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基于虚实结合的半导体制造工艺实验教学平台应用
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作者 商世广 刘有耀 +2 位作者 金蕾 刘维红 苗瑞霞 《集成电路应用》 2024年第1期68-71,共4页
阐述虚实结合的实验教学平台设计,将先进材料、半导体工艺、器件仿真工具引入实践教学中,包括课程内容、实验室建设和运行管理。构建一个虚实相结合、课内课外相结合和教学科研相结合的半导体制造工艺实践教学体系。
关键词 实验教学平台 半导体制造工艺 虚实结合 实践教学
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半导体制造工艺课程教学内容动态调整的研究
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作者 张旭辉 施天宇 廖美成 《中国现代教育装备》 2024年第7期150-153,共4页
目前半导体产业快速发展,电子专业相关课程中关于新技术和新工艺的内容仍未跟上发展速度,存在教材内容更新不及时、产学研结合不紧密等问题。对半导体制造工艺课程教学现状进行分析,结合存在的问题对教学内容进行改革,提出了教学内容动... 目前半导体产业快速发展,电子专业相关课程中关于新技术和新工艺的内容仍未跟上发展速度,存在教材内容更新不及时、产学研结合不紧密等问题。对半导体制造工艺课程教学现状进行分析,结合存在的问题对教学内容进行改革,提出了教学内容动态更新机制,主动调研新技术趋势,根据行业发展并结合实际问题进行教学内容更新,注重培养学生的思考与分析能力。同时,采用产学研紧密结合与多种手段辅助教学的方式,提高学生对新内容的理解程度,最终实现教学内容动态更新的目标。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 产学研结合 动态调整
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基于OBE教学模式的“半导体制造工艺”课程教学改革 被引量:1
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作者 杨德超 张颖 +3 位作者 王莉 曹海燕 宗杨 宋文斌 《电子世界》 2017年第22期46-47,共2页
针对"半导体制造工艺"课程的特点,结合ONE教学理念,针对我国高校微电子专业课程建设中普遍存在的问题,提出了"半导体制造工艺"课程的改革方案。改革以学生为中心,内容涵盖教学的各个方面,将理论教学与实地动手实践... 针对"半导体制造工艺"课程的特点,结合ONE教学理念,针对我国高校微电子专业课程建设中普遍存在的问题,提出了"半导体制造工艺"课程的改革方案。改革以学生为中心,内容涵盖教学的各个方面,将理论教学与实地动手实践紧密结合,提高教学质量,使学生的各方面能力得到全面锻炼与提升。 展开更多
关键词 OBE教学模式 半导体制造工艺 理论结合实际
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砷化镓与硅半导体制造工艺的差异分析 被引量:2
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作者 黄国洲 张翼 哈建宇 《电子测试》 2003年第9期45-53,共9页
半导体材料可分为由单一元素构成的元素半导体与两种以上元素化合物所构成的化合物半导体两类,前者如硅(Silicon)、锗(Germanium)等所形成的半导体,后者如砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)、磷化铟(Indium Phospide,Inp)等化合物形成的半... 半导体材料可分为由单一元素构成的元素半导体与两种以上元素化合物所构成的化合物半导体两类,前者如硅(Silicon)、锗(Germanium)等所形成的半导体,后者如砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)、磷化铟(Indium Phospide,Inp)等化合物形成的半导体。在过去以个人计算机为应用主轴的时期,全球半导体产业皆以硅材料为发展重心。由于硅元素先天上的物理限制,传统的硅——互补金氧半导体(Complementary Metal OxideSemiconductor,CMOS)制造工艺较无法胜任处理1GHz以上的高频信号,近两三年来,在通讯应用半导体的需求急增后,特别是对于高工作频率、高放大率与低噪声等条件极为要求的无线通讯IC而言,三五族化合物半导体砷化镓的材料与制造工艺的需求便格外受到重视。 展开更多
关键词 砷化镓 半导体制造工艺 主动层 微影制造 金属化制造 离子布植 蚀刻
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巴斯夫在浙江嘉兴的电子级硫酸装置正式投入运营 最高品质硫酸用于半导体制造工艺
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作者 Grace 《上海化工》 CAS 2018年第6期69-69,共1页
