ITO薄膜的制备及其光电特性研究 被引量：14

1

作者 辛荣生 林钰 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期39-41,共3页

采用直流磁控溅射法,分别用ITO陶瓷靶、In-Sn合金靶,在玻璃基片上镀膜。研究ITO透明导电膜其膜厚、靶材、溅射气压和溅射速率等工艺对光电特性的影响。结果表明,采用陶瓷靶镀膜要比合金靶效果好,膜厚70nm以上、溅射气压0.45Pa和溅射速率... 采用直流磁控溅射法,分别用ITO陶瓷靶、In-Sn合金靶,在玻璃基片上镀膜。研究ITO透明导电膜其膜厚、靶材、溅射气压和溅射速率等工艺对光电特性的影响。结果表明,采用陶瓷靶镀膜要比合金靶效果好,膜厚70nm以上、溅射气压0.45Pa和溅射速率23nm/min左右为最佳工艺条件,并得到了ITO薄膜电阻率1.8×10–4Ω.cm、可见光透过率80%以上。 展开更多

关键词 半导体技术 ITO膜 磁控溅射 电阻率 透光率

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ITO薄膜厚度和含氧量对其结构与性能的影响 被引量：12

2

作者 辛荣生 林钰 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第7期21-23,共3页

在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜,采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与薄膜厚度和氧含量的关系,并测量了薄膜电阻率及透光率分别随膜厚和氧含量的变化情况。以低氧氩流量比(1/40)并控制膜厚在70nm以上进行镀膜... 在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜,采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与薄膜厚度和氧含量的关系,并测量了薄膜电阻率及透光率分别随膜厚和氧含量的变化情况。以低氧氩流量比(1/40)并控制膜厚在70nm以上进行镀膜,获得了结晶性好、电阻率低且透光率高的ITO透明半导体薄膜,所镀制的ITO膜电阻率降到1.8×10–4?·cm,可见光透光率达80%以上。 展开更多

关键词 无机非金属材料 ITO膜 氧氩流量比 电阻率 透光率

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工艺条件对直流磁控溅射沉积ITO薄膜光电特性的影响 被引量：5

3

作者 辛荣生 林钰 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期931-933,共3页

研究了采用直流磁控溅射法制备ITO透明导电膜时温度、靶材、氧压比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ITO膜电阻率和可见光透过率等光电特性的影响。实验结果表明,用ITO陶瓷靶溅射镀膜要比In-Sn合金靶好,特别是在电阻率上,前者要低一个... 研究了采用直流磁控溅射法制备ITO透明导电膜时温度、靶材、氧压比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ITO膜电阻率和可见光透过率等光电特性的影响。实验结果表明,用ITO陶瓷靶溅射镀膜要比In-Sn合金靶好,特别是在电阻率上,前者要低一个数量级左右;并由实验结果得到,当温度330℃,氧氩比1/40,溅射气压0.45 Pa和溅射速率23 nm.min-1左右时,可获得薄膜电阻率1.8×10-4Ω.cm,可见光透过率80%以上的最佳光电特性参数。 展开更多

关键词 磁控溅射 ITO膜 电阻率 透光率

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磁控溅射Nb掺杂TiO_2薄膜的研究 被引量：2

4

作者 辛荣生 苏雷生 +1 位作者 林钰 姚志强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期521-526,共6页

用射频/直流溅射法研制了铌掺杂TiO_2透明导电薄膜。实验结果表明:Nb以正五价态掺入TiO_2晶格中,随着Nb掺杂量的逐渐增加,薄膜的电阻率出现先降后升的变化,在掺杂溅射功率为40 W时,薄膜电阻率降至7.3×10-4Ω·cm,可见光透过率... 用射频/直流溅射法研制了铌掺杂TiO_2透明导电薄膜。实验结果表明:Nb以正五价态掺入TiO_2晶格中,随着Nb掺杂量的逐渐增加,薄膜的电阻率出现先降后升的变化,在掺杂溅射功率为40 W时,薄膜电阻率降至7.3×10-4Ω·cm,可见光透过率高达86%以上。并且,Nb掺杂使TiO_2薄膜的吸收限产生了蓝移,随着Nb掺杂量的增加,薄膜蓝移程度逐渐增大,说明该TiO_2薄膜为n型掺杂。研究认为,控制Nb掺杂量达最佳时,使晶格中产生较多的载流子,以及良好晶体结构产生较大的载流子迁移率,能使Nb掺杂TiO_2透明导电薄膜的性能参数得到有效改善。 展开更多

