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氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响
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作者 周超 马占吉 +3 位作者 何延春 杨拉毛草 王虎 李得天 《真空与低温》 2024年第1期83-89,共7页
为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对... 为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对薄膜结构的影响;采用动态定压法分别测试了在氩气和在氪气中沉积的薄膜的吸氢性能,分析了溅射气氛和薄膜结构对吸氢性能的影响。结果表明,在同等气压下,用氩气溅射沉积的薄膜较致密,用氪气溅射沉积的薄膜表面分布有较多的团簇结构和裂纹结构,薄膜呈明显的柱状结构,且柱状组织间分布着大量的界面和间隙,为气体扩散提供了更多的路径;随着氩气和氪气气压增大,薄膜含有更多的裂纹和间隙结构,连续性柱状结构生长更明显,裂纹更深更宽,比表面积更大,有利于提高薄膜的吸氢性能。 展开更多
关键词 Zr-Co-RE薄膜 直流磁控溅射 氪气 溅射气压 微观结构 吸氢性能
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用于柔性电子器件的有机/无机薄膜封装技术研究进展
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作者 冯尔鹏 董茂进 +7 位作者 韩仙虎 蔡宇宏 冯煜东 王毅 马敏 王冠 秦丽丽 马凤英 《表面技术》 EI CAS CSCD 2024年第3期101-112,共12页
有机/无机薄膜封装技术被广泛用于有机发光二极管(OLED)、量子点显示及有机光伏等领域,是一种新型的柔性封装技术。综述近年来有机/无机薄膜封装技术的发展趋势,首先概述了传统硬质盖板封装方式与薄膜封装方式的发展及其优缺点。其次,... 有机/无机薄膜封装技术被广泛用于有机发光二极管(OLED)、量子点显示及有机光伏等领域,是一种新型的柔性封装技术。综述近年来有机/无机薄膜封装技术的发展趋势,首先概述了传统硬质盖板封装方式与薄膜封装方式的发展及其优缺点。其次,系统地总结了有机/无机薄膜的制备方法,如原子层沉积、等离子体化学气相沉积等,详细阐述了不同制备方法的原理及其应用。再次,讨论了薄膜的微观缺陷、内应力,以及材料界面工程对有机/无机薄膜封装性能的影响,分析总结了有机/无机封装薄膜制备的技术要点,如采用基底表面预处理、引入中性层、调节层间应力等方式获得优质的封装薄膜。最后,探究了有机/无机封装薄膜的内在阻隔机理,提出气体在有机/无机薄膜中的传输方式以努森扩散为主,并总结了提高薄膜封装的策略,即延长气体扩散路径、“主动”引入阻隔基团及薄膜表面改性。提出了未来薄膜封装技术面临的问题,拟为柔性电子器件封装技术的发展提供一定参考。 展开更多
关键词 柔性电子 有机/无机薄膜封装 界面 内应力 阻隔机制
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基于超快激光定域去除的Cu/Ag复合金属网格透明电极性能优化研究
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作者 王轶伦 李双双 李保家 《电镀与涂饰》 CAS 2024年第2期53-61,共9页
[目的]Ag网格透明电极方块电阻低,但反射率高。[方法]在钠钙玻璃基底表面利用等离子射频磁控溅射沉积Cu/Ag复合金属薄膜,然后采用飞秒脉冲激光定域去除金属层,获得Cu/Ag复合金属网格透明电极。分析了激光能量密度、激光扫描速率和激光... [目的]Ag网格透明电极方块电阻低,但反射率高。[方法]在钠钙玻璃基底表面利用等离子射频磁控溅射沉积Cu/Ag复合金属薄膜,然后采用飞秒脉冲激光定域去除金属层,获得Cu/Ag复合金属网格透明电极。分析了激光能量密度、激光扫描速率和激光扫描线重叠率对电极材料去除的影响机制。[结果]在激光能量密度1.4 J/cm^(2)、激光扫描速率300 mm/s和激光扫描线重叠率70%的工艺参数下获得了综合光电性能最为出色的Cu/Ag复合金属网格透明电极,其平均透光率为87.58%,方块电阻为2.15Ω,品质因子为1.235×10^(-1)Ω^(-1)。[结论]该电极的综合性能与传统商用ITO(掺锡氧化铟)透明电极相比有巨大提升。 展开更多
关键词 金属网格 超快激光 定域去除 透明电极 光电性能
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石墨烯/碳纳米管复合电热膜制备过程工艺优化及预测模型
