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Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification
1
作者
Katia Vutova
Georgy Mladenov
+4 位作者
Elena Koleva
Ivan Kostic
anna bencurova
Pavol Nemec
TakeshiTanaka
《材料科学与工程（中英文B版）》
2011年第4期523-529,共7页
关键词
线性聚合物
电子束改性
行为机制
溶解度
齐聚物
电子束光刻
倍半硅氧烷
曝光剂量
下载PDF
职称材料
题名
Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification
1
作者
Katia Vutova
Georgy Mladenov
Elena Koleva
Ivan Kostic
anna bencurova
Pavol Nemec
TakeshiTanaka
机构
Institute of Electronics
Institute of informatics
Hiroshima Institute of Technology
出处
《材料科学与工程（中英文B版）》
2011年第4期523-529,共7页
关键词
线性聚合物
电子束改性
行为机制
溶解度
齐聚物
电子束光刻
倍半硅氧烷
曝光剂量
Keywords
Electron beam lithography, polymer resist, oligomer resist, hydrogen silsesquioxane （HSQ）, solubility behavior.
分类号
O631.1 [理学—高分子化学]
TQ436.3 [化学工程]
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1
Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification
Katia Vutova
Georgy Mladenov
Elena Koleva
Ivan Kostic
anna bencurova
Pavol Nemec
TakeshiTanaka
《材料科学与工程（中英文B版）》
2011
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参考文献
引证文献
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