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金与甘氨酸配合作用实验研究中的某些问题──与毛华海和张哲儒商榷
被引量:
1
1
作者
周朝宪
季宏兵
王中良
《地质地球化学》
CSCD
北大核心
1997年第1期92-94,共3页
本文评述了毛华海和张哲儒[1]文中的一些问题,即反应中样品管内实际压力;fo2的确定;样品管材料对实验的影响;配位数确定。
关键词
金
甘氨酸
配合作用
毛华海
张哲儒
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职称材料
P型杂质Ga在SiO_2-Si内界面分凝规律研究
2
作者
裴素华
修显武
+2 位作者
孙海波
周忠平
张晓华
《科学技术与工程》
2003年第1期71-74,共4页
采用开管方式和SiO_2/Si系统,实现了P型杂质Ca在硅中的可控制掺杂。借助二次离子质谱(SIMS)和扩展电阻(SRP)分析方法,对已掺Ga的杂质硅,在二次氧化过程中产生的分凝效应进行了系统研究,首次得出Ga分凝的规律性,导出了Ca在SiO_2-Si内界...
采用开管方式和SiO_2/Si系统,实现了P型杂质Ca在硅中的可控制掺杂。借助二次离子质谱(SIMS)和扩展电阻(SRP)分析方法,对已掺Ga的杂质硅,在二次氧化过程中产生的分凝效应进行了系统研究,首次得出Ga分凝的规律性,导出了Ca在SiO_2-Si内界面Si一侧最低浓度值随时间变化的表达式。为全面理解Ga的扩散特性和建立开管扩Ga模型奠定了基础。
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关键词
P型杂质
GA
SiO2-Si内界面
分凝效应
钙
掺杂
半导体器件
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职称材料
开管扩Ga模型的初步建立
3
作者
裴素华
孙海波
+3 位作者
修显武
薛成山
杨利
郭兴龙
《科学技术与工程》
2003年第1期61-64,共4页
依照二次离子质谱(SIMS)、扩散电阻(SRP)和原子力显微镜(AFM)等分析手段,首次阐述了P型杂质Ga由SiO_2膜的吸收输运和SiO_2-Si内界面上的分凝效应两者的统一,完成硅中可控制掺杂的全过程;并揭示了其中SiO_2薄层的表面效应及Si的体内效应...
依照二次离子质谱(SIMS)、扩散电阻(SRP)和原子力显微镜(AFM)等分析手段,首次阐述了P型杂质Ga由SiO_2膜的吸收输运和SiO_2-Si内界面上的分凝效应两者的统一,完成硅中可控制掺杂的全过程;并揭示了其中SiO_2薄层的表面效应及Si的体内效应;初步建立起SiO_2/Si系下开管扩散Ga的模型。
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关键词
SiO2/Si系
扩散机理
运动轨迹
分布规律
掺杂
二次离子质谱
开管扩Ga模型
下载PDF
职称材料
题名
金与甘氨酸配合作用实验研究中的某些问题──与毛华海和张哲儒商榷
被引量:
1
1
作者
周朝宪
季宏兵
王中良
机构
中国科学院地球化学研究所矿床地球化学开放实验室
中国科学院地球化学研究所环境地球化学国家实验室
出处
《地质地球化学》
CSCD
北大核心
1997年第1期92-94,共3页
文摘
本文评述了毛华海和张哲儒[1]文中的一些问题,即反应中样品管内实际压力;fo2的确定;样品管材料对实验的影响;配位数确定。
关键词
金
甘氨酸
配合作用
毛华海
张哲儒
Keywords
pressure
fo_2
complexation
Au
siq_2
glycine
coordination number
分类号
O614.123 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
P型杂质Ga在SiO_2-Si内界面分凝规律研究
2
作者
裴素华
修显武
孙海波
周忠平
张晓华
机构
山东师范大学半导体研究所
出处
《科学技术与工程》
2003年第1期71-74,共4页
基金
国家自然科学基金(69976019)
山东省自然科学基金(Y99G01)
文摘
采用开管方式和SiO_2/Si系统,实现了P型杂质Ca在硅中的可控制掺杂。借助二次离子质谱(SIMS)和扩展电阻(SRP)分析方法,对已掺Ga的杂质硅,在二次氧化过程中产生的分凝效应进行了系统研究,首次得出Ga分凝的规律性,导出了Ca在SiO_2-Si内界面Si一侧最低浓度值随时间变化的表达式。为全面理解Ga的扩散特性和建立开管扩Ga模型奠定了基础。
关键词
P型杂质
GA
SiO2-Si内界面
分凝效应
钙
掺杂
半导体器件
Keywords
Ga
siq_2
-Si interface
segregation effect
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
开管扩Ga模型的初步建立
3
作者
裴素华
孙海波
修显武
薛成山
杨利
郭兴龙
机构
山东师范大学半导体所
出处
《科学技术与工程》
2003年第1期61-64,共4页
基金
国家自然科学基金(69976019)
山东省自然科学基金(Y99G01)
文摘
依照二次离子质谱(SIMS)、扩散电阻(SRP)和原子力显微镜(AFM)等分析手段,首次阐述了P型杂质Ga由SiO_2膜的吸收输运和SiO_2-Si内界面上的分凝效应两者的统一,完成硅中可控制掺杂的全过程;并揭示了其中SiO_2薄层的表面效应及Si的体内效应;初步建立起SiO_2/Si系下开管扩散Ga的模型。
关键词
SiO2/Si系
扩散机理
运动轨迹
分布规律
掺杂
二次离子质谱
开管扩Ga模型
Keywords
Ga
siq_2
/Si
module of open-tube diffusion
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
TN305.4 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金与甘氨酸配合作用实验研究中的某些问题──与毛华海和张哲儒商榷
周朝宪
季宏兵
王中良
《地质地球化学》
CSCD
北大核心
1997
1
下载PDF
职称材料
2
P型杂质Ga在SiO_2-Si内界面分凝规律研究
裴素华
修显武
孙海波
周忠平
张晓华
《科学技术与工程》
2003
0
下载PDF
职称材料
3
开管扩Ga模型的初步建立
裴素华
孙海波
修显武
薛成山
杨利
郭兴龙
《科学技术与工程》
2003
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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