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作者 杨春梅 孙国玉 +3 位作者 田心池 曲文 张子浩 张佳薇 《包装工程》 CAS 2024年第1期91-100,共10页
目的本文利用响应面法和神经网络遗传算法对石墨烯/碳纳米管复合电热膜的固化工艺进行优化,并对2种方法的优化结果进行比较,为复合电热膜制备提供了最佳的工艺参数。方法通过单因素实验探讨浆料定量、固化温度和固化时间对复合电热膜体... 目的本文利用响应面法和神经网络遗传算法对石墨烯/碳纳米管复合电热膜的固化工艺进行优化,并对2种方法的优化结果进行比较,为复合电热膜制备提供了最佳的工艺参数。方法通过单因素实验探讨浆料定量、固化温度和固化时间对复合电热膜体积电阻率的影响,在此基础上进行BB试验设计,在BB试验结果上进行响应面法(RSM)和BP神经网络分析及优化。结果单因素实验结果表示随电热膜定量增加,体积电阻率先下降后上升,随着固化温度的升高或固化时间增加,体积电阻率逐渐下降直至趋于稳定。对BB响应面法和GA-BP遗传神经网络法优化获得的最佳工艺进行实验验证,GA-BP遗传神经网络模型优化的结果相对误差较小为1.06%,因此得出最佳固化工艺参数:定量为0.056 g/cm^(2)、固化温度为85.71℃、固化时间为11.13 h。该研究结果对石墨烯碳纳米管复合电热膜的制备工艺具有参考价值。结论通过响应面方差分析表明,定量、固化温度和固化时间三因素对体积电阻率既有显著的线性影响,也有极其显著的平方影响。BP神经网络预测模型的准确性很好,可用于石墨烯/碳纳米管复合电热膜体积电阻率的预测。 展开更多
关键词 石墨烯 碳纳米管 复合电热膜制备 工艺优化
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氧化铪基铁电薄膜相结构调控的研究进展
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作者 李彦 郭媛媛 +4 位作者 梁海龙 张建婷 王兴刚 刘书棋 辛宁 《工程科学学报》 EI CSCD 2024年第4期649-656,共8页
随着微电子技术的发展,氧化铪(HfO2)因具有与Si基半导体工艺相兼容、适宜的相对介电常数、良好的热稳定性和化学稳定性以及较大的禁带宽度等优点,成为当前新型铁电材料的研究焦点.HfO2是一种典型的“相结构决定性能,性能决定应用”的材... 随着微电子技术的发展,氧化铪(HfO2)因具有与Si基半导体工艺相兼容、适宜的相对介电常数、良好的热稳定性和化学稳定性以及较大的禁带宽度等优点,成为当前新型铁电材料的研究焦点.HfO2是一种典型的“相结构决定性能,性能决定应用”的材料,其铁电性能源于薄膜中存在空间点群为Pca21的非中心对称的正交相.因此,实现HfO2薄膜铁电性能稳定与提升的前提是调控HfO2薄膜于亚稳正交相结构.以正交相的调控机理为出发点,综述了HfO2正交相的稳定因素,并分别从薄膜厚度、掺杂元素、退火工艺、晶粒取向和电极材料等方面进行归纳,例如HfO2材料的正交相含量随薄膜厚度的增加而降低;适宜含量的元素掺杂可以稳定HfO2材料的正交相;高的升温速率,极短的退火时间可抑制单斜相的形成;制备具有特定取向的正交相薄膜以及顶部电极的夹持作用都是保证HfO2材料正交相稳定的重要因素.最后,对HfO2薄膜未来发展做出展望. 展开更多
关键词 氧化铪 铁电薄膜 相调控 氧空位 膜厚
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调制周期数对Mo/AZO成分调制多层膜透光、反光特性以及电性能的影响
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作者 张邵奇 吴隽 +3 位作者 王凯丰 宋坤峰 卢志红 祝柏林 《武汉科技大学学报》 CAS 2024年第2期107-113,共7页
采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,M... 采用射频(RF)和单极中频脉冲直流(UMFPDC)磁控溅射技术,在300℃下制备了Mo/AZO成分调制多层膜。测试结果表明,Mo/AZO成分调制多层膜以(002)为取向的六方纤锌矿型ZnO结构为主;薄膜中Mo的化学态随薄膜厚度而变化,当薄膜厚度为1.67 nm时,Mo除单质态外,还存在部分+4和+5的离子价态,当薄膜厚度降至0.83 nm时,已无单质态Mo;调制周期数对成分调制多层膜的透光、反光特性以及电性能影响显著,当调制周期数为3时,Mo/AZO成分调制多层膜的综合性能达到最佳,电阻率、霍尔迁移率和载流子浓度分别为8.64×10^(-4)Ω·cm、8.78 cm^2)/(V·s)和8.23×10^(20)cm^(-3)。在保持金属层、半导体层总厚度不变的情况下,通过改变调制周期数可以增加薄膜的光学透过率并可在较宽范围内调节多层膜的综合性能,这为制备综合性能优异的金属/半导体型透光导电薄膜提供了一条切实可行的途径。 展开更多
