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两级厌氧-好氧-厌氧氨氧化组合工艺处理制药和淀粉混合废水 被引量：8
1
作者 姚宏 王钰楷 +4 位作者 何永淼 徐菁 田盛 马友千 张树军 《环境工程技术学报》 CAS 2013年第3期183-188,共6页
采用两级厌氧-好氧-厌氧氨氧化组合工艺处理金霉素和淀粉生产混合废水。连续272d现场试验结果表明,当原水CODCr为4000～16000mg/L,氨氮浓度为100～800mg/L(均值为530mg/L),总氮浓度为200～1000mg/L(均值为624.4mg/L)时,该组合工艺对CODC... 采用两级厌氧-好氧-厌氧氨氧化组合工艺处理金霉素和淀粉生产混合废水。连续272d现场试验结果表明,当原水CODCr为4000～16000mg/L,氨氮浓度为100～800mg/L(均值为530mg/L),总氮浓度为200～1000mg/L(均值为624.4mg/L)时,该组合工艺对CODCr去除率为94%～98%,对氨氮和总氮去除率均值分别为96.9%和89.8%。出水CODCr、氨氮和总氮浓度均值分别为514、15.6和59.2mg/L。组合工艺可有效削减有机物负荷,减轻后续深度处理的负担,同时通过生物处理除氮降低了常规物化脱氮的运行费用和投资成本,且出水氨氮和总氮浓度均满足GB21903—2008《发酵类制药工业水污染物排放标准》要求。 展开更多
关键词 混合废水 两级厌氧反应器(UASB) 好氧反应器(A O系统) 厌氧氨氧化(ANAMMOX) 金霉素 淀粉
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不同环境条件下Fe^(3+)对金霉素降解机制的影响 被引量：2
2
作者 王辉 姚宏 +2 位作者 田盛 马友千 于晓华 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期954-960,共7页
金霉素(chlortetracycline,CTC)是一种广泛应用于人类和动植物疾病防治的广谱抗生素,作为一类难降解有机物存在于水环境中.通过对Fe3+与CTC的络合反应机制以及不同条件(Fe3+与CTC的摩尔比、温度、pH)下CTC降解规律的研究,探讨了Fe3+的... 金霉素(chlortetracycline,CTC)是一种广泛应用于人类和动植物疾病防治的广谱抗生素,作为一类难降解有机物存在于水环境中.通过对Fe3+与CTC的络合反应机制以及不同条件(Fe3+与CTC的摩尔比、温度、pH)下CTC降解规律的研究,探讨了Fe3+的存在对CTC降解规律的影响.结果表明:1 molCTC分子最多络合2 molFe3+,且Fe3+与CTC的结合部位在CTC分子的A环;Fe3+的浓度会对CTC降解产生影响,当Fe3+与CTC的摩尔比为1∶1时,CTC的降解速率最大;CTC的降解速率随着温度和pH的升高而增大;投入与CTC等浓度的Fe3+时,10和20℃条件下CTC的降解速率分别提高了271%和322%(30℃时,Fe3+的效果不是很显著),pH=3、5和7时CTC的降解速率分别提高400%、141%和179%.由于Fe3+大量存在于金霉素制药废水中,通过研究不同环境条件下Fe3+对金霉素降解机制的影响规律,可为实际工程环境条件的确定及制药废水中CTC降解模型的建立提供科学依据. 展开更多
关键词 金霉素(CTC) FE3+ 降解规律
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Fenton试剂氧化法深度处理青霉素废水 被引量：1
3
作者 张士超 姚宏 +3 位作者 王钰楷 马友千 田盛 于晓华 《北京交通大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期46-51,共6页
采用Fenton氧化技术深度处理青霉素废水,通过单因素试验,研究了pH、H2O2/Fe2+的摩尔比值、H2O2的投加量和反应时间T,4个因素对COD的去除效果及各因素间影响.结果表明:处理废水的最佳条件为废水初始pH为3,H2O2/Fe2+的摩尔比值为1∶1,H2O... 采用Fenton氧化技术深度处理青霉素废水,通过单因素试验,研究了pH、H2O2/Fe2+的摩尔比值、H2O2的投加量和反应时间T,4个因素对COD的去除效果及各因素间影响.结果表明:处理废水的最佳条件为废水初始pH为3,H2O2/Fe2+的摩尔比值为1∶1,H2O2的投加量为300 mg/L,反应时间为60 min,此时COD的去除率高达59%左右.在单因素基础上,使用Design Expert软件设计,通过二次回归得到COD去除率与废水的初始pH,H2O2/Fe2+的摩尔比,H2O2的投加量关系的回归模型,该模型能够较好地预测COD的去除率.同时,3个因素对COD去除效果的影响排序为H2O2投加量>H2O2/Fe2+的摩尔比>溶液初始pH,最后得到的优化参数为:pH为2.98,H2O2/Fe2+的摩尔比为0.76∶1,H2O2的浓度为295.10 mg/L,此时COD的去除率为57.415 5%. 展开更多
关键词 FENTON氧化法 青霉素废水 深度处理 Design-Expert
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Photo-Fenton高级氧化技术处理土霉素废水的研究 被引量：5
4
作者 苟世霞 王春荣 +2 位作者 于晓华 田盛 马友千 《甘肃科学学报》 2013年第3期43-46,共4页
以内蒙某土霉素制药厂的二级出水为研究对象(CODcr约为400mg/L),采用UV254/Fenton高级氧化技术对其进行深度处理.研究了光强、pH值、H2O2的投加量以及H2O2与Fe2+的摩尔比值对CODcr去除率的影响.结果表明:处理土霉素废水的最佳条件是光强... 以内蒙某土霉素制药厂的二级出水为研究对象(CODcr约为400mg/L),采用UV254/Fenton高级氧化技术对其进行深度处理.研究了光强、pH值、H2O2的投加量以及H2O2与Fe2+的摩尔比值对CODcr去除率的影响.结果表明:处理土霉素废水的最佳条件是光强为850μw/cm2,废水初始pH为3,H2O2与Fe2+的摩尔比值为1∶1,H2O2的投加量为400mg/L,反应时间为60min,此时CODcr为113.6mg/L,去除率为71.6%. 展开更多
关键词 土霉素废水 FENTON试剂 UV254
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