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Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing
1
作者
Alexander Gredner
Christoph Gerhard
+2 位作者
Stephan Wieneke
kai schmidt
Wolfgang Viol
《材料科学与工程（中英文B版）》
2013年第6期346-351,共6页
关键词
等离子体辅助
准分子雷射
激光退火
多晶硅
常压
生成效率
激光传播
协同作用
下载PDF
职称材料
题名
Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing
1
作者
Alexander Gredner
Christoph Gerhard
Stephan Wieneke
kai schmidt
Wolfgang Viol
机构
Laboratory for Laser and Plasma Technologies
Application Center for Plasma and Photonic
Coherent Laser Systems GmbH & Co. KG
出处
《材料科学与工程（中英文B版）》
2013年第6期346-351,共6页
关键词
等离子体辅助
准分子雷射
激光退火
多晶硅
常压
生成效率
激光传播
协同作用
Keywords
Excimer laser annealing, laser-plasma processes, amorphous silicon, polycrystalline silicon, display technology.
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TN873.93 [电子电信—信息与通信工程]
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作者
出处
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1
Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing
Alexander Gredner
Christoph Gerhard
Stephan Wieneke
kai schmidt
Wolfgang Viol
《材料科学与工程（中英文B版）》
2013
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职称材料
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引证文献
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