关键词 磁控溅射 Mo/AZO多层膜 调制周期 光性能 电性能
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TiAlN硬质薄膜的制备工艺及结构性能研究进展
7
作者 徐照英 张腾飞 +1 位作者 王锦标 陈巧旺 《真空》 CAS 2024年第2期29-36,共8页
硬质TiAlN薄膜作为最有前途的TiN薄膜替代材料,具有比TiN薄膜更高的硬度、低摩擦因数、良好的高温稳定性和耐腐蚀性等优异性能,在石油、刀具、模具、电力、航空发动机等领域得到广泛应用。本文综述了TiAlN薄膜近年来国内外的应用及发展... 硬质TiAlN薄膜作为最有前途的TiN薄膜替代材料,具有比TiN薄膜更高的硬度、低摩擦因数、良好的高温稳定性和耐腐蚀性等优异性能,在石油、刀具、模具、电力、航空发动机等领域得到广泛应用。本文综述了TiAlN薄膜近年来国内外的应用及发展情况,着重阐述了TiAlN薄膜的制备方法,以及工艺参数对TiAlN薄膜性能的影响。同时对TiAlN硬质涂层的结构和性能进行了全面介绍,指出了TiAlN硬质薄膜性能优化的方法,并对TiAlN硬质薄膜的研究以及应用方向进行了展望。TiAlN硬质薄膜会随着科研人员的进一步深入研究以及应用的需求向复合化、多元化、纳米多层结构方向发展。 展开更多
关键词 TIALN薄膜 制备方法 结构 性能
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第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术
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作者 张以忱 《真空》 CAS 2024年第2期86-88,共3页
(接2024年第1期88页)由于多数分子的键能为几个电子伏特(例如多数有机化合物的碳原子与金属原子的键能为3 eV,H_(2)的H-H键能为4.2 eV,NO_(2)的NO-O键能为3.12 eV,SiH_(4)的Si-H键能为3 eV),因此通常采用光子能量大于3.3 eV的紫外光来... (接2024年第1期88页)由于多数分子的键能为几个电子伏特(例如多数有机化合物的碳原子与金属原子的键能为3 eV,H_(2)的H-H键能为4.2 eV,NO_(2)的NO-O键能为3.12 eV,SiH_(4)的Si-H键能为3 eV),因此通常采用光子能量大于3.3 eV的紫外光来激发光解过程。光分解化学反应也可以用非相干光的普通紫外灯(如高压汞灯或低压汞灯)发出的光线激发,但采用紫外激光器能够得到强度更强、单色性能很好的紫外辐射。 展开更多
关键词 金属原子 键能 碳原子 非相干光 紫外激光器 低压汞灯 高压汞灯 紫外辐射
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基于PLC的原子层沉积设备系统设计
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作者 汤晨宇 刘磊 +2 位作者 曾广根 王志亮 张洪国 《机电工程技术》 2024年第1期295-299,共5页
原子层沉积技术是一种优异的真空镀膜技术,广泛应用于泛半导体领域,原子层沉积设备是实现原子层沉积技术的一种工艺系统。基于可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)和人机界面(Human Machine Interface,HMI)设计了原子... 原子层沉积技术是一种优异的真空镀膜技术,广泛应用于泛半导体领域,原子层沉积设备是实现原子层沉积技术的一种工艺系统。基于可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)和人机界面(Human Machine Interface,HMI)设计了原子层沉积设备系统,通过分析原子层沉积技术的原理和工艺来设计原子层沉积设备的运行流程。系统设计过程中综合考虑系统的整体性能、成本、国产化等因素,最终确定以DVP-ES2系列PLC为控制器,以TPC1570Gn触摸屏为人机界面的控制设计方案。最后该系统以原子层沉积设备常用的单晶硅表面生长氧化铝薄膜实验作测试,通过椭偏仪来测量单晶硅表面氧化铝薄膜生长的厚度,计算每个周期氧化铝薄膜生长的厚度为结果,通过多组实验,该系统每周期生长厚度约0.125 nm,接近理论值0.12 nm,表明该控制系统达到了设计要求。 展开更多
