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β-Ga2O3材料在半导体技术领域的应用现状 被引量:2
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作者 赵金霞 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第12期870-877,916,共9页
单斜晶系氧化镓(β-Ga2O3)超宽带半导体材料具有优良的电学、光学特性以及较高的物理化学稳定性,在大功率器件、紫外探测器以及气体传感器等技术领域具有巨大的应用前景,近年来已成为国际研发的热点。概述了β-Ga2O3半导体材料的特性... 单斜晶系氧化镓(β-Ga2O3)超宽带半导体材料具有优良的电学、光学特性以及较高的物理化学稳定性,在大功率器件、紫外探测器以及气体传感器等技术领域具有巨大的应用前景,近年来已成为国际研发的热点。概述了β-Ga2O3半导体材料的特性优势。综述了β-Ga2O3在功率半导体器件、紫外探测器、气体传感器、衬底材料以及GaN器件栅介质领域的研发和应用现状。最后,分析了β-Ga2O3材料在半导体技术领域的应用前景,指出大功率半导体器件领域和日盲深紫外探测器领域将是未来发展的重要方向。 展开更多
关键词 GA2o3 β-ga2o3功率器件 β-ga2o3紫外探测器 β-ga2o3气体传感器 Ga2o3衬底
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超宽禁带半导体β-Ga2O3单晶生长突破2英寸 被引量:8
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作者 唐慧丽 何诺天 +7 位作者 罗平 郭超 李秋 吴锋 王庆国 潘星宇 刘波 徐军 《人工晶体学报》 CSCD 北大核心 2017年第12期2533-2534,共2页
氧化镓(β—Ga2O3)单品是一种第四代超宽禁带氧化物半导体,其禁带宽度为4.8~4.9eV,具有独特的紫外透过特性(吸收截止边~260nm);击穿电场强度高达8MV/cm,是si的近27倍、SiC及GaN的2倍以上,巴利加优值分别是SiC、GaN的10倍... 氧化镓(β—Ga2O3)单品是一种第四代超宽禁带氧化物半导体,其禁带宽度为4.8~4.9eV,具有独特的紫外透过特性(吸收截止边~260nm);击穿电场强度高达8MV/cm,是si的近27倍、SiC及GaN的2倍以上,巴利加优值分别是SiC、GaN的10倍、4倍以上. 展开更多
关键词 宽禁带半导体 β-ga2o3 单晶生长 氧化物半导体 击穿电场强度 禁带宽度 透过特性 GaN
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导模法生长大尺寸高质量β-Ga2O3单晶 被引量:5
3
作者 练小正 张胜男 +3 位作者 程红娟 齐海涛 金雷 徐永宽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期622-626,共5页
以高纯Ga2O3为原料,使用自主设计的单晶生长炉,采用导模(EFG)法生长了2英寸(1英寸=2.54 cm)未掺杂的高质量β-Ga2O3单晶。研究了保护气氛对抑制Ga2O3原料高温分解速率的影响,对制备的β-Ga2O3单晶的晶体质量、位错和光学性能进行了... 以高纯Ga2O3为原料,使用自主设计的单晶生长炉,采用导模(EFG)法生长了2英寸(1英寸=2.54 cm)未掺杂的高质量β-Ga2O3单晶。研究了保护气氛对抑制Ga2O3原料高温分解速率的影响,对制备的β-Ga2O3单晶的晶体质量、位错和光学性能进行了测试和表征。结果表明,CO2保护气氛能够极大地抑制Ga2O3材料的高温分解,当CO2生长气压为1.5×105Pa时,Ga2O3的平均分解速率低于1 g/h。(100)面β-Ga2O3单晶的X射线衍射(XRD)摇摆曲线测试结果表明,其半高宽低至29 arcsec,表明晶体具有较高的质量;对晶体(100)面进行了位错腐蚀,结果显示其位错密度较低,约为4.9×10^4cm^-2;傅里叶变换红外光谱仪测试结果显示,β-Ga2O3单晶在紫外、可见光透过率达到80%以上。 展开更多
关键词 β-ga2o3单晶 宽带隙半导体 导模(EFG)法 晶体生长 透过率
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肖特基型β-Ga2O3日盲紫外光电探测器 被引量:1
4
作者 杨莲红 张保花 +1 位作者 郭福强 陈敦军 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期1240-1243,共4页
本文制备并研究了肖特基型β-Ga2O3日盲紫外光电探测器.结果表明:通过脉冲激光沉积外延生长的β-Ga2O3的(-201)晶面X射线衍射峰半高宽仅为36 arcsec,表现出了高的晶体质量;光暗条件下的I-V曲线显示所制备的器件具有明显的肖特基整流特性... 本文制备并研究了肖特基型β-Ga2O3日盲紫外光电探测器.结果表明:通过脉冲激光沉积外延生长的β-Ga2O3的(-201)晶面X射线衍射峰半高宽仅为36 arcsec,表现出了高的晶体质量;光暗条件下的I-V曲线显示所制备的器件具有明显的肖特基整流特性,在-5V偏压下暗电流保持在0.1nA量级,正向导通电压为1.5V;光电流谱显示器件在240nm处存在显著的峰值响应,并在260nm左右呈现陡峭的截止边,日盲紫外的带内带外抑制比达到1000.同时,也研究了不同掺杂对Ga2O3晶体质量的影响. 展开更多
关键词 肖特基 β-ga2o3 日盲紫外光电探测器
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大尺寸β-Ga2O3晶片的机械剥离及性能 被引量:1
5
作者 练小正 张胜男 +4 位作者 程红娟 王健 齐海涛 陈建丽 徐永宽 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第6期450-454,共5页
