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基于DBR增强的850 nm GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器 被引量:1
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作者 王健 窦志鹏 +10 位作者 李光昊 黄晓峰 于千 郝智彪 熊兵 孙长征 韩彦军 汪莱 李洪涛 甘霖 罗毅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期25-28,共4页
高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/... 高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/低Al组分的Al_(x)Ga_(1-x)As三元合金组成,可以在830~870 nm范围内形成大于0.9的反射。在AlGaAs DBR的增强下,将GaAs吸收层所需的厚度降低到1 040 nm,兼顾PD对光的吸收率和光生载流子的渡越时间。采用双台面、聚合物平面化、共面波导电极结构制作了UTC-PD器件。该器件在850 nm波长、-2 V偏压下具有19.26 GHz的-3 dB带宽和0.492 6 A/W的响应度。 展开更多
关键词 gaas algaas 光电探测器 单行载流子 分布布拉格反射器 850 nm波长
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AlGaAs光电阴极表面清洗技术研究
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作者 陈鑫龙 王震 +5 位作者 杨炳辰 贾子昕 徐智 崔佳华 张晶 周翔 《光电子技术》 CAS 2024年第3期195-202,共8页
针对高Al组分AlGaAs光电阴极设计了不同清洗方法,通过XPS对不同清洗条件下的材料表面元素成分进行了测试分析,并结合SEM和高倍显微镜对光电阴极材料表面缺陷进行了分析研究。在超高真空腔体中进行了透射式AlGaAs光电阴极及其像增强管的... 针对高Al组分AlGaAs光电阴极设计了不同清洗方法,通过XPS对不同清洗条件下的材料表面元素成分进行了测试分析,并结合SEM和高倍显微镜对光电阴极材料表面缺陷进行了分析研究。在超高真空腔体中进行了透射式AlGaAs光电阴极及其像增强管的制备,测试了器件的光谱响应曲线和图像质量。结果表明,采用H_(2)SO_(4)/H_(2)O_(2)/H_(2)O溶液和HCl/H_(2)O溶液的化学清洗工艺,结合等离子体物理清洗工艺,可有效去除AlGaAs表面的氧化物、有机颗粒和杂质C,提升器件的光谱灵敏度和图像质量。 展开更多
关键词 铝镓砷光电阴极 超高真空 光谱响应 化学清洗
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532 nm响应增强的AlGaAs光电阴极
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作者 王东智 张益军 +8 位作者 李诗曼 童泽昊 唐嵩 石峰 焦岗成 程宏昌 富容国 钱芸生 曾玉刚 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期368-376,共9页
AlGaAs光电阴极具有响应速度快和光谱响应范围可调的特性,可被应用于水下光通信领域.为了解决AlGaAs发射层较低的光吸收限制其量子效率提高的问题,利用分布式布拉格反射镜(DBR)结构对特定波长光的反射作用,将透过光重新反射回发射层进... AlGaAs光电阴极具有响应速度快和光谱响应范围可调的特性,可被应用于水下光通信领域.为了解决AlGaAs发射层较低的光吸收限制其量子效率提高的问题,利用分布式布拉格反射镜(DBR)结构对特定波长光的反射作用,将透过光重新反射回发射层进一步提高吸收率,从而增强阴极在532 nm波长处的响应能力.通过求解一维连续性方程,建立了具有DBR结构的AlGaAs光电阴极光谱响应模型.采用时域有限差分法,分析了DBR结构中子层周期对数、子层材料以及发射层、缓冲层厚度对发射层吸收率的影响,对比了有无DBR结构AlGaAs光电阴极的光吸收分布.结果表明,周期对数为20、子层材料为Al_(0.7)Ga_(0.3)As/AlAs的DBR结构对532 nm光的反射效果最优.基于该DBR结构,发射层和缓冲层厚度分别为495 nm和50 nm时,发射层对532 nm光具有最佳吸收率.通过对外延生长的AlGaAs光电阴极进行激活实验,结果表明具有DBR结构的AlGaAs光电阴极在532 nm波长处的光谱响应率相比无DBR结构的AlGaAs光电阴极光谱响应率提升了约1倍. 展开更多
关键词 algaas光电阴极 分布式布拉格反射镜 光谱响应 光吸收
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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
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作者 ZHANG Zhihong MENG Bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 gaas nanowires gaas/algaas core-shell structure crystal phase optical property
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AlGaAs基光电阴极光学性质计算模型分析
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作者 赵静 冯琤 +1 位作者 覃翠 郭婧 《南京工程学院学报(自然科学版)》 2023年第3期14-20,共7页
为了分析不同波长响应对光电阴极结构的要求,提出适用于各类响应的AlGaAs基光电阴极的计算模型.通过宽光谱响应GaAs和窄带响应AlGaAs基光电阴极样品试验证实模型的有效性.基于该模型仿真研究AlGaAs基光电阴极组件中GaAs发射层及各子层、... 为了分析不同波长响应对光电阴极结构的要求,提出适用于各类响应的AlGaAs基光电阴极的计算模型.通过宽光谱响应GaAs和窄带响应AlGaAs基光电阴极样品试验证实模型的有效性.基于该模型仿真研究AlGaAs基光电阴极组件中GaAs发射层及各子层、AlGaAs窗口层、Si_(3)N_(4)增透层的厚度与400~900 nm单波长光子吸收情况的分布关系.仿真结果表明,同一波长响应下,GaAs发射层对光电阴极吸收率的影响最大,其次是Si_(3)N_(4)增透层,而AlGaAs窗口层对吸收率的影响不明显.要得到90%以上的吸收率,在600 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于0.5μm,700 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于0.8μm,800 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于1.5μm.400~600 nm波段的光子主要在GaAs发射层表面0.2μm内被吸收,700~800 nm波段的光子主要在GaAs发射层表面0.6μm内被吸收,而850 nm以后的光子在各子层间的吸收比较均匀.该结论对不同响应AlGaAs基光电阴极的优化设计具有一定的参考价值. 展开更多
关键词 algaas基光电阴极 多发射层模型 吸收率 阴极厚度 单波长