关键词 原子层沉积 PLC HMI 控制系统
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第二十二讲化学气相沉积(CVD)技术
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作者 张以忱 《真空》 2024年第1期87-88,共2页
(接2023年第6期88页)微波等离子体CVD法是制备优质金刚石薄膜的好方法。在微波CVD装置中,极高频率的微波电场将使气体放电产生等离子体。等离子体中电子的快速往复运动进一步撞击气体分子,使得气体分子分解为H*和各种活性基团。这些大... (接2023年第6期88页)微波等离子体CVD法是制备优质金刚石薄膜的好方法。在微波CVD装置中,极高频率的微波电场将使气体放电产生等离子体。等离子体中电子的快速往复运动进一步撞击气体分子,使得气体分子分解为H*和各种活性基团。这些大量的原子氢和活性的含碳基团是用低温低压的CVD方法沉积金刚石所必需的。 展开更多
关键词 气体放电 金刚石薄膜 分子分解 往复运动 原子氢 活性基团 气体分子 等离子体
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高强韧透明细菌纤维素薄膜
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作者 周舟 赵海雯 +2 位作者 韩志良 李晶 陈仕艳 《纤维素科学与技术》 CAS 2024年第1期1-8,I0001,共9页
细菌纤维素(Bacterial cellulose,BC)是一种可生物降解的天然生物大分子,其纳米网状结构和高结晶度使BC具有较高的机械强度,但较差的韧性和半透明性限制了其应用。通过以氯化胆碱/尿素(ChCl/urea)为增塑剂,采用简单浸渍法制备了BC/ChCl/... 细菌纤维素(Bacterial cellulose,BC)是一种可生物降解的天然生物大分子,其纳米网状结构和高结晶度使BC具有较高的机械强度,但较差的韧性和半透明性限制了其应用。通过以氯化胆碱/尿素(ChCl/urea)为增塑剂,采用简单浸渍法制备了BC/ChCl/urea复合膜。其中,ChCl/urea通过破坏纤维素分子间氢键并在增塑剂与纤维素之间形成新的氢键,有效的将BC的断裂伸长率从2.82%提高到28.85%,同时保持186 MPa的抗拉强度。断裂能也从2.68 MJ/m^(3)增加到43.52 MJ/m^(3)。BC/ChCl/urea复合膜具有良好的柔韧性和耐折叠性,透明度可达92.4%。薄膜的透明度和柔软度在30天后保持不变。用BC/ChCl/urea复合薄膜作为近场通信(NFC)的基底材料时在弯曲和拉伸下仍能有效地传输信息,预示其在可穿戴设备和电子设备基底材料具有潜在应用前景。 展开更多
关键词 细菌纤维素 增塑 强韧 透明 薄膜
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卷绕蒸镀设备偏置线圈设计及参数分析
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作者 尹翔 陈世斌 +2 位作者 张艳鹏 刘旭 龙连春 《真空》 CAS 2024年第2期16-21,共6页
在卷绕蒸镀设备生产过程中,电子束引起的较高能二次电子会影响复合集流体的质量。较高能二次电子的发射率与电子束的入射角在一定范围内成正比,因此利用额外磁场可以使电子束轨迹发生偏置,从而减小入射角。本文依靠仿真软件及CAD建模技... 在卷绕蒸镀设备生产过程中,电子束引起的较高能二次电子会影响复合集流体的质量。较高能二次电子的发射率与电子束的入射角在一定范围内成正比,因此利用额外磁场可以使电子束轨迹发生偏置,从而减小入射角。本文依靠仿真软件及CAD建模技术对电磁偏置线圈进行了开发设计,通过参数优化,得到匹配的磁场强度以及电子偏置轨迹,成功完成电子偏置线圈的设计。同时对电磁线圈参数对偏置的影响进行了对比分析。结果表明:增加电磁线圈的电流、匝数、尺寸、数量,以及减少线圈与电子枪的距离,都能减少电子束偏置半径。通过优化这些参数可以得到预定入射角度,实现低的二次电子发射率,为将来设备的迭代升级提供设计依据。 展开更多
关键词 卷绕蒸镀 电子束 偏置线圈 参数优化
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SiC高温激活退火炉反应室的温场均匀性研究
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作者 周铁 吴永明 张毅 《机床与液压》 2024年第2期181-186,共6页
