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GaN基材料生长及其在光电器件领域的应用
被引量:
4
1
作者
王三胜
顾彪
+3 位作者
徐茵
秦福文
窦宝锋
杨大智
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2002年第1期31-35,共5页
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大和介电常数小等特点,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。介绍了GaN基半导体材料的制备方法,异质结构...
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大和介电常数小等特点,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。介绍了GaN基半导体材料的制备方法,异质结构以及在光电子和微电子器件领域的应用,并讨论了今后的发展趋势。
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关键词
GAN
外延生长
掺杂
半导体器件
光电器件
半导体材料
制备
氮化镓
下载PDF
职称材料
GaN基材料及其在短波光电器件领域的应用
被引量:
2
2
作者
顾彪
王三胜
+5 位作者
徐茵
秦福文
窦宝锋
常久伟
邓祥
杨大智
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第3期104-110,共7页
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大、临界击穿电压高和介电常数小等特点 ,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。本文介绍了GaN基半导体材...
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大、临界击穿电压高和介电常数小等特点 ,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。本文介绍了GaN基半导体材料的各种特性、材料生长以及在光电器件领域的应用 。
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关键词
GAN
材料性质
外延生长
半导体器件
半导体材料
短波光电器件
氮化镓
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职称材料
Al_2O_3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法
3
作者
窦宝锋
顾彪
史庆军
《佳木斯大学学报(自然科学版)》
CAS
2002年第1期5-8,共4页
研究了 ECR- PAMOCVD在蓝宝石衬底上生长 Ga N外延层时衬底的清洗方法和缓冲层结构对于 Ga N晶体质量的影响 ,提出了新的衬底清洗方法和双缓冲层结构 .实验表明这种方法能够提供一个很好的生长基底 ,可以有效地改善 Ga
关键词
ECR-PAMOCVD
衬底
清洗方法
双缓冲层
AL2O3
三氧化二铝
GAN薄膜
氮化镓薄膜
低温生长
下载PDF
职称材料
题名
GaN基材料生长及其在光电器件领域的应用
被引量:
4
1
作者
王三胜
顾彪
徐茵
秦福文
窦宝锋
杨大智
机构
大连理工大学电气工程与应用电子技术系
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2002年第1期31-35,共5页
基金
国家863项目新材料领域课题(715-011-0033)
国家自然科学基金(69976008)
文摘
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大和介电常数小等特点,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。介绍了GaN基半导体材料的制备方法,异质结构以及在光电子和微电子器件领域的应用,并讨论了今后的发展趋势。
关键词
GAN
外延生长
掺杂
半导体器件
光电器件
半导体材料
制备
氮化镓
Keywords
GaN,epitaxy growth,doping,semiconductor devices
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
GaN基材料及其在短波光电器件领域的应用
被引量:
2
2
作者
顾彪
王三胜
徐茵
秦福文
窦宝锋
常久伟
邓祥
杨大智
机构
大连理工大学电气工程与应用电子技术系
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第3期104-110,共7页
基金
86 3计划 ( 86 3 715 0 11 0 0 33)
国家自然科学基金 ( 6 9976 0 0 8)资助项目
文摘
GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大、临界击穿电压高和介电常数小等特点 ,在高亮度发光二极管、短波长激光二极管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景。本文介绍了GaN基半导体材料的各种特性、材料生长以及在光电器件领域的应用 。
关键词
GAN
材料性质
外延生长
半导体器件
半导体材料
短波光电器件
氮化镓
Keywords
GaN, Materials characteristics, Epitaxy growth, Semiconductor devices
分类号
TN36 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
Al_2O_3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法
3
作者
窦宝锋
顾彪
史庆军
机构
大连理工大学电气工程与应用电子技术系
佳木斯大学信息电子技术学院
出处
《佳木斯大学学报(自然科学版)》
CAS
2002年第1期5-8,共4页
基金
国家自然科学基金项目 (项目号 695 760 0 3 )
文摘
研究了 ECR- PAMOCVD在蓝宝石衬底上生长 Ga N外延层时衬底的清洗方法和缓冲层结构对于 Ga N晶体质量的影响 ,提出了新的衬底清洗方法和双缓冲层结构 .实验表明这种方法能够提供一个很好的生长基底 ,可以有效地改善 Ga
关键词
ECR-PAMOCVD
衬底
清洗方法
双缓冲层
AL2O3
三氧化二铝
GAN薄膜
氮化镓薄膜
低温生长
Keywords
ECR-PAMOCVD
cleaning method of substrate
double buffer structure
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
GaN基材料生长及其在光电器件领域的应用
王三胜
顾彪
徐茵
秦福文
窦宝锋
杨大智
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2002
4
下载PDF
职称材料
2
GaN基材料及其在短波光电器件领域的应用
顾彪
王三胜
徐茵
秦福文
窦宝锋
常久伟
邓祥
杨大智
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002
2
下载PDF
职称材料
3
Al_2O_3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法
窦宝锋
顾彪
史庆军
《佳木斯大学学报(自然科学版)》
CAS
2002
0
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职称材料
已选择
0
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