2018年5月30日,巴斯夫宣布,其位于浙江嘉兴的新建电子级硫酸(H2SO4)装置(年产12 000 t)正式投入运营,将主要服务于国内日益增长的半导体制造行业。在客户强劲需求的推动下,该装置尚未竣工即同时启动扩建项目,扩容后产能将翻番。扩... 2018年5月30日,巴斯夫宣布,其位于浙江嘉兴的新建电子级硫酸(H2SO4)装置(年产12 000 t)正式投入运营,将主要服务于国内日益增长的半导体制造行业。在客户强劲需求的推动下,该装置尚未竣工即同时启动扩建项目,扩容后产能将翻番。扩建项目预计将于2018年年底投产。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 硫酸装置 电子级 巴斯夫 运营 嘉兴 浙江 品质
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半导体制造工艺中铝金属突起缺陷的研究
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作者 雷海波 姚亮 +2 位作者 杨继业 季芝慧 刘艳平 《集成电路应用》 2012年第1期17-17,共1页
通过对铝金属成膜工艺参数实验和研究发现,提高铝成膜温度、弱化铝的(111)晶向以及增加抗反射层Ti的厚度都可以减少或者避免铝金属突起这种缺陷的发生。
关键词 半导体制造工艺 铝金属 缺陷 成膜温度 工艺参数 反射层 晶向
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ArF准分子光刻机使半导体制造工艺到达32nm Gigaphoton公司发布了用于下一代半导体制造的世界上最强大的氟化氩(ArF)准分子激光器
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作者 张岩 《光机电信息》 2008年第1期29-29,共1页
Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90W、重复频率为6000Hz的新型氟化氩(ArF)准分子激光器。该激光器可用于浸没式光刻机,其可使制作半导体晶片的制程仅为32nm。目前,全球芯片制造商刚开始将45nm制程技术投入量产,据估计32nm... Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90W、重复频率为6000Hz的新型氟化氩(ArF)准分子激光器。该激光器可用于浸没式光刻机,其可使制作半导体晶片的制程仅为32nm。目前,全球芯片制造商刚开始将45nm制程技术投入量产,据估计32nm制程技术将于2009年投入使用。 展开更多
关键词 准分子激光器 半导体制造工艺 光刻机 氟化 ARF 世界 制程技术
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ST通过CMP为科研机构和设计公司提供先进半导体制造工艺
8
《电子设计应用》 2008年第3期120-120,共1页
意法半导体(ST)和CMP(Circuits Multi Projects)宣布,通过CMP提供的硅中介服务,大学、科研院所和公司可以使用意法半导体的45nm CMOS制造工艺进行原型设计。这项消息在巴黎举行的CMP用户年会上发布,会中集结了采用CMP多项目晶片... 意法半导体(ST)和CMP(Circuits Multi Projects)宣布,通过CMP提供的硅中介服务,大学、科研院所和公司可以使用意法半导体的45nm CMOS制造工艺进行原型设计。这项消息在巴黎举行的CMP用户年会上发布,会中集结了采用CMP多项目晶片服务的大学院校、科研机构或私营企业的代表。通过CMP的服务,他们可以委托芯片厂商小批量制造几十个到几千个的先进集成电路。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 科研机构 原型设计 CMP 意法半导体 ST 中介服务 MULTI
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布局5nm,量产7nm、10nm2020年半导体制造工艺技术前瞻
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作者 张平(文/图) 《微型计算机》 2020年第7期73-79,共7页
晶体管制造工艺在近年来发展得不是非常顺利,行业巨头英特尔的主流产品长期停滞在14nm上,10nm工艺性能也迟迟得不到改善。台积电、三星等巨头虽然在积极推进7nm乃至5nm工艺,但是其频率和性能表现依旧存在较大的改进空间。从2019年底到2... 晶体管制造工艺在近年来发展得不是非常顺利,行业巨头英特尔的主流产品长期停滞在14nm上,10nm工艺性能也迟迟得不到改善。台积电、三星等巨头虽然在积极推进7nm乃至5nm工艺,但是其频率和性能表现依旧存在较大的改进空间。从2019年底到2020年初,业内也召开了多次与半导体制造业相关的行业会议,对2020年和以后的半导体工艺进展速度和方向进行了一些预判。今天本文就综合各大会议的消息和厂商披露内容,对2020年半导体工艺制程相关内容进行汇总,以帮助大家了解未来半导体产业发展的脉络。 展开更多
关键词 半导体产业 半导体制造工艺 半导体制造 披露内容 半导体工艺 长期停滞 改进空间 工艺制程
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半导体制造工艺与芯片功耗