关键词 磁控溅射 Nb掺杂 TIO2薄膜 结构 光电性能

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氧含量对磁控溅射Nb掺杂TiO_2薄膜结构与性能的影响 被引量：2

5

作者 辛荣生 林钰 +1 位作者 董林 苏雷生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期255-259,共5页

采用三靶磁控共溅射法在玻璃衬底上制备了Nb掺杂TiO_2透明导电薄膜。研究了在不同氧含量时薄膜的结构和光电性能。实验结果表明:氧含量的变化能改变Nb掺杂TiO_2薄膜晶体的晶粒尺寸、表面形貌、透光率和电阻率,当溅射氩气中通入2%氧气时... 采用三靶磁控共溅射法在玻璃衬底上制备了Nb掺杂TiO_2透明导电薄膜。研究了在不同氧含量时薄膜的结构和光电性能。实验结果表明:氧含量的变化能改变Nb掺杂TiO_2薄膜晶体的晶粒尺寸、表面形貌、透光率和电阻率,当溅射氩气中通入2%氧气时,可得到性能最佳的锐钛矿相Nb掺杂TiO_2薄膜,所得薄膜可见光透过率高达80%,电阻率降至2.5×10^(-3)Ωcm。并且,Nb掺杂导致了TiO_2薄膜的吸收限产生蓝移,且蓝移程度随氧含量的改变而有所不同。研究认为,氧含量改变了Nb掺杂TiO_2薄膜晶体的结构形貌以及Nb杂质和氧空位提供的有效载流子浓度,从而直接影响了Nb掺杂TiO_2薄膜的光电性能。 展开更多

关键词 磁控溅射 氧含量 NTO薄膜 结构 光电性能

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工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响 被引量：2

6

作者 辛荣生 林钰 贾晓林 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期43-45,共3页

采用直流磁控溅射法在柔性衬底上镀制ITO透明导电薄膜,全面研究了薄膜厚度、氧气流量、溅射速率、溅射气压和镀膜温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,当膜厚大于80nm、氧氩体积比为1∶40、溅射速率为5nm/min、溅射气压在0... 采用直流磁控溅射法在柔性衬底上镀制ITO透明导电薄膜,全面研究了薄膜厚度、氧气流量、溅射速率、溅射气压和镀膜温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,当膜厚大于80nm、氧氩体积比为1∶40、溅射速率为5nm/min、溅射气压在0.5Pa左右、镀膜温度为80～160℃时,ITO薄膜的光电性能较好,其电阻率小于5×10–4?·cm、可见光透光率大于80%。 展开更多

关键词 DC磁控溅射 柔性衬底 ITO薄膜 电阻率 透光率

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磁控溅射法镀制红外低辐射膜的研究进展 被引量：4

7

作者 辛荣生 林钰 《真空》 CAS 北大核心 2008年第5期42-45,共4页

本文介绍了采用磁控溅射法在玻璃和柔性衬底上镀制红外低辐射薄膜的研究进展。根据国内外的研究现状,对薄膜的节能原理、制备方法、膜层结构及其光学、热学性能进行了综述,较详细地论述了目前低辐射薄膜研究中较为突出的金属银氧化和介... 本文介绍了采用磁控溅射法在玻璃和柔性衬底上镀制红外低辐射薄膜的研究进展。根据国内外的研究现状,对薄膜的节能原理、制备方法、膜层结构及其光学、热学性能进行了综述,较详细地论述了目前低辐射薄膜研究中较为突出的金属银氧化和介质层增透的问题。 展开更多

