在ITO玻璃衬底上制备锆钛酸铅铁电薄膜 被引量：4

1

作者 阎鹏勋 谢亮 +2 位作者 李义 王君 蒋生蕊 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期407-411,共5页

利用射频反应性溅射沉积技术在掺Sn的In2 O3导电透明膜(ITO)衬底上制备了钙钛矿型Pb(Zr,Ti)O3(PZT)铁电薄膜 .研究了沉积参量与热处理工艺对铁电薄膜结构和性能的影响 .运用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜等技术 ,分析了薄膜的... 利用射频反应性溅射沉积技术在掺Sn的In2 O3导电透明膜(ITO)衬底上制备了钙钛矿型Pb(Zr,Ti)O3(PZT)铁电薄膜 .研究了沉积参量与热处理工艺对铁电薄膜结构和性能的影响 .运用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜等技术 ,分析了薄膜的晶体结构、表面形貌和表面元素化学状态 .测量了不同处理条件下薄膜的铁电性能 .结果表明 :在掺Sn的In2 O3导电透明膜衬底上可以得到表面无裂纹、化学计量比符合要求的PZT薄膜 ;薄膜中晶粒均匀分布 ,平均尺寸约 2 50nm ,呈四方状和三角状 ;溅射气氛中氧含量和退火温度对薄膜结构、化学计量比和铁电性能都有明显影响 . 展开更多

关键词 锆钛酸铅薄膜 氧化铟 溅射沉积 ITO 铁电薄膜

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脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度 被引量：5

2

作者 阎鹏勋 杨思泽 陈熙琛 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第11期B503-B507,共5页

本文用脉冲高能量密度等离子体技术，在室温条件下，成功地在ＧＣｒ１５钢表面沉积了性能良好的氮化钛薄膜。用自动划痕试验仪测量了氮化钛薄膜的结合强度。研究结果表明：表征薄膜结合强度的临界载荷有相当高的值；氮化钛薄膜的临界载... 本文用脉冲高能量密度等离子体技术，在室温条件下，成功地在ＧＣｒ１５钢表面沉积了性能良好的氮化钛薄膜。用自动划痕试验仪测量了氮化钛薄膜的结合强度。研究结果表明：表征薄膜结合强度的临界载荷有相当高的值；氮化钛薄膜的临界载荷随脉冲轰击次数、内外电极的电压变化而变化。对沉积膜结合强度的这些变化给予了理论上的解释与讨论。 展开更多

关键词 脉冲等离子体 氮化钛 结合强度 沉积 薄膜

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室温低压下脉冲等离子体生长立方氮化硼薄膜 被引量：1

3

作者 阎鹏勋 杨思泽 +3 位作者 孙牧 任育峰 李兵 陈熙琛 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第11期B489-B492,共4页

运用脉冲高能量密度等离子体，在室温下制成立方氮化硼薄膜．沉积薄膜的衬底材料分别选用单晶硅、氯化钠和ＧＣｒ１５轴承钢，用扫描电镜、透射电镜、红外吸收谱仪、扫描Ａｕｇｅｒ微探针等对沉积的薄膜进行了分析与测试，结果表明，氮... 运用脉冲高能量密度等离子体，在室温下制成立方氮化硼薄膜．沉积薄膜的衬底材料分别选用单晶硅、氯化钠和ＧＣｒ１５轴承钢，用扫描电镜、透射电镜、红外吸收谱仪、扫描Ａｕｇｅｒ微探针等对沉积的薄膜进行了分析与测试，结果表明，氮化硼薄膜的结构及性质强烈地依赖于实验条件．分析表明立方氮化硼晶核的形成与衬底材料关系不大，但晶核的生长则部分地依赖于衬底． 展开更多