针对β—Ga2O3单晶易解理的特性,研究了晶体形状对其(100)主解理面的机械剥离影响。结果表明,棱角较为平缓的体单晶机械剥离时容易出现碎裂,而棱角尖锐的体单晶极易实现机械剥离,并且成功剥离出尺寸大于30mm×10mm的β-Ga2O3... 针对β—Ga2O3单晶易解理的特性,研究了晶体形状对其(100)主解理面的机械剥离影响。结果表明,棱角较为平缓的体单晶机械剥离时容易出现碎裂,而棱角尖锐的体单晶极易实现机械剥离,并且成功剥离出尺寸大于30mm×10mm的β-Ga2O3单晶片。测试了剥离的β-Ga2O3单晶片微观形貌、表面粗糙度、晶体质量以及位错。结果显示,剥离的β-Ga2O3单晶片具有高的表面质量;原子力显微镜(AFM)测试表明,晶片整体表面粗糙度小于1nm,存在0.5~1nm厚的原子台阶;晶片X射线衍射(XRD)摇摆曲线测试显示,其半高宽(FWHM)值低至50arc-sec,表明晶体具有较高的质量;对晶片进行位错腐蚀,结果显示制备的β-Ga2O3晶片具有较低的位错密度,约为6×10^4cm^-2。 展开更多
关键词 β-ga2o3 单晶 晶体加工 机械剥离 表面质量
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新一代功率半导体β-Ga2O3器件进展与展望 被引量:3
6
作者 刁华彬 杨凯 +1 位作者 赵超 罗军 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第11期875-887,901,共14页
Ga2O3是一种新兴的超宽禁带半导体材料,具有超宽带隙4.8 eV、超高理论击穿电场8 MV/cm以及超高的Baliga品质因数等优良特性,作为下一代高功率器件材料其越来越受到人们的关注。首先,回顾了宽禁带半导体材料β-Ga2O3的基本性质,包括β-Ga... Ga2O3是一种新兴的超宽禁带半导体材料,具有超宽带隙4.8 eV、超高理论击穿电场8 MV/cm以及超高的Baliga品质因数等优良特性,作为下一代高功率器件材料其越来越受到人们的关注。首先,回顾了宽禁带半导体材料β-Ga2O3的基本性质,包括β-Ga2O3的晶体结构和电学性质,简述了基于β-Ga2O3制造的功率器件,主要包括肖特基势垒二极管(SBD)和金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)。总结回顾了β-Ga2O3SBD和MOSFET近年来的研究进展,比较了不同结构器件的特性,并分析了目前β-Ga2O3功率器件存在的问题。分析表明,β-Ga2O3用于高功率和高压电子器件具有巨大潜力。 展开更多
关键词 β-ga2o3 超宽禁带半导体 功率器件 肖特基势垒二极管(SBD) 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MoSFET)
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β-Ga2O3单晶制备工艺的研究进展 被引量:2
7
作者 陈博利 杨依帆 +3 位作者 冷国琴 黄朝晖 孙峙 陶天一 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第1期1070-1077,共8页
β型氧化镓(β-Ga2O3)具有宽禁带、高击穿强度和低制造成本等优点,是制备第三代半导体的优质备选材料。制备β-Ga2O3材料的方法有直拉法、导模法、浮区法、布里奇曼法等。由于该材料在高温下易挥发,易产生较多杂质气体、晶体形状难以控... β型氧化镓(β-Ga2O3)具有宽禁带、高击穿强度和低制造成本等优点,是制备第三代半导体的优质备选材料。制备β-Ga2O3材料的方法有直拉法、导模法、浮区法、布里奇曼法等。由于该材料在高温下易挥发,易产生较多杂质气体、晶体形状难以控制、单晶中产生较多缺陷等问题。对目前β-Ga2O3制备方法进行综述,对多种制备方法的工艺、原理以及相关应用进行介绍,并对这些方法及工艺的特点进行对比,分析产品低质量的主要原因并提出解决建议,为未来优化β-Ga2O3材料制备工艺的研究提供参考。 展开更多
关键词 β-ga2o3 宽禁带半导体 单晶生长 制备工艺
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β-Ga2O3欧姆接触的研究进展 被引量:1
8
作者 杨凯 刁华彬 +1 位作者 赵超 罗军 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第9期681-690,共10页
近年来,随着氧化镓(Ga2O3)晶体生长技术取得突破性进展,氧化镓材料及器件的研究与应用成为国际上超宽禁带半导体领域的研究热点。综述了β-Ga2O3衬底的一些优点以及面临的挑战,重点介绍了如何实现良好的欧姆接触。围绕采用低功函数金属... 近年来,随着氧化镓(Ga2O3)晶体生长技术取得突破性进展,氧化镓材料及器件的研究与应用成为国际上超宽禁带半导体领域的研究热点。综述了β-Ga2O3衬底的一些优点以及面临的挑战,重点介绍了如何实现良好的欧姆接触。围绕采用低功函数金属、表面预处理、衬底掺杂和引入中间层的方法,阐述了目前国际上金属/β-Ga2O3欧姆接触的最新研究进展。总结了不同实验条件下可以获得的比接触电阻,目前可以获得的最低比接触电阻是4.6×10^-6Ω·cm^2。最后,预测未来金属/β-Ga2O3欧姆接触的主要研究方向是提高欧姆接触的热稳定性。 展开更多
关键词 β-ga2o3 欧姆接触 功率器件 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MoSFET) 金属电极
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Si/Mg/Fe掺杂β-Ga2O3单晶拉曼光谱表征及分析
9
作者 张胜男 练小正 +3 位作者 张颖 王健 刘卫丹 程红娟 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第2期158-162,共5页
β-Ga2O3单晶材料由于其优异的性能得到了广泛关注,但是对于其掺杂、能级、电学性能等方面的研究仍然比较欠缺。采用导模法分别制备了非故意掺杂β-Ga2O3单晶和Si/Mg/Fe掺杂的β-Ga2O3单晶,对样品进行了拉曼光谱测试和电学性能测试,研... β-Ga2O3单晶材料由于其优异的性能得到了广泛关注,但是对于其掺杂、能级、电学性能等方面的研究仍然比较欠缺。采用导模法分别制备了非故意掺杂β-Ga2O3单晶和Si/Mg/Fe掺杂的β-Ga2O3单晶,对样品进行了拉曼光谱测试和电学性能测试,研究不同掺杂元素对拉曼光谱的影响。对β-Ga2O3单晶的声子谱进行计算,并通过拉曼光谱测试进行了验证,对掺杂元素的取代位置进行了分析。结果表明,掺杂元素会对拉曼峰强度产生显著影响,Si、Mg、Fe均倾向于取代GaⅡO6八面体中心的GaⅡ原子。根据电学性能测试结果,Si掺杂会使β-Ga2O3单晶呈n型导电,Mg或Fe掺杂会使β-Ga2O3单晶呈半绝缘态。 展开更多