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《个人电脑》 2004年第5期214-214,共1页
关键词 半导体制造工艺 芯片功耗 晶体管 工作频率 逻辑设计
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粤芯半导体:推动产业链创新链融合发展 助力广东打造中国集成电路 “第三极”
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《广东科技》 2024年第5期30-31,共2页
[导读]企业是创新的主体,也是推动创新创造的生力军。2024年7月,省人大常委会正式通过《广东省科技创新条例》(以下简称《条例》),对技术创新体系构建做出了规定,突出企业在技术创新中的核心作用。粤芯半导体技术股份有限公司(以下简称... [导读]企业是创新的主体,也是推动创新创造的生力军。2024年7月,省人大常委会正式通过《广东省科技创新条例》(以下简称《条例》),对技术创新体系构建做出了规定,突出企业在技术创新中的核心作用。粤芯半导体技术股份有限公司(以下简称“粤芯半导体”)作为广东省本土自主创新企业,在半导体制造工艺与结构、技术平台与产品应用以及产学研合作与人才培养等方面都取得了积极成效。本刊特邀粤芯半导体结合自身业务发展情况对《条例》相关内容进行解读。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 产业链创新 半导体技术 产学研合作 业务发展情况 第三极 技术创新 集成电路
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半导体集成电路制造中的准分子激光退火研究进展 被引量:1
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作者 喻学昊 方晓东 +3 位作者 游利兵 王怡哲 刘墨林 王豪 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2023年第12期69-90,共22页
随着半导体集成电路芯片的尺寸越来越小、结构越来越复杂,芯片制造过程中的退火工艺技术也在不断进步。激光退火以其在芯片制造过程中热预算控制的优势,在芯片制造退火工艺中的重要性正在显现。而准分子激光的特点是波长短、峰值功率高... 随着半导体集成电路芯片的尺寸越来越小、结构越来越复杂,芯片制造过程中的退火工艺技术也在不断进步。激光退火以其在芯片制造过程中热预算控制的优势,在芯片制造退火工艺中的重要性正在显现。而准分子激光的特点是波长短、峰值功率高、作用于大多数物质表面时能量迅速被物质表面吸收。准分子激光退火可以实现对材料表面温度梯度的控制,是半导体集成电路制造中热处理工艺的重要选择。对半导体集成电路制造过程中准分子激光退火研究进展进行了综述。概述了集成电路制造中退火工艺热预算控制与激光退火的理论模拟研究结果;着重介绍了准分子激光退火在离子掺杂控制、超浅节形成、沟道外延等材料处理中的研究进展,以及在金属层制备和3D器件中的应用。研究表明,准分子激光退火工艺有望为三维半导体集成电路制造提供新的解决方案。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 热预算 激光退火 准分子激光
原文传递
2006年“化合物半导体制造工艺”国际会议简介
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作者 邓志杰(摘译) 《现代材料动态》 2006年第9期4-5,共2页
2006年“化合物半导体制造工艺(CSMANTECH)”国际会议于4月24-27日在加拿大温哥华举行。会议分设15个分会场讨论高压FET、HBT、高速工艺以及GaN方面最新进展等议题。会议同时还举办了有65家单位参与的展览。
关键词 半导体制造工艺 会议简介 国际会议 化合物 温哥华 加拿大 FET HBT
原文传递
利用半导体工艺制造的微透镜阵列及其应用 被引量:4
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作者 张云熙 《世界电子元器件》 1998年第10期64-65,共2页
近来,由于高科技的发展,出现了一种新颖的微透镜阵列。它与传统的光学透镜原理相同,但制造方法不同,是用半导体制造工艺中使用的光刻、离子交换等方法制造而成的微小透镜阵列,这种透镜阵列应用很广,是信息时代极重要的光信息处理关键器... 近来,由于高科技的发展,出现了一种新颖的微透镜阵列。它与传统的光学透镜原理相同,但制造方法不同,是用半导体制造工艺中使用的光刻、离子交换等方法制造而成的微小透镜阵列,这种透镜阵列应用很广,是信息时代极重要的光信息处理关键器件之一。自1991年以来,有关微透镜阵列,召开了多次国际会议,并进行了国际标准化工作。笔者从事光学方面的研究工作已有多年,对国外同行业的发展也极为关注, 展开更多
关键词 半导体工艺制造 微透镜阵列 应用
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半导体工艺中超高纯气的稳定供应技术
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作者 韩美 刘俊义 《低温与特气》 CAS 2000年第2期21-24,共4页
新的半导体制造工艺要求高精度 ,具有可再现性的科学化的制造技术 。
关键词 半导体制造工艺 超高纯气体 稳定供应