关键词 低辐射薄膜 磁控溅射 可见光透过率 红外反射

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薄膜厚度对ITO膜结构与性能的影响 被引量：3

8

作者 辛荣生 林钰 《真空》 CAS 北大核心 2007年第5期22-24,共3页

本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析,并测量了薄膜电阻率及透光率随薄膜厚度的变化情况。实验结果表明,当控制薄膜厚度达70nm以上时,可获得结晶性好、电阻率... 本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析,并测量了薄膜电阻率及透光率随薄膜厚度的变化情况。实验结果表明,当控制薄膜厚度达70nm以上时,可获得结晶性好、电阻率低和透光率高的ITO透明导电薄膜,所镀制的ITO膜电阻率已降到1.8×10-4Ωcm,可见光透过率达80%以上。最后还对所镀制的ITO透明导电薄膜的质量指标作了评估。 展开更多

关键词 磁控溅射 ITO膜 膜厚 电阻率 透光率

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工艺对磁控溅射ZAO薄膜光电特性的影响 被引量：1

9

作者 辛荣生 林钰 贾晓林 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第9期49-51,共3页

在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ZAO透明导电膜,研究了温度、氧压比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ZAO膜电阻率和可见光透过率等光电特性的影响。实验结果表明,当温度470℃、氧氩比0.5/40、溅射气压0.5Pa和镀膜速率3.6nm/min... 在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ZAO透明导电膜,研究了温度、氧压比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ZAO膜电阻率和可见光透过率等光电特性的影响。实验结果表明,当温度470℃、氧氩比0.5/40、溅射气压0.5Pa和镀膜速率3.6nm/min左右时,可获得薄膜电阻率7.2×10–4?·cm、可见光透过率85%以上的最佳光电特性参数。 展开更多

关键词 无机非金属材料 磁控溅射 ZAO膜 电阻率 透过率

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氧含量对磁控溅射FTO透明导电薄膜结构与性能的影响 被引量：1

10

作者 辛荣生 林钰 +1 位作者 李慧灵 董林 《河南教育学院学报（自然科学版）》 2018年第3期25-29,共5页

采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)、紫外可见光谱(UVvis)、双电测四探针仪和霍尔效应测试系统对薄膜的结构和性能进行了表征.实验结果表明:氧含量的变化能改变FTO薄膜的晶体结构和光电性能,当溅射... 采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)、紫外可见光谱(UVvis)、双电测四探针仪和霍尔效应测试系统对薄膜的结构和性能进行了表征.实验结果表明:氧含量的变化能改变FTO薄膜的晶体结构和光电性能,当溅射氩气中通入4%含量的氧气时,可得到性能最佳的金红石相FTO薄膜,所得薄膜可见光透过率高达90%以上,电阻率降至7. 8×10-4Ω·cm.并且,FTO薄膜的吸收限产生蓝移,且蓝移程度随氧含量的改变而有所不同. 展开更多

关键词 磁控溅射 氧含量 FTO薄膜 结构 光电性能

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Fz硅气相掺杂(GGD)的计算方法 被引量：2

11

作者 辛荣生 张国平 +1 位作者 林钰 徐恩霞 《郑州大学学报（自然科学版）》 1998年第4期27-30,共4页

根据区熔（Ｆｚ）硅ＧＧＤ法的生长模式，进一步推算出其掺杂浓度的轴向分布及其均匀分布所需的预掺杂时间，所得计算结果与实验值非常接近．

关键词 掺杂浓度 熔区 预掺杂时间 气相掺杂 硅

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非机类机械设计基础课程教学方法的研究 被引量：2

12

作者 辛荣生 《河南教育学院学报（自然科学版）》 2012年第1期61-63,共3页

根据实际教学经验,研究了非机类机械设计基础课程的教学方法,并提出了重视新内容的引入、坚持理论与实际相结合、强化多媒体课件中的动画演示等相应的教学措施.

关键词 机械设计基础 实践性 多媒体动画 灵活教学 教学方法

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太阳能电池用FTO/NTO复合薄膜的研究

13

作者 辛荣生 林钰 +1 位作者 李慧灵 苏雷生 《河南教育学院学报（自然科学版）》 2019年第1期59-62,共4页

采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO/NTO复合薄膜.通过紫外可见光谱(UV-vis)、双电测四探针仪和电化学工作站对薄膜的光电性能进行表征,测量并分析了NTO阻挡层(兼作传输层)厚度改变对FTO/NTO复合薄膜组装器件光电性能的影响.实验结果... 采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了FTO/NTO复合薄膜.通过紫外可见光谱(UV-vis)、双电测四探针仪和电化学工作站对薄膜的光电性能进行表征,测量并分析了NTO阻挡层(兼作传输层)厚度改变对FTO/NTO复合薄膜组装器件光电性能的影响.实验结果表明:阻挡层厚度的变化能改变光生载流子的寿命,当NTO薄膜厚度为90 nm时,光生载流子寿命最高,阻挡层抑制光生载流子复合的效果最好; FTO/NTO复合薄膜的可见光透过率可达84%以上,同时能满足正向电子传输的导电要求. 展开更多