SiC高温激活退火炉反应室的温度高、结构复杂,通工艺气体时易导致反应室内温度不均匀,影响产品质量。为获得高均匀温场的反应室,根据退火炉的设备数据建立反应室的物理模型;基于固体和流体传热、表面对表面辐射传热模型等,应用COMSOL Mu... SiC高温激活退火炉反应室的温度高、结构复杂,通工艺气体时易导致反应室内温度不均匀,影响产品质量。为获得高均匀温场的反应室,根据退火炉的设备数据建立反应室的物理模型;基于固体和流体传热、表面对表面辐射传热模型等,应用COMSOL Multiphysics6.0系统构建退火炉反应室仿真模型。通过改变工艺管、衬管结构,优化加热器距离、气体流量、隔热屏高度等参数来模拟退火炉反应室的温度分布情况。仿真结果表明:将工艺管和衬管设计为嵌套结构,加热器距离为9 mm、流量为25 L/min、隔热屏高度为178 mm时,最大温差由340℃降至±4℃,反应室内温场均匀性达到最优。 展开更多
关键词 退火反应室 高均匀温场 COMSOL Multiphysics6.0系统 仿真分析
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Machine learning for membrane design and discovery
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作者 Haoyu Yin Muzi Xu +4 位作者 Zhiyao Luo Xiaotian Bi Jiali Li Sui Zhang Xiaonan Wang 《Green Energy & Environment》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第1期54-70,共17页
Membrane technologies are becoming increasingly versatile and helpful today for sustainable development.Machine Learning(ML),an essential branch of artificial intelligence(AI),has substantially impacted the research an... Membrane technologies are becoming increasingly versatile and helpful today for sustainable development.Machine Learning(ML),an essential branch of artificial intelligence(AI),has substantially impacted the research and development norm of new materials for energy and environment.This review provides an overview and perspectives on ML methodologies and their applications in membrane design and dis-covery.A brief overview of membrane technologies isfirst provided with the current bottlenecks and potential solutions.Through an appli-cations-based perspective of AI-aided membrane design and discovery,we further show how ML strategies are applied to the membrane discovery cycle(including membrane material design,membrane application,membrane process design,and knowledge extraction),in various membrane systems,ranging from gas,liquid,and fuel cell separation membranes.Furthermore,the best practices of integrating ML methods and specific application targets in membrane design and discovery are presented with an ideal paradigm proposed.The challenges to be addressed and prospects of AI applications in membrane discovery are also highlighted in the end. 展开更多
