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气体放电等离子体(DPP)极紫外光源研究进展
1
作者
赵红军
李昊罡
+1 位作者
颜亮
李川
《微型机与应用》
2016年第9期8-11,共4页
极紫外光刻技术被认为是下一代最有潜力的光刻技术,对推动集成电路发展具有重要作用。极紫外光源是极紫外光刻技术的源头,其技术水平直接制约了光刻技术的发展。气体放电等离子体极紫外光源结构简单,转换效率高,适合大规模工业应用,具...
极紫外光刻技术被认为是下一代最有潜力的光刻技术,对推动集成电路发展具有重要作用。极紫外光源是极紫外光刻技术的源头,其技术水平直接制约了光刻技术的发展。气体放电等离子体极紫外光源结构简单,转换效率高,适合大规模工业应用,具备良好的应用前景。现有气体放电等离子体光源包括毛细管放电等离子体极紫外光源、激光辅助等离子体极紫外光源、等离子聚焦极紫外光源和中空阴极管放电等离子体极紫外光源等。近年来,极紫外光光刻技术工业化进展较快,该文对气体放电等离子体技术做了综述,掌握最新研究进展有助于推动我国相关领域研究。
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关键词
极紫外光源
气体放电
等离子体
毛细管放电
激光辅助放电
等离子体
聚焦
中空阴极触发等离子体箍缩
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职称材料
题名
气体放电等离子体(DPP)极紫外光源研究进展
1
作者
赵红军
李昊罡
颜亮
李川
机构
绵阳职业技术学院信息工程系
西安交通大学电力设备电气绝缘国家重点实验室
南方电网综合能源有限公司
出处
《微型机与应用》
2016年第9期8-11,共4页
基金
四川省自然科学基金项目(14ZB0267)
文摘
极紫外光刻技术被认为是下一代最有潜力的光刻技术,对推动集成电路发展具有重要作用。极紫外光源是极紫外光刻技术的源头,其技术水平直接制约了光刻技术的发展。气体放电等离子体极紫外光源结构简单,转换效率高,适合大规模工业应用,具备良好的应用前景。现有气体放电等离子体光源包括毛细管放电等离子体极紫外光源、激光辅助等离子体极紫外光源、等离子聚焦极紫外光源和中空阴极管放电等离子体极紫外光源等。近年来,极紫外光光刻技术工业化进展较快,该文对气体放电等离子体技术做了综述,掌握最新研究进展有助于推动我国相关领域研究。
关键词
极紫外光源
气体放电
等离子体
毛细管放电
激光辅助放电
等离子体
聚焦
中空阴极触发等离子体箍缩
Keywords
EUV source
DPP
capillary discharge
laser assisted discharge
dense plasma focus
hollow cathode triggered plasma pinc
分类号
TN23 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气体放电等离子体(DPP)极紫外光源研究进展
赵红军
李昊罡
颜亮
李川
《微型机与应用》
2016
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