关键词 磁控溅射 FTO/NTO复合薄膜 NTO薄膜厚度 阻挡层 光电性能

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ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究 被引量：15

14

作者 陶海华 姚宁 +2 位作者 辛荣生 边超 张兵临 《郑州大学学报（理学版）》 CAS 2003年第4期37-40,共4页

论述了高温直流磁控反应溅射法制备ITO透明导电薄膜时氧分压、溅射气压和溅射电流等参数对其光电特性的影响 .当氧分压、溅射气压和溅射电流过高或过低时 ,会导致金属In ,InO ,SnO和Sn3 O4等物质以及晶体缺陷的生成 ,从而降低ITO薄膜的... 论述了高温直流磁控反应溅射法制备ITO透明导电薄膜时氧分压、溅射气压和溅射电流等参数对其光电特性的影响 .当氧分压、溅射气压和溅射电流过高或过低时 ,会导致金属In ,InO ,SnO和Sn3 O4等物质以及晶体缺陷的生成 ,从而降低ITO薄膜的导电性或可见光透过率 ,甚至同时降低其光电性能 .实验结果表明 ,当Ar流量为 4 0 2cm3 ·min-1、温度为 36 0℃和旋转溅射时间为 90min等参数保持不变时 ,ITO薄膜光电特性最佳溅射参数的氧流量为 0 4 2cm3 ·min-1,溅射气压为 0 5Pa ,溅射电流 0 3A(溅射电压约为 2 4 5V ) ,所得薄膜的方块电阻为 5 7Ω、波长为 5 5 0nm的绿光透过率达到 88 6 % (洁净玻璃基底的绿光透光率为 91 6 % ) . 展开更多

关键词 ITO透明导电薄膜 制备 光电特性 直流磁控反应溅射法 透过率 氧化铟锡

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金刚石表面化学镀镍工艺 被引量：21

15

作者 仝奎 徐恩霞 +1 位作者 辛荣生 潘月红 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期19-20,共2页

对金刚石表面化学镀镍金属化工艺及其影响因素进行研究，并探讨了相关工艺条件对金刚石性能的影响。结果表明，化学镀镍层能显著提高金刚石的热稳定性和抗氧化温度。

关键词 表面金属化 化学镀镍 金刚石 镀镍 工艺 电镀

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磁控溅射掺铜TiO_2薄膜光学特性的分析 被引量：6

16

作者 胡斌 林钰 +3 位作者 董林 姚志强 田莉 辛荣生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期74-78,共5页

采用射频/直流磁控共溅射法制备不同Cu掺杂量的氧化钛薄膜,研究了Cu掺杂对TiO2膜吸收边红移的影响,并探索其机理。发现当TiO2溅射功率为160 W,Cu溅射功率为30 W时,TiO2薄膜的吸收边红移最为明显,至420 nm左右。X射线衍射(XRD)结果表明:... 采用射频/直流磁控共溅射法制备不同Cu掺杂量的氧化钛薄膜,研究了Cu掺杂对TiO2膜吸收边红移的影响,并探索其机理。发现当TiO2溅射功率为160 W,Cu溅射功率为30 W时,TiO2薄膜的吸收边红移最为明显,至420 nm左右。X射线衍射(XRD)结果表明:500℃下退火处理得到的薄膜主要为锐钛矿相,但随着Cu掺量的提高,薄膜XRD衍射峰明显宽化,结晶性变差,将会在TiO2薄膜晶体中引入缺陷。X射线光电子谱结果表明:Cu以2+价存在,并掺杂进入TiO2晶格,引入受主杂质能级。结论认为Cu掺杂形成的缺陷能级和杂质能级是导致TiO2薄膜光吸收边拓展至可见光区域的原因。 展开更多