关键词 Machine learning Membranes AI for Membrane DATA-DRIVEN DESIGN
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大尺寸方形载板MOCVD反应腔分气和薄膜沉积过程影响因素的数值模拟研究
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作者 于大洋 吴改 《真空》 CAS 2024年第2期22-28,共7页
介绍了适用于光伏行业砷化镓(GaAs)薄膜电池制备所需的大尺寸方形载板金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应腔的多级分气系统,以及该反应腔结构设计过程中的核心参数:喷淋盘孔尺寸、载板与喷淋盘间距(简称“腔室间距”)。基于自研的容量为36... 介绍了适用于光伏行业砷化镓(GaAs)薄膜电池制备所需的大尺寸方形载板金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应腔的多级分气系统,以及该反应腔结构设计过程中的核心参数:喷淋盘孔尺寸、载板与喷淋盘间距(简称“腔室间距”)。基于自研的容量为36×4寸的MOCVD反应腔模型,应用计算流体力学(CFD)方法,同时考虑GaAs沉积过程中的气相反应和表面反应,对不同孔参数和腔室间距时的气流分配和薄膜化学气相沉积过程进行了数值模拟。考察了跨孔压差与气流量分配均匀性的关系,以及腔室间距对反应区气体流动以及GaAs薄膜沉积的影响。结果表明:初级“蜘蛛”形分气盘将主进气口分配成64个子进气口后的分气均匀性较好,质量流量值波动幅度仅为0.22%;增加喷淋盘孔深度可缓慢且线性提高孔压差,而缩小孔径对于压差的增加非常迅速;增加喷淋盘孔压差可提高次级分气均匀性,但提升效果趋缓;大腔室间距下的沉积速率低,且均匀性差;随着腔室间距缩小,沉积速率持续增加的同时,沉积均匀性先变好,后逐渐由于气流震荡而变差。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 砷化镓 数值模拟 气体分配
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基于用户体验的汽车内外饰产品设计制造技术基础研究
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作者 朱小龙 《中国科技期刊数据库 工业A》 2024年第3期0199-0202,共4页
随着社会的进步和经济水平不断提高,人们对汽车产品要求越来越高,在满足基本功能需求下也要提升其审美性。因此现代企业为了能够适应时代发展需要而进行创新制造设计。本文主要从“内饰”、“外饰”及消费者心理角度出发研究分析了当前... 随着社会的进步和经济水平不断提高,人们对汽车产品要求越来越高,在满足基本功能需求下也要提升其审美性。因此现代企业为了能够适应时代发展需要而进行创新制造设计。本文主要从“内饰”、“外饰”及消费者心理角度出发研究分析了当前国内各大知名品牌所采用的不同类型车身造型和车身材料等方面的差异与搭配特点以及相关配件对用户体验造成影响因素,并在这些情况之下针对汽车内外部件产品展开探究与制作活动。 展开更多
关键词 用户体验 汽车内外饰 产品设计 技术研究
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自成形硅表面微结构:表面特征及潜在应用
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作者 李佳城 刘爽 +2 位作者 伍胜兰 刘永 钟智勇 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 2024年第2期180-184,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)制备掺氢非晶硅膜,并对其表面结构学进行研究。该文发现在晶体硅衬底上沉积非晶硅薄膜时,会在表面形成非均匀分布的起泡缺陷。在已制备的非晶硅薄膜... 采用等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)制备掺氢非晶硅膜,并对其表面结构学进行研究。该文发现在晶体硅衬底上沉积非晶硅薄膜时,会在表面形成非均匀分布的起泡缺陷。在已制备的非晶硅薄膜上进一步沉积了氮化硅/非晶硅的交替层,在起泡缺陷原位形成了一个完美的穹顶多壳的微结构,并且没有明显的结构坍塌。该文总结了自成形穹顶微结构的3个独特的结构特性,并进一步指出了该自成形穹顶微结构在纳米光学和微机电系统中的潜在应用。 展开更多