关键词 脉冲等离子体 立方氮化硼 室温 薄膜 制备

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离子注入过程中表面的碳沉积 被引量：3

4

作者 阎鹏勋 陈发贵 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第12期705-709,共5页

通过对离子注入过程中表面碳膜结构及其对离子注入层各种性能(颜色、显微硬度和耐蚀性)影响的研究,得知了形成离子注入层表面碳膜及其影响离子注入层性能的机理。

关键词 离子注入 表面合金化 碳 沉积

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离子束混合形成氮化钛膜的摩擦和光学性能 被引量：2

5

作者 阎鹏勋 杨思泽 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第2期74-77,共4页

用载能氮离子束轰击纯铁镀钛膜样品，成功地形成了金黄色氨化钛薄膜。结果表明；注入剂量为０．５×１０１７Ｎ＋／ｃｍ２的混合样品表面颜色与纯金类似；氮离子束混合样品表面显微硬度及耐磨性都远优于纯铁基体，且随离子剂量的增... 用载能氮离子束轰击纯铁镀钛膜样品，成功地形成了金黄色氨化钛薄膜。结果表明；注入剂量为０．５×１０１７Ｎ＋／ｃｍ２的混合样品表面颜色与纯金类似；氮离子束混合样品表面显微硬度及耐磨性都远优于纯铁基体，且随离子剂量的增加，混合样品的表面硬度和耐磨性也提高。 展开更多

关键词 离子束混合 氮化钛 薄膜 磨损

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离子束混合形成TiN薄膜的研究

6

作者 阎鹏勋 吴宝善 《机械工程材料》 CAS CSCD 1992年第3期42-45,56,共5页

用离子束混合技术在纯铁表面形成了均匀的金黄色TiN薄膜。性能分析表明,离子束混合处理的样品具有很高的表面硬度和优异的耐蚀性能。本文首次运用X光薄膜衍射附件,令人满意地检测出氮离子束混合层的物相是TiN,而用普通X光衍射仪检测不... 用离子束混合技术在纯铁表面形成了均匀的金黄色TiN薄膜。性能分析表明,离子束混合处理的样品具有很高的表面硬度和优异的耐蚀性能。本文首次运用X光薄膜衍射附件,令人满意地检测出氮离子束混合层的物相是TiN,而用普通X光衍射仪检测不出离子束混合层的物相,这一新的薄膜衍射分析技术将给离子注入、离子束混合的深入研究提供强有力的手段。 展开更多

关键词 离子束混合 TIN 自钝化 薄膜 刀具

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氮离子束混合中的时效

7

作者 阎鹏勋 《兰州大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期119-120,共2页

我们曾用离子束混合技术,成功地在纯铁表面形成了金黄色 TiN 薄膜。它不但具有良好的装饰性,而且极大地提高了材料表面的显微硬度和耐蚀性能。在进一步的研究中我们发现:氮离子束混合技术形成的 TiN 薄膜具有明显的时效现象,对此的初步... 我们曾用离子束混合技术,成功地在纯铁表面形成了金黄色 TiN 薄膜。它不但具有良好的装饰性,而且极大地提高了材料表面的显微硬度和耐蚀性能。在进一步的研究中我们发现:氮离子束混合技术形成的 TiN 薄膜具有明显的时效现象,对此的初步研究,使我们对离子束混合形成 TiN 薄膜的机理也有了进一步了解。据我们所知,这一研究在国内外尚属首次。 展开更多

关键词 氮离子束混合 薄膜 时效 氮化钛

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退火对氮离子注入F_e—T_i样品的性能影响

8

作者 阎鹏勋 苏玉成 《中央民族大学学报（自然科学版）》 1994年第2期37-41,共5页

在离子注入刚结束时，氮离子注入纯铁镀钛样品表面并没有氮化钛化合物的出现。经不同温度的真空退火后，样品表面形成了氮化钛化合物，从而引起样品表面颜色和硬度的变化。原因是退火引起注入离子的扩散和再分布，扩散中氨化钛化合物形... 在离子注入刚结束时，氮离子注入纯铁镀钛样品表面并没有氮化钛化合物的出现。经不同温度的真空退火后，样品表面形成了氮化钛化合物，从而引起样品表面颜色和硬度的变化。原因是退火引起注入离子的扩散和再分布，扩散中氨化钛化合物形成于样品的表面。 展开更多

关键词 离子注入 退火 扩散

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两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究 被引量：32

9

作者 韩修训 阎鹏勋 +4 位作者 阎逢元 刘维民 余画洋 徐建伟 吴志国 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-179,共5页

分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦... 分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 .结果表明 :与采用直流磁控溅射法在 40 0℃基底上制备的 Ti N涂层相比 ,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 Ti N涂层更加致密 ,表面平滑 ,最大硬度达 3 5 GPa,摩擦系数明显较小 ( 0 .1～ 0 .4) 。 展开更多