关键词 β-ga2o3单晶 拉曼光谱 电学性能 非故意掺杂 Si/Mg/Fe掺杂
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β-Ga2O3纳米材料的尺寸调控与光致发光特性 被引量:6
10
作者 马腾宇 李万俊 +7 位作者 何先旺 胡慧 黄利娟 张红 熊元强 李泓霖 叶利娟 孔春阳 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期214-224,共11页
氧化镓(Ga2O3)纳米材料在紫外透明电极、高温气体传感器、日盲紫外探测器和功率器件等领域具有巨大的应用潜力,而实现高结晶质量和尺寸形貌可控的Ga2O3纳米材料是关键.本文通过水热法制备了不同尺寸的羟基氧化镓(GaOOH)纳米棒、纳米棒... 氧化镓(Ga2O3)纳米材料在紫外透明电极、高温气体传感器、日盲紫外探测器和功率器件等领域具有巨大的应用潜力,而实现高结晶质量和尺寸形貌可控的Ga2O3纳米材料是关键.本文通过水热法制备了不同尺寸的羟基氧化镓(GaOOH)纳米棒、纳米棒束和纺锤体,经后期高温煅烧均成功转变为高质量单晶β-Ga2O3纳米材料并较好地保留了原始GaOOH的形态特征.利用X射线衍射(XRD)、拉曼散射光谱(Raman)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)等表征手段系统研究了前驱液的pH值大小和阴离子表面活性剂浓度对GaOOH和β-Ga2O3纳米材料晶体结构和表面形貌的影响,并深入探讨了不同条件下GaOOH纳米材料的生长机制.此外,室温光致发光谱(PL)测试发现不同形貌的β-Ga2O3纳米材料均展现出典型的蓝绿色发射峰和尖锐的红光发射峰,与纳米材料中本征缺陷的存在密切相关.上述研究结果为未来实现高质量β-Ga2O3纳米材料的可控制备提供了有益参考. 展开更多
关键词 β-ga2o3 纳米材料 尺寸调控 光致发光
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Transformation from β-Ga2O3 to GaN Nanowires via Nitridation 被引量:1
11
作者 王朋伟 宋祎璞 +2 位作者 章新政 徐军 俞大鹏 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第3期1038-1041,共4页
关键词 β-ga2o3 GAN 氮化物 物质转换 半导体
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Growth and physical characterization of high resistivityFe:β-Ga2O3 crystals 被引量:1
12
作者 张浩 唐慧丽 +4 位作者 何诺天 朱智超 陈佳文 刘波 徐军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第8期424-427,共4页
High quality 0.02 mol%,0.05 mol%,and 0.08 mol%Fe:β-Ga2O3 single crystals were grown by the floating zone method.The crystal structure,optical,electrical,and thermal properties were measured and discussed.Fe:β-Ga2O3 ... High quality 0.02 mol%,0.05 mol%,and 0.08 mol%Fe:β-Ga2O3 single crystals were grown by the floating zone method.The crystal structure,optical,electrical,and thermal properties were measured and discussed.Fe:β-Ga2O3 single crystals showed transmittance of higher than 80%in the near infrared region.With the increase of the Fe doping concentration,the optical bandgaps reduced and room temperature resistivity increased.The resistivity of 0.08 mol%Fe:β-Ga2O3 crystal reached to 3.63×1011Ω·cm.The high resistivity Fe:β-Ga2O3 single crystals could be applied as the substrate for the high-power field effect transistors(FETs). 展开更多
关键词 Fe:β-ga2o3 crystal high resistivity crystal growth
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MOCVD法制备β-Ga2O3一维纳米材料
13
作者 朱江 胡大强 +1 位作者 王颖 郇维亮 《辽宁科技大学学报》 CAS 2020年第4期272-276,320,共6页
采用金属有机化学气相沉积法,以Au为催化剂,在蓝宝石衬底上制备β-Ga2O3一维纳米材料。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、光致发光光谱仪对样品的物相、表面形貌、结构以及发光性能等进行了表征。主要研究了生长温度对其... 采用金属有机化学气相沉积法,以Au为催化剂,在蓝宝石衬底上制备β-Ga2O3一维纳米材料。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、光致发光光谱仪对样品的物相、表面形貌、结构以及发光性能等进行了表征。主要研究了生长温度对其各种性能的影响。结果表明,600℃时,样品呈非晶态的小颗粒;650℃时为非晶态的纳米线;700℃时为结晶态的纳米柱;750℃时为结晶态的大颗粒。随着生长温度升高,样品在357 nm和408 nm处出现发光峰,且其发光强度随温度升高而增强。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 一维纳米材料 β-ga2o3 生长温度