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EDW ARDS发布用于LED和化合物半导体制造的新型真空泵
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《塑料制造》 2012年第9期60-60,共1页
英国西萨塞克斯郡,克劳雷(2012年7月3日)全球领先的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵,新设备经过优化,适用于LED%造中使用的MOCVD工艺,以及在栅堆叠(gatestack)中使用... 英国西萨塞克斯郡,克劳雷(2012年7月3日)全球领先的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵,新设备经过优化,适用于LED%造中使用的MOCVD工艺,以及在栅堆叠(gatestack)中使用III—V材料的化合物半导体制造工艺。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 化合物 LED 真空泵 MOCVD工艺 尾气处理系统 服务供应商 真空设备
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采用VESTAKEEP PEEK制造半导体生产支架
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作者 佳工 《军民两用技术与产品》 2009年第8期20-20,共1页
德国赢创工业集团制造的高性能聚合物VESTAKEEP PEEK是一种主要用于制造长期在恶劣环境中使用的部件的材料。由于其卓越的耐热性(热变形温度260℃)、耐磨性和机械性能.被半导体制造工艺(洗槽、阀门、晶元导向器)、LCD制造工艺(齿... 德国赢创工业集团制造的高性能聚合物VESTAKEEP PEEK是一种主要用于制造长期在恶劣环境中使用的部件的材料。由于其卓越的耐热性(热变形温度260℃)、耐磨性和机械性能.被半导体制造工艺(洗槽、阀门、晶元导向器)、LCD制造工艺(齿轮、转动轴)和工业机械所需精密部件的龙头制造商——Innodis有限公司用于5种新型半导体生产支架(LCD导轮)中。VESTAKEEP PEEK可以承受恶劣的LCD加工条件.这些条件类似于超高加工温度条件下的半导体制造(喷镀、光刻和蚀刻)。 展开更多
关键词 半导体制造工艺 半导体生产 PEEK 支架 高性能聚合物 工业机械 加工条件 热变形温度
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统计过程控制技术在半导体生产中的应用 被引量:2
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作者 黄晓兰 《电子标准化与质量》 1999年第3期15-18,共4页
在制造行业,质量是企业的生命,也是一切工作的根本。将统计技术运用于质量管理,是目前国际上制造行业较为流行的科学管理方法。本文以本单位的实际运用为例,介绍了运用统计过程控制方法对半导体生产线进行质量管理的一种实践。
关键词 统计过程控制 半导体制造工艺 质量管理 控制图
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英飞凌和博世签订功率半导体合作协议
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《现代电子技术》 2009年第8期177-177,共1页
关键词 功率半导体 合作协议 金属氧化物半导体场效应晶体管 半导体制造工艺 功率MOSFET 半导体工厂 股份公司 斯图加特
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意法半导体(ST)推出汽车级多路输出稳压器,实现尺寸更小、更经济的车载信息娱乐系统
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《电子设计工程》 2015年第24期178-178,共1页
意法半导体(STMicroelectronics,简称ST)的新系列高集成度汽车级电源管理芯片在单片上集成多个稳压器,有助于汽车系统厂商降低车载信息娱乐产品的成本和尺寸。作为该系列的首款产品,L5963集成两个降压DC-DC转换开关稳压器、低压降(lo... 意法半导体(STMicroelectronics,简称ST)的新系列高集成度汽车级电源管理芯片在单片上集成多个稳压器,有助于汽车系统厂商降低车载信息娱乐产品的成本和尺寸。作为该系列的首款产品,L5963集成两个降压DC-DC转换开关稳压器、低压降(low-dropout)线性稳压器和高边驱动器(high-side driver)。L5963采用意法半导体最先进的BCD8s汽车级半导体制造工艺和深沟道隔离(DTI,Deep Trench Isolation)技术。BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)技术是意法半导体的独创技术,可在同一颗芯片上集成各种高低压器件, 展开更多
关键词 意法半导体 ST 稳压器 车载信息 娱乐系统 电源管理芯片 半导体制造工艺 首款 多路输出 娱乐产品
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