关键词 物理气相沉积 氮化钛涂层 结构 摩擦性能 纳米压入 PVD

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类金刚石涂层在不同载荷和湿度下的摩擦特性 被引量：21

10

作者 韩修训 阎鹏勋 +1 位作者 阎逢元 刘维民 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期5-9,共5页

利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置在单晶硅基底上制备了类金刚石涂层 ,采用原子力显微镜和纳米压痕仪测定了其表面形貌及硬度 ,在 DF- PM型动 -静摩擦系数精密测定仪上考察了涂层在不同载荷及湿度下同 GCr15钢对摩时的摩擦性能 .结果表... 利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置在单晶硅基底上制备了类金刚石涂层 ,采用原子力显微镜和纳米压痕仪测定了其表面形貌及硬度 ,在 DF- PM型动 -静摩擦系数精密测定仪上考察了涂层在不同载荷及湿度下同 GCr15钢对摩时的摩擦性能 .结果表明 ,在不同环境湿度条件下 DL C涂层的摩擦性能明显不同 ,这主要归因于转移膜形成机理的不同 ;在 3N载荷下 ,DL C涂层同 GCr15钢对摩时的摩擦系数相对较小 ,且较为稳定 ;当环境湿度增大至 10 0 %时 ,摩擦系数显著增大 。 展开更多

关键词 载荷 湿度 磁过滤等离子体 类金刚石涂层 摩擦性能

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多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比 被引量：12

11

作者 张玉娟 吴志国 +3 位作者 张伟伟 阎鹏勋 刘维民 薛群基 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期498-502,共5页

分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其... 分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布.结果表明:采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的(111)面择优取向;而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞,且无明显取向.在较低载荷下,采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能,其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑;而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑,摩擦系数较高. 展开更多

关键词 磁过滤等离子体沉积 多弧离子镀 氮化钛薄膜 摩擦学性能

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离子注入中碳污染膜的研究(英文)

12

作者 阎鹏勋 《甘肃科学学报》 1992年第3期45-50,共6页

本文研究了离子注入过程中样品表面碳污染的来源,以及各种注入因素对碳膜厚度的影响。文中对碳膜沉积对离子注入样品的性能影响也给予了适当的讨论。

关键词 离子注入 碳污染膜

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纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能 被引量：8

13

作者 张玉娟 吴志国 +1 位作者 阎鹏勋 薛群基 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期280-284,共5页

在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜.分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50-80 nm... 在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜.分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50-80 nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向.随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14-0.25). 展开更多

关键词 无机非金属材料 氮化钛 磁过滤等离子体 纳米薄膜 摩擦学

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多层涂层的摩擦学研究进展 被引量：13

14

作者 韩修训 阎逢元 +1 位作者 阎鹏勋 刘维民 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期1-5,41,共6页

多层涂层与单一涂层相比具有优异的力学性能 :低的内应力、高附着力、适当的硬度刚度比、低的摩擦及磨损。简要综述了多层涂层在摩擦学领域内新的研究进展 ,概括了目前多层涂层的制备方法及结构设计 。

关键词 多层涂层 涂层摩擦学 气相沉积

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钼薄膜的制备、力学性能和磨损性能 被引量：5

15

作者 许世红 王金清 +1 位作者 刘维民 阎鹏勋 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第12期11-13,共3页

　采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜。利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜... 　采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜。利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜(SEM)研究了薄膜的硬度、残余模量与负偏压的关系。结果表明:利用直流磁控溅射法制备的钼薄膜的硬度随负偏压的变化存在最大值,另外负偏压还影响薄膜的微结构、粗糙度以及膜基结合力,但负偏压的改变对钼薄膜的摩擦系数影响不大。 展开更多

关键词 摩擦学 钼薄膜 薄膜硬度 力学性能 磨损性能 微结构 纳米压入 直流磁控溅射法 表面改性

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磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响 被引量：5

16

作者 张玉娟 吴志国 +4 位作者 张伟伟 李鑫 阎鹏勋 刘维民 薛群基 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期1264-1268,共5页

在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对Ti... 在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响。对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ～2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究。结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20～70nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列。 展开更多