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β-Ga2O3薄膜的生长与应用 被引量:1
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作者 马聪聪 方志来 《光源与照明》 2019年第4期6-11,共6页
超宽禁带半导体氧化镓(Ga2O3)有五种晶相,其中β-Ga2O3能带带隙为4.7~4.9 eV,在高温气体传感、深紫外日盲光电探测和功率器件等领域具有重要应用潜力。文章综述了β-Ga2O3薄膜生长/掺杂技术、β-Ga2O3薄膜器件、β-Ga2O3器件在实际应用... 超宽禁带半导体氧化镓(Ga2O3)有五种晶相,其中β-Ga2O3能带带隙为4.7~4.9 eV,在高温气体传感、深紫外日盲光电探测和功率器件等领域具有重要应用潜力。文章综述了β-Ga2O3薄膜生长/掺杂技术、β-Ga2O3薄膜器件、β-Ga2O3器件在实际应用中渗透市场的挑战,以及未来工作的途径。 展开更多
关键词 β-ga2o3 薄膜生长 掺杂 器件
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Growth and Characteristics of Tunable Laser Crystals β-Ga2O3∶Cr
15
作者 Zhang Jungang Xia Changtai Deng Qun Xu Wusheng Shi Hongsheng Wu Feng Xu Jun 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期156-158,共3页
β-Ga2O3∶Cr single crystals have potential applications for tunable laser. In β-Ga2O3 crystal structure Cr3+ ions are in octahedron other than tetrahedron. So the Cr3+ ions are influenced by low field of β-Ga2O3 th... β-Ga2O3∶Cr single crystals have potential applications for tunable laser. In β-Ga2O3 crystal structure Cr3+ ions are in octahedron other than tetrahedron. So the Cr3+ ions are influenced by low field of β-Ga2O3 that results the 4T2 to 4A2 transition and show broad emission around 690 nm. β-Ga2O3 single crystals doped with different Cr3+ concentrations were grown by floating zone technique. Their absorption spectra and fluorescence spectra were measured at room temperature. The values of field splitting parameter Dq and Racah parameter B were calculated based on the absorption spectra. 展开更多
关键词 β-ga2o3 CR FLoATING ZoNE technique TUNABLE LASER
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Influence of annealing treatment on the luminescent properties of Ta:β-Ga2O3 single crystal
16
作者 余小威 崔慧源 +2 位作者 朱茂东 夏志林 赛青林 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第7期475-478,共4页
Ta5+doped β-Ga2O3 single crystals were grown by using the optical floating zone method, and then annealed in the air and nitrogen gas at 1400℃ for 20 hours.The transmittance spectra, photoluminescence(PL), x-ray irr... Ta5+doped β-Ga2O3 single crystals were grown by using the optical floating zone method, and then annealed in the air and nitrogen gas at 1400℃ for 20 hours.The transmittance spectra, photoluminescence(PL), x-ray irradiation spectra, and PL decay profiles of the samples were measured at room temperature.The relevant results show that the optical transmittance of the samples annealed in the air or nitrogen gas was improved.By drawing the(ahv)2–hv graph,it can be seen that the band gap decreased after being annealed in the air, but increased in nitrogen gas.The PL spectra and x-ray irradiation spectra show that the luminescent intensity of the sample annealed in the air increased substantially,while decreased for the sample annealed in nitrogen.The PL decay time of the Ta:β-Ga2O3 annealed in the air increased significantly compared with that of the Ta:β-Ga2O3 sample without annealing, but the tendency after annealing in nitrogen gas was opposite. 展开更多