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The High Quantum Efficiency of Exponential-Doping AlGaAs/GaAs Photocathodes Grown by Metalorganic Chemical Vapor Deposition 被引量:2
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作者 ZHANG Yi-Jun ZHAO Jing +3 位作者 ZOU Ji-Jun NIU Jun CHEN Xin-Long CHANG Ben-Kang 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2013年第4期88-91,共4页
An exponential-doping structure is successfully applied to the preparation of AlGaAs/GaAs photocathodes through the metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD)technique.The experimental results show that the quantum... An exponential-doping structure is successfully applied to the preparation of AlGaAs/GaAs photocathodes through the metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD)technique.The experimental results show that the quantum efficiency in the entire waveband region for the exponential-doping photocathodes grown by MOCVD is remarkably enhanced as compared to those grown by molecular beam epitaxy.As a result of the improved built-in electric fields and cathode performance parameters,the photoemission characteristics for the MOCVD-grown transmission-mode and reflection-mode AlGaAs/GaAs photocathodes are different over the wavelength region of interest. 展开更多
关键词 algaas/gaas MOCVD MODE
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Atomic-scale insights of indium segregation and its suppression by GaAs insertion layer in InGaAs/AlGaAs multiple quantum wells 被引量:1
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作者 马淑芳 李磊 +8 位作者 孔庆波 徐阳 刘青明 张帅 张西数 韩斌 仇伯仓 许并社 郝晓东 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期544-548,共5页
The In segregation and its suppression in InGaAs/AlGaAs quantum well are investigated by using high-resolution x-ray diffraction(XRD)and photoluminescence(PL),combined with the state-of-the-art aberration corrected sc... The In segregation and its suppression in InGaAs/AlGaAs quantum well are investigated by using high-resolution x-ray diffraction(XRD)and photoluminescence(PL),combined with the state-of-the-art aberration corrected scanning transmission electron microscopy(Cs-STEM)techniques.To facility our study,we grow two multiple quantum wells(MQWs)samples,which are almost identical except that in sample B a thin GaAs layer is inserted in each of the InGaAs well and AlGaAs barrier layer comparing to pristine InGaAs/AlGaAs MQWs(sample A).Our study indeed shows the direct evidences that In segregation occurs in the InGaAs/AlGaAs interface,and the effect of the Ga As insertion layer on suppressing the segregation of In atoms is also demonstrated on the atomic-scale.Therefore,the atomic-scale insights are provided to understand the segregation behavior of In atoms and to unravel the underlying mechanism of the effect of GaAs insertion layer on the improvement of crystallinity,interface roughness,and further an enhanced optical performance of InGaAs/AlGaAs QWs. 展开更多
关键词 Ingaas/algaas quantum well gaas insertion layer In segregation scanning transmission electron microscopy
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入射光在AlGaAs窗口层界面散射对透射式GaAs光电阴极分辨力的影响
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作者 郭欣 石峰 +3 位作者 贾甜甜 张若愚 程宏昌 张益军 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第8期148-155,共8页