关键词 磁控溅射 CU掺杂 TIO2薄膜 吸收限红移

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“无机材料科学与性能实验”课程教学探讨 被引量：6

17

作者 朱玲玲 周颖 +3 位作者 毋雪梅 辛荣生 孙春晖 叶国田 《实验技术与管理》 CAS 北大核心 2017年第2期183-185,共3页

以"水泥浆体水化过程中pH值的测定""水泥浆体水化过程中黏度的测定"和"陶瓷浆体ζ-电位的测定"实验为例,对材料科学与工程专业"无机材料科学与性能实验"课程的教学现状及问题进行了分析与探讨... 以"水泥浆体水化过程中pH值的测定""水泥浆体水化过程中黏度的测定"和"陶瓷浆体ζ-电位的测定"实验为例,对材料科学与工程专业"无机材料科学与性能实验"课程的教学现状及问题进行了分析与探讨。通过优化实验内容设置、构建高效"教"与"学"机制、改革考核方式、强调科研习惯养成等改革措施,将"教"与"学"互动贯穿整个实验教学,充分调动了学生参与课程实验的积极性和主动性。 展开更多

关键词 无机非金属材料 课程实验 教学改革

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淀积温度和氧含量对ITO膜结构及性能的影响 被引量：10

18

作者 林钰 辛荣生 贾晓林 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期510-512,共3页

在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜 ,采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与温度和氧含量的关系 ,并测量分析了薄膜电阻率及透光率分别随温度和氧含量的变化情况。所镀制的ITO膜电阻率已降到 <2× 10 - 4Ω&... 在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜 ,采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与温度和氧含量的关系 ,并测量分析了薄膜电阻率及透光率分别随温度和氧含量的变化情况。所镀制的ITO膜电阻率已降到 <2× 10 - 4Ω·cm ,可见光透过率达 80 %以上。 展开更多

关键词 半导体 ITO膜 磁控溅射

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以“挑战杯”科技活动为载体推动大学生创新创业能力培养的研究与思考 被引量：11

19

作者 张宗涛 辛荣生 +4 位作者 李冰 周颖 王宇 董林 贾晓林 《河南教育学院学报（自然科学版）》 2015年第3期70-73,共4页

"挑战杯"是目前国内影响最为广泛的大学生科技创新活动,在引导和促进学生科学思维、创新精神和实践能力等方面具有重要的意义.分析"挑战杯"科技活动的现状及制约因素,探讨构建科学合理的长效发展机制,将有助于高校... "挑战杯"是目前国内影响最为广泛的大学生科技创新活动,在引导和促进学生科学思维、创新精神和实践能力等方面具有重要的意义.分析"挑战杯"科技活动的现状及制约因素,探讨构建科学合理的长效发展机制,将有助于高校从顶层设计出发,稳步推动学生创新创业能力发展. 展开更多

关键词 大学生教育 科技活动 挑战杯 创新创业培养

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银系红外低辐射膜的结构与光学性能分析 被引量：6

20

作者 蔡彬 辛荣生 +1 位作者 石帅哲 林钰 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期1863-1866,共4页

采用直流磁控溅射法在玻璃基底上镀制了银系红外低辐射薄膜,实验结果表明,设计良好的多层薄膜在远红外区比单层银膜具有更好的反射性能,所制备薄膜的可见光透过率已达80%以上、远红外波段辐射率已降至0.11。用原子力显微镜(AFM)观测的... 采用直流磁控溅射法在玻璃基底上镀制了银系红外低辐射薄膜,实验结果表明,设计良好的多层薄膜在远红外区比单层银膜具有更好的反射性能,所制备薄膜的可见光透过率已达80%以上、远红外波段辐射率已降至0.11。用原子力显微镜(AFM)观测的结果表明,溅射在TiO2和NiCr膜上的厚约10nm的银层形成连续均匀的薄膜结构,而单层银膜在这样的厚度下一般以不连续的孤岛状形式存在;同时通过对样品的AFM形貌进行分析,得到该复合膜系表面的粗糙度有效值为1.03nm,可显著降低薄膜的光学吸收和光学散射作用,从而也有利于提高薄膜的可见光透射率和远红外反射率。 展开更多

关键词 磁控溅射 银膜 低辐射 可见光透过率 远红外反射率

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