关键词 Ta:β-ga2o3 FLoATING zone method TRANSMITTANCE spectra ANNEALING
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Investigation of current collapse and recovery time due to deep level defect traps inβ-Ga2O3 HEMT
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作者 R.Singh T.R.Lenka +3 位作者 R.T.Velpula B.Jain H.Q.T.Bui H.P.T.Nguyen 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第10期87-90,共4页
In this paper,drain current transient characteristics ofβ-Ga2O3 high electron mobility transistor(HEMT)are studied to access current collapse and recovery time due to dynamic population and de-population of deep leve... In this paper,drain current transient characteristics ofβ-Ga2O3 high electron mobility transistor(HEMT)are studied to access current collapse and recovery time due to dynamic population and de-population of deep level traps and interface traps.An approximately 10 min,and 1 h of recovery time to steady-state drain current value is measured under 1 ms of stress on the gate and drain electrodes due to iron(Fe)–dopedβ-Ga2O3 substrate and germanium(Ge)–dopedβ-Ga2O3 epitaxial layer respectively.On-state current lag is more severe due to widely reported defect trap EC–0.82 e V over EC–0.78 e V,-0.75 e V present in Iron(Fe)-dopedβ-Ga2O3 bulk crystals.A negligible amount of current degradation is observed in the latter case due to the trap level at EC–0.98 e V.It is found that occupancy of ionized trap density varied mostly under the gate and gate–source area.This investigation of reversible current collapse phenomenon and assessment of recovery time inβ-Ga2O3 HEMT is carried out through 2 D device simulations using appropriate velocity and charge transport models.This work can further help in the proper characterization ofβ-Ga2O3 devices to understand temporary and permanent device degradation. 展开更多
关键词 β-ga2o3 current collapse DEGRADATIoN HEMT recovery time TRAPS trapping effects
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A broadband self-powered UV photodetector of aβ-Ga2O3/γ-CuI p–n junction
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作者 孙伟铭 孙兵阳 +7 位作者 李山 麻国梁 高昂 江为宇 张茂林 李培刚 刘增 唐为华 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第2期342-347,共6页
