涉显微法测量衍射光学元件形貌
周明宝
林大键
白临波
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
原文传递
13
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
曾红军
杜春雷
王永茹
白临波
邓启凌
陈波
郭履容
袁景和
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
10
原文传递
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