为研究透射式GaAs光电阴极在不同波长入射光环境下的图像分辨能力,提出了一种基于散射传递函数的AlGaAs窗口层界面散射理论模型。制作了透射式GaAs光电阴极,利用不同波长入射光散射传递函数和点扩散函数变化,基于有参峰信噪比拟合对AlG... 为研究透射式GaAs光电阴极在不同波长入射光环境下的图像分辨能力,提出了一种基于散射传递函数的AlGaAs窗口层界面散射理论模型。制作了透射式GaAs光电阴极,利用不同波长入射光散射传递函数和点扩散函数变化,基于有参峰信噪比拟合对AlGaAs窗口层界面散射引起的入射光学图像退化程度进行了定量分析。结果表明,在相同的粗糙度下随着入射光波长的增加,入射光学图像的能量损失越小,成像质量越高,而三代微光像增强器不同波长入射光测试条件下极限分辨力变化趋势与仿真计算结果一致,可为后续提高透射式GaAs光电阴极分辨力提供了技术支撑。 展开更多
关键词 光电阴极 gaas 散射传递函数 波长 粗糙度 分辨力
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320×256 GaAs/AlGaAs长波红外量子阱焦平面探测器 被引量:11
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作者 金巨鹏 刘丹 +4 位作者 王建新 吴云 曹菊英 曹妩媚 林春 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期833-837,共5页
量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处... 量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处于起步阶段。研制了基于GaAs/AlxGa1-xAs材料、峰值响应波长为9.9μm的长波320×256 n型QWIP焦平面阵列器件,其像元中心距25μm,光敏元面积为22μm×22μm。GaAs衬底减薄后的QWIP焦平面阵列,与Si基CMOS读出电路(ROIC)通过铟柱倒焊互连,并且在65 K工作温度下进行了室温环境目标成像。该焦平面器件的规模和成像质量相比之前国内报道的结果都有较大提高。焦平面平均峰值探测率达1.5×1010cm.Hz1/2/W。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 gaas/algaas 焦平面 红外热成像
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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
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作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 MOCVD algaas/gaas 量子阱红外探测器 红外热成像
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层内应力的种类及其表征与测量 被引量:6
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作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期88-92,共5页
本文介绍了透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As窗层和 Ga As光电发射外延层内应力的种类及其表征方法和测量方法 。
关键词 gaas/algaas 光电阴极 X射线衍射 应力 外延 测量方法 表征方法 砷化镓 铝砷镓化合物 半导体
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层倒易点二维图分析 被引量:4
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作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期312-316,共5页
本文介绍了摇摆曲线和倒易点二维图在评价晶格完整性时的特点 ,分析了透射式Ga As光电阴极样品 Al Ga As/Ga As外延层的倒易点二维图 ,获得了晶面弯曲以及Al Ga As外延层中 Al组份变化等方面的信息 ,为优化外延工艺提供了可靠的保证 .
关键词 algaas/gaas X射线衍射 光电阴极 倒易点二维图 砷化镓 透射式gaas光电阴极 外延层 镓铝砷化合物
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层X射线衍射摇摆曲线半峰宽研究 被引量:3
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作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期93-97,共5页
本文研究了晶体 X射线摇摆曲线半峰宽同其晶格完整性之间的关系 ,外延层之间
关键词 algaas/gaas X射线衍射 应力 光电阴极 砷化镓 铝镓砷化合物 摇摆曲线半峰宽 外延层 半导体
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带有腔面非注入区的大功率808nm GaAs/AlGaAs激光二极管列阵 被引量:4
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作者 方高瞻 肖建伟 +4 位作者 马骁宇 谭满清 刘宗顺 刘素平 冯小明 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第12期9-11,共3页
报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的... 报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的激光二极管列阵高 4 0 %。器件在连续 15W下恒功老化 ,工作寿命超过 50 0 0h。 展开更多
关键词 非注入区 COD gaas/algaas 激光二级管列阵 腔面 固件激光器
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9μm Cutoff 128×128 AlGaAs/GaAs Quantum Well Infrared Photodetector Focal Plane Arrays 被引量:4
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作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1355-1359,共5页
We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit process... We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit processing technology. A test structure of the photodetector with a mesa size of 300μm × 300μm is also made in order to obtain the device parameters. The measured dark current density at 77K is 1.5 × 10^-3A/cm^2 with a bias voltage of 2V. The peak of the responsivity spectrum is at 8.4μm,with a cutoff wavelength of 9μm. The blackbody detectivity is shown to be 3.95 × 10^8 (cm · Hz^1/2)/W. The final FPA is flip-chip bonded on a CMOS read-out integrated circuit. The infrared thermal images of some targets at room temperature background are successfully demonstrated at 80K operating temperature with a ratio of dead pixels of less than 1%. 展开更多
