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基于PLC控制的晶圆检测系统的设计与实现
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作者 邹春太 张军 《今日自动化》 2024年第1期134-136,共3页
文章设计了晶圆检测系统,用于晶片盒中晶圆位置状态的检测.通过重复测试,验证了本晶圆检测系统在检测晶圆在晶片盒中位置状态和晶圆数量的准确性,达到了预期设计要求.
关键词 晶圆位置检测 伺服电机 反馈 数据处理
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兆声波功率计的设计与应用
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作者 邹春太 张军 《现代制造技术与装备》 2023年第3期30-32,共3页
基于STM32单片机控制的兆声波功率计,主要用于喷胶机兆声波发生器功率检测。首先,进行功率计的硬件设计,采集兆声波发生器的输出电压和输出电流,经模拟乘法器芯片转换后,采用电阻-电容(Resistor-Capacitance,RC)滤波方法获得稳定输出,... 基于STM32单片机控制的兆声波功率计,主要用于喷胶机兆声波发生器功率检测。首先,进行功率计的硬件设计,采集兆声波发生器的输出电压和输出电流,经模拟乘法器芯片转换后,采用电阻-电容(Resistor-Capacitance,RC)滤波方法获得稳定输出,通过模拟/数字(Analog/Digital,A/D)转换器采样芯片转换成单片机可以识别的数字量信号。其次,经过单片机数据处理,将兆声波发生器的输出功率值显示在数码管上,同时支持上位机通过RS-232串口查询功率数据。最后,通过实验测试验证了设计的功率计达到了兆声波发生器输出功率的检测要求。 展开更多
关键词 兆声波功率计 单片机 喷胶机
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WEE系统的设计与应用
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作者 苗涛 张军 邹春太 《中国高新科技》 2020年第2期53-55,共3页
文章设计了WEE系统,用于晶圆的边缘曝光工艺需求。首先进行了WEE系统的硬件设计;运用最小二乘法计算得到晶圆的圆心,运用几何旋转-平移变换获得晶圆切口位置角度;构建运动控制器的正逆解运动学方程,实现曝光轨迹的圆弧、直线运动控制;... 文章设计了WEE系统,用于晶圆的边缘曝光工艺需求。首先进行了WEE系统的硬件设计;运用最小二乘法计算得到晶圆的圆心,运用几何旋转-平移变换获得晶圆切口位置角度;构建运动控制器的正逆解运动学方程,实现曝光轨迹的圆弧、直线运动控制;通过对晶圆涂胶、曝光、烘烤、显影等工艺过程,验证晶圆边缘曝光工艺,实验结果验证了本WEE系统设计达到了标准工艺指标。 展开更多
关键词 边缘曝光 最小二乘法 运动控制 工艺
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