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离子束辅助沉积对类金刚石膜结构影响的计算机模拟 被引量:5
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作者 李之杰 潘正瑛 +5 位作者 朱靖 魏启 王月霞 臧亮坤 周亮 刘提将 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期2233-2238,共6页
采用分子动力学 (MD)模拟研究了离子束辅助沉积 (1BAD)生长类金刚石 (DLC)膜的物理过程 .分别选C2 分子和Ar离子作为沉积源和辅助沉积粒子 .改变Ar的入射能量和到达比 (Ar/C) ,研究了它对DLC膜结构的影响 .重点讨论了Ar辅助沉积引起表... 采用分子动力学 (MD)模拟研究了离子束辅助沉积 (1BAD)生长类金刚石 (DLC)膜的物理过程 .分别选C2 分子和Ar离子作为沉积源和辅助沉积粒子 .改变Ar的入射能量和到达比 (Ar/C) ,研究了它对DLC膜结构的影响 .重点讨论了Ar辅助沉积引起表面原子的瞬间活性变化对薄膜结构产生的影响 .分析表明 ,由于Ar离子的轰击引起的能量和动量的传递 ,大大地增强了C原子在表面的反冲动能及迁移概率 ,增加了合成薄膜的SP3键含量 .研究结果和实验观察一致 ,并从合成机理上给出了一些定量解释 . 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 离子束辅助沉积 分子动力学 计算机模拟
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