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微纳尺度电气击穿特性和放电规律研究综述 被引量:22
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作者 成永红 孟国栋 董承业 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2017年第2期13-23,共11页
微纳尺度电气击穿特性和放电规律是当前国内外学者的研究热点。本文回顾了近70年来国内外学者在该领域的主要研究工作和成果,重点从研究手段、放电规律以及物理机制等方面对不同物理尺度介电系统(宏观尺度电极/微米间隙、微米尺度电极/... 微纳尺度电气击穿特性和放电规律是当前国内外学者的研究热点。本文回顾了近70年来国内外学者在该领域的主要研究工作和成果,重点从研究手段、放电规律以及物理机制等方面对不同物理尺度介电系统(宏观尺度电极/微米间隙、微米尺度电极/微米亚微米间隙、纳米尺度电极/纳米亚纳米间隙)的放电击穿特性进行了总结,阐述了电极间隙、气压、电极材料和电极形状等因素的影响机制以及不同物理尺度介电系统的放电规律。通过对微纳尺度电气击穿特性和放电规律的概括和分析,发现当前存在的主要问题并指出下一步的研究方向,对丰富和完善微纳尺度放电击穿理论具有重要参考意义。 展开更多
关键词 微纳尺度 电气击穿 放电规律 Paschen曲线 Townsend雪崩击穿 场致发射
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基于FIB-SEM双束系统的纳尺度真空间隙电学特性原位实验装置
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作者 孟国栋 董承业 +1 位作者 门闯 成永红 《电子显微学报》 CAS CSCD 2016年第6期526-532,共7页
纳米尺度真空电气击穿与绝缘特性研究是高电压与绝缘技术领域的前沿课题。一方面,随着微纳尺度加工技术的不断发展,电气部件和电子器件的特征物理尺寸已经逐步降低到微米、纳米甚至是分子原子尺度,并且在军事和民用领域得到越来越广泛... 纳米尺度真空电气击穿与绝缘特性研究是高电压与绝缘技术领域的前沿课题。一方面,随着微纳尺度加工技术的不断发展,电气部件和电子器件的特征物理尺寸已经逐步降低到微米、纳米甚至是分子原子尺度,并且在军事和民用领域得到越来越广泛的应用;另一方面,传统的放电击穿理论和绝缘性能评价方法无法用来解释和预估微纳尺度的放电特性和绝缘水平。因此,本文基于聚焦离子束和扫描电子显微镜(FIB-SEM)双束系统,借助纳米压电位移技术和微弱电流测量技术,建立了纳尺度真空间隙电学特性的原位研究系统。该系统不仅能够进行微纳尺度(曲率半径为15 nm^10μm)金属电极的原位加工,材料组成成分的定量分析,而且可以实现纳尺度真空间隙(>20 nm)的放电特性研究,为纳尺度击穿规律和绝缘特性的实验研究提供了有力的支撑。 展开更多
关键词 FIB-SEM双束系统 纳尺度真空间隙 电气击穿 原位研究
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Experimental Study on Electrical Breakdown for Devices with Micrometer Gaps 被引量:2
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作者 孟国栋 成永红 +1 位作者 董承业 吴锴 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第12期1083-1089,共7页
The understanding of electrical breakdown in atmospheric air across micrometer gaps is critically important for the insulation design of micro & nano electronic devices.In this paper,planar aluminum electrodes wit... The understanding of electrical breakdown in atmospheric air across micrometer gaps is critically important for the insulation design of micro & nano electronic devices.In this paper,planar aluminum electrodes with gaps ranging from 2 μm to 40 μm were fabricated by microelectromechanical system technology.The influence factors including gap width and surface dielectric states were experimentally investigated using the home-built test and measurement system.Results showed that for SiO_2 layers the current sustained at 2-3 nA during most of the pre-breakdown period,and then rose rapidly to 10-30 nA just before breakdown due to field electron emission,followed by the breakdown.The breakdown voltage curves demonstrated three stages:(1) a constantly decreasing region(the gap width d <5 μm),where the field emission effect played an important role just near breakdown,supplying enough initial electrons for the breakdown process;(2) a plateau region with a near constant breakdown potential(5 μm< d <10 μm);(3)a region for large gaps that adhered to Paschen's curve(d>10 μm).And the surface dielectric states including the surface resistivity and secondary electron yield were verified to be related to the propagation of discharge due to the interaction between initial electrons and dielectrics. 展开更多
关键词 电击穿 实验 差距 千分尺 场致电子发射 表面电阻率 设备 二氧化硅层
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