The symmetric Ti/Au bi-layer point electrodes have been successfully patterned on theβ-Ga;O;films which are prepared by metal–organic chemical vapor deposition(MOCVD)and theγ-Cu I films which are prepared by spin-c... The symmetric Ti/Au bi-layer point electrodes have been successfully patterned on theβ-Ga;O;films which are prepared by metal–organic chemical vapor deposition(MOCVD)and theγ-Cu I films which are prepared by spin-coating.The fabricated heterojunction has a large open circuit voltage(Voc)of 0.69 V,desired for achieving self-powered operation of a photodetector.Irradiated by 254-nm ultraviolet(UV)light,when the bias voltage is-5 V,the dark current(Idark)of the device is 0.47 p A,the photocurrent(Iphoto)is-50.93 n A,and the photo-to-dark current ratio(Iphoto/Idark)reaches about 1.08×10;.The device has a stable and fast response speed in different wavelengths,the rise time(τr)and decay time(τd)are 0.762 s and 1.741 s under 254-nm UV light illumination,respectively.While theτr andτd are 10.709 s and7.241 s under 365-nm UV light illumination,respectively.The time-dependent(I–t)response(photocurrent in the order of10-10 A)can be clearly distinguished at a small light intensity of 1μW·cm;.The internal physical mechanism affecting the device performances is discussed by the band diagram and charge carrier transfer theory. 展开更多
关键词 β-ga2o3 γ-CuI HETERoJUNCTIoN broadband photodetector self-power
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Study on the nitridation of β-Ga2O3 films
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作者 程菲 李悦文 +10 位作者 赵红 修向前 贾志泰 刘铎 华雪梅 谢自力 陶涛 陈鹏 刘斌 张荣 郑有炓 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第8期382-386,共5页
Single-crystal GaN layers have been obtained by nitridingβ-Ga2O3 films in NH3 atmosphere.The effect of the temperature and time on the nitridation and conversion of Ga2O3 films have been investigated.The nitridation ... Single-crystal GaN layers have been obtained by nitridingβ-Ga2O3 films in NH3 atmosphere.The effect of the temperature and time on the nitridation and conversion of Ga2O3 films have been investigated.The nitridation process results in lots of holes in the surface of films.The higher nitridation temperature and longer time can promote the nitridation and improve the crystal quality of GaN films.The converted Ga N porous films show the single-crystal structures and lowstress,which can be used as templates for the epitaxial growth of high-quality GaN. 展开更多
关键词 β-ga2o3 NITRIDATIoN GAN SINGLE-CRYSTAL
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高质量β-Ga2O3纳米材料的可控生长与表征
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作者 蒋卓汛 吴征远 +1 位作者 阮微 方志来 《光源与照明》 2020年第1期1-5,共5页
超宽禁带半导体单斜氧化镓(β-Ga2O3)拥有4.6-4.9 e V的禁带宽度、高介电常数与击穿电场和良好的化学与热稳定性,在紫外透明电极、高温气体传感器、深紫外光电探测器以及高压大功率器件等领域具有重要潜在应用。本研究聚焦于β-Ga2O3纳... 超宽禁带半导体单斜氧化镓(β-Ga2O3)拥有4.6-4.9 e V的禁带宽度、高介电常数与击穿电场和良好的化学与热稳定性,在紫外透明电极、高温气体传感器、深紫外光电探测器以及高压大功率器件等领域具有重要潜在应用。本研究聚焦于β-Ga2O3纳米材料的制备,探究各生长参数对β-Ga2O3纳米材料性质的影响。本研究中通过优化生长条件,解决了β-Ga2O3纳米材料制备过程中晶体质量不高、生长方向不可控的问题,制备出了高质量的、厚度可控的单晶(201)β-Ga2O3纳米线、(010)β-Ga2O3纳米带与纳米片。 展开更多
关键词 β-ga2o3 纳米结构 可控生长
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