关键词 微机电系统 非晶硅 起泡缺陷 自成形 硅微/纳结构
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“第八届全国医用膜及应用研讨会”第一轮征文通知
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作者 《膜科学与技术》 CAS CSCD 2024年第1期188-188,共1页
各有关单位、人员:在“节能、低碳、绿色,健康”发展的大背景下,医药医疗产业发展面临着巨大挑战,同样,也带来了难得的发展机遇.膜技术作为一项先进的分离技术,在医药医疗行业产业结构调整,转型升级,实现高质量发展中发挥着十分重要的作... 各有关单位、人员:在“节能、低碳、绿色,健康”发展的大背景下,医药医疗产业发展面临着巨大挑战,同样,也带来了难得的发展机遇.膜技术作为一项先进的分离技术,在医药医疗行业产业结构调整,转型升级,实现高质量发展中发挥着十分重要的作用,为加快医药医疗行业膜技术及应用的发展,解决医药、医疗、保健等行业医用膜材料和装备制造、工程应用中的技术问题,推动膜科学技术的自主创新及其在医药医疗工业中的应用与推广,助力中国医药医疗产业的高质量发展.中国膜工业协会计划于2024年5月9-11日在杭州召开“第八届全国医用膜及应用研讨会”. 展开更多
关键词 产业结构调整 医疗行业 膜科学技术 转型升级 医疗产业 应用研讨会 应用与推广 自主创新
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致谢
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《膜科学与技术》 CAS CSCD 2024年第1期26-26,共1页
2023年,《膜科学与技术》期刊在中国蓝星(集团)股份有限公司和中国膜工业协会的领导下,在期刊编委会的支持下,由审稿专家严格把关,顺利完成了全年6期的编辑出版任务,策划多个热点专题,新媒体融合发展效果显著,文章实现增强出版.共有来... 2023年,《膜科学与技术》期刊在中国蓝星(集团)股份有限公司和中国膜工业协会的领导下,在期刊编委会的支持下,由审稿专家严格把关,顺利完成了全年6期的编辑出版任务,策划多个热点专题,新媒体融合发展效果显著,文章实现增强出版.共有来自各高校、科研院所及企事业单位的214位审稿专家参与了审稿工作,他们本着对作者、读者高度负责的精神,对稿件进行了认真的审阅及修改.在此编辑部对所有参与审稿的专家、教授和对本刊的发展做出贡献的各位同仁表示最衷心的感谢. 展开更多
关键词 审稿专家 新媒体融合 审稿工作 企事业单位 热点专题 中国蓝星 期刊编委会 科研院所
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纳米氮化钛薄膜对高频陶瓷窗片二次电子发射率的影响研究
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作者 赵毅红 李芳芳 +4 位作者 王博锋 叶成聪 缪雨龙 陈海波 陈荣发 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期960-966,共7页
纳米TiN薄膜可用来抑制高频陶瓷窗片的二次电子倍增,缩短器件高功率老炼时间,提高微波发射性能。文章通过专用真空镀膜设备,采用同轴圆柱靶和平面靶的直流磁控反应溅射方法,通过优化制备工艺参数,在陶瓷窗片的表面成功制备了纳米氮化钛(... 纳米TiN薄膜可用来抑制高频陶瓷窗片的二次电子倍增,缩短器件高功率老炼时间,提高微波发射性能。文章通过专用真空镀膜设备,采用同轴圆柱靶和平面靶的直流磁控反应溅射方法,通过优化制备工艺参数,在陶瓷窗片的表面成功制备了纳米氮化钛(TiN)薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)等现代分析手段进行了测试分析,结果表明:纳米TiN薄膜表面晶粒细小,致密度较好;晶面(111)和(200)特征衍射峰峰型规整,峰宽细窄;Ti/N原子计量比接近于1∶1。随着薄膜沉积时间增加,二次电子发射系数(SEY)逐渐增大,溅射时间8.4 s时,SEY为1.72;随着基体偏压的增加,电离效率增加,SEY不断降低,当偏压为350 V时,SEY为1.89;随着N2流量增加,SEY发生变化,当N2流量为38 mL/min时,SEY为1.83。 展开更多
关键词 磁控反应溅射 纳米TiN 薄膜 高频陶瓷窗片 二次电子发射率
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