关键词 algaas/gaas quantum well infrared photodetector infrared thermal images
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AlGaAs/GaAs多量子阱红外探测器暗电流特性 被引量:3
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作者 赵永林 李献杰 +3 位作者 蔡道民 周洲 郭亚娜 韩丽丽 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z5期68-71,共4页
介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小... 介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小于40 K 时,随着温度的改变暗电流没有明显的变化;当温度大于40 K 时,暗电流随着温度的升高迅速变大,正、负偏压下 QWIP 暗电流具有不对称特性。 展开更多
关键词 algaas/gaas 量子阱红外探测器 暗电流
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质子辐照对GaAs/AlGaAs多量子阱材料光学性质的影响 被引量:6
17
作者 黄万霞 林理彬 +1 位作者 曾一平 潘量 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期957-962,共6页
用固定能量为20keV,剂量为1011~1013/cm 2 的质子和固定剂量为1×1011/cm 2,能量为30~100keV 的质子,对GaAs/AlGaAs 多量子阱材料进行辐照,得到了材料的光致发光特性随质子能... 用固定能量为20keV,剂量为1011~1013/cm 2 的质子和固定剂量为1×1011/cm 2,能量为30~100keV 的质子,对GaAs/AlGaAs 多量子阱材料进行辐照,得到了材料的光致发光特性随质子能量和剂量的变化关系,并进行了讨论.结果表明,质子辐照对材料的光学性质有破坏性的影响,这种影响是通过两种机制引起的.相同能量的质子辐照,随着辐照剂量的增大,对量子阱光致发光峰的破坏增大.相同剂量的质子辐照,当辐照质子的射程刚好覆盖整个量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏最严重,当辐照质子的射程超过量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏反而减小. 展开更多
关键词 量子阱材料 光学性质 质子辐照 gaas algaas
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透射式GaAs光电阴极性能提高以及结构优化
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作者 吕行 富容国 +2 位作者 常本康 郭欣 王芝 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期266-272,共7页
为了提高透射式GaAs光电阴极性能,将国内与美国ITT公司的透射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行对比,可知我国透射式光电阴极积分灵敏度已经达到2130μA/lm,美国ITT达到了2330μA/lm.利用修正后的量子效率、光学性能以及积分灵敏度的理论... 为了提高透射式GaAs光电阴极性能,将国内与美国ITT公司的透射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行对比,可知我国透射式光电阴极积分灵敏度已经达到2130μA/lm,美国ITT达到了2330μA/lm.利用修正后的量子效率、光学性能以及积分灵敏度的理论模型,分别对两者进行光学结构拟合.结果表明,国内光电阴极在窗口层和发射层的厚度、电子扩散长度以及后界面复合速率等方面均与ITT有一定差距.为了缩短两者的差距,优化阴极结构参数,具体研究了电子扩散长度和发射层厚度对量子效率的影响,结果表明如果均匀掺杂透射式GaAs光电阴极发射层厚度为1.3μm、电子扩散长度为7μm,则积分灵敏度可以达到2800μA/lm以上. 展开更多
关键词 Ga As光电阴极 透射式 结构优化 光学性能 光电发射性能
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界面态对AlGaAs/GaAs HEMT直流输出特性的影响 被引量:5
19
作者 张兴宏 程知群 +3 位作者 夏冠群 徐元森 杨玉芬 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期989-993,共5页
本文利用高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流输出分析模型,首次定量地分析了界面态对AlGaAs/GaAs HEMT 直流输出特性的影响.考虑界面态的作用,详细分析了不同界面态密度对HEMT的IV特性和器件跨导的影响.... 本文利用高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流输出分析模型,首次定量地分析了界面态对AlGaAs/GaAs HEMT 直流输出特性的影响.考虑界面态的作用,详细分析了不同界面态密度对HEMT的IV特性和器件跨导的影响.我们的研究结果表明随着界面态密度的增加,栅极电压对电流的控制能力减小,从而使器件的跨导减小. 展开更多
关键词 HEMT 界面态 直流输出 algaas gaas 晶体管
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MOCVD与MBE生长GaAs/AlGaAs量子阱材料的红外探测器特性比较 被引量:5
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作者 李娜 李宁 +9 位作者 陆卫 窦红飞 陈张海 刘兴权 沈学础 H.H.Tan LanFu C.Jagadish M.B.Johnston M.Gal 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期441-444,共4页
用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长... 用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长的材料和相关器件进行了比较 ,MOCVD法可满足量子阱材料和器件的要求 . 展开更多
关键词 algaas 量子阱 红外探测器 MOCVD 砷化镓
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