关键词 氮化钛 磁过滤等离子体 薄膜织构

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离子束混合改善纯铁耐蚀性能的研究

17

作者 吴宝善 阎鹏勋 《兰州大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1992年第3期49-54,共6页

本文研究比较了不同条件下的离子束混合对纯铁腐蚀性能的影响.阳极极化试验表明,各种剂量氮离子束轰击纯铁镀钛样品,在0.15M H_2SO_4水溶液中均发生理想的自钝化现象.因而氮离子束混合显著提高了纯铁的耐性性能.而氮离子束混合,没有提... 本文研究比较了不同条件下的离子束混合对纯铁腐蚀性能的影响.阳极极化试验表明,各种剂量氮离子束轰击纯铁镀钛样品,在0.15M H_2SO_4水溶液中均发生理想的自钝化现象.因而氮离子束混合显著提高了纯铁的耐性性能.而氮离子束混合,没有提高纯铁镀钛样品的耐蚀性.XPS 和 X 光薄膜衍射仅分析表明,氮离子束轰击纯铁镀钛样品表面形成了均匀的 TiN 层.这是氮离子束混合样品耐蚀性显著提高的原因. 展开更多

关键词 钝化现象 耐蚀性 离子束混合 铁

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等离子体电弧法制备的带状纳米锌的表征 被引量：1

18

作者 黎明 刘雅超 +3 位作者 郭慧尔 闫志巾 吕惠民 阎鹏勋 《中国材料进展》 CAS CSCD 2011年第12期61-64,共4页

约束弧等离子体电弧法用等离子体高温热源激发高能粒子的化学反应,并与骤冷技术结合构成一个制备金属纳米粉体或化合物纳米粉末材料的等离子体过程,能极好地制备高溶点(例:Ni,Fe,C等)或低溶点(例:Al,Zn等)的纳米粉末,是当前极具工业化... 约束弧等离子体电弧法用等离子体高温热源激发高能粒子的化学反应,并与骤冷技术结合构成一个制备金属纳米粉体或化合物纳米粉末材料的等离子体过程,能极好地制备高溶点(例:Ni,Fe,C等)或低溶点(例:Al,Zn等)的纳米粉末,是当前极具工业化生产应用前景的方法之一。用约束弧等离子体电弧法制备了纳米Zn粉末,用XRD,TEM,TG,DTA技术研究了纳米Zn粉末的结构、晶粒大小、晶粒形貌和热稳定性。结果表明,该粉体平均粒径小于42 nm,晶粒形貌为带状,热稳定性好。此外该粉体具有高比表面积,可用作化学反应的催化剂。 展开更多

关键词 Zn纳米颗粒 约束弧等离子体电弧法 晶粒形貌

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离子束混合技术制备TiN薄膜的时效研究

19

作者 阎鹏勋 《薄膜科学与技术》 1992年第4期18-23,共6页

关键词 离子束混合 时效 薄膜 TIN

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脉冲高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性

20

作者 阎鹏勋 杨思泽 《物理》 CAS 北大核心 2002年第8期510-516,共7页

脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术 .文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果 .从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质 .研究了脉冲等离子体与材料相互作用的... 脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术 .文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果 .从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质 .研究了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象和物理机制 .诊断测量表明 ,脉冲等离子体具有电子温度高 (10—10 0eV)、等离子体密度高 (10 1 4— 10 1 6 cm- 3)、定向速度高 (～ 10 7cm s)、功率大 (10 4 W cm2 )等特点 .在制备薄膜时具有沉积速率高 ,薄膜与基底粘结力强 ,并兼有激光表面处理、电子束处理、冲击波轰击、离子注入、溅射、化学气相沉积等综合性特点 ,可以在室温下合成亚稳态相和其他化合物材料 .在此基础上 ,系统地进行了脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及其机理的研究 .在室温下的不同材料衬底上成功地沉积了性能良好的较大颗粒立方氮化硼、碳氮化钛、氮化钛、类金刚石、氮化铝等薄膜材料 .沉积薄膜和基底之间存在一个很宽的过渡层 ,因此导致薄膜与基底有很强的粘结力 . 展开更多

关键词 制备 脉冲高能量密度等离子体 薄膜 表面处理 金属材料

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