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脉冲激光沉积过程中TiO_(2)等离子体状态诊断及薄膜特性的研究
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作者 王源 高亚青 +2 位作者 蔡芸丽 苏茂根 董晨钟 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2024年第2期51-57,共7页
脉冲激光沉积技术由于具有较高的沉积速率和良好的兼容性,已广泛应用于各种纳米薄膜材料的制备.探究激光等离子体状态与沉积薄膜特性之间的关系,有助于进一步调控与优化脉冲激光技术对薄膜材料的沉积.本文将等离子体状态诊断与沉积薄膜... 脉冲激光沉积技术由于具有较高的沉积速率和良好的兼容性,已广泛应用于各种纳米薄膜材料的制备.探究激光等离子体状态与沉积薄膜特性之间的关系,有助于进一步调控与优化脉冲激光技术对薄膜材料的沉积.本文将等离子体状态诊断与沉积薄膜性能相结合,讨论了不同脉冲激光能量下等离子体状态对沉积薄膜性能的影响.结果表明,低烧蚀能量下产生的等离子体更有助于获得质地更好,且与靶材晶相一致的优良薄膜材料.该结果也为探索和调控沉积过程提供参考. 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 激光等离子体诊断 光学发射光谱 TiO_(2)薄膜表征
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