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电子电镀铜新体系中添加剂对铜电沉积及镀层结构的影响机制
被引量:
1
1
作者
李威青
金磊
+4 位作者
杨家强
王赵云
杨防祖
詹东平
田中群
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第9期2919-2925,共7页
以低主盐浓度、弱碱性、复合配位的柠檬酸盐电子电镀铜新体系为研究对象,阐明了新型添加剂XNS(聚胺类化合物和含氮化合物的混合物)在新电沉积铜体系中的作用.恒电流沉积实验结果表明,添加剂XNS能够提高铜沉积的电流效率,特别是在2.0 A/d...
以低主盐浓度、弱碱性、复合配位的柠檬酸盐电子电镀铜新体系为研究对象,阐明了新型添加剂XNS(聚胺类化合物和含氮化合物的混合物)在新电沉积铜体系中的作用.恒电流沉积实验结果表明,添加剂XNS能够提高铜沉积的电流效率,特别是在2.0 A/dm^(2)电流密度下,添加剂XNS使铜沉积电流效率达到95.4%,提高了17.5%.电化学实验的结果表明,添加剂XNS改变了铜沉积的电极过程,由原来的两步单电子还原过程[Cu(Ⅱ)+e→Cu(Ⅰ)+e→Cu]转变为一步两电子还原过程[Cu(Ⅱ)+2e→Cu].虽然添加剂XNS呈现促进铜电沉积的特征,即还原电流增大,但铜镀层颗粒却更细小、更致密均匀.在2.0 A/dm2电流密度下,铜镀层晶体结构由无添加剂时的(111)晶面重构为高择优取向的(200)晶面.
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关键词
电子电镀铜
添加剂
复合配位体系
弱碱性低浓度工艺
晶面高择优取向
下载PDF
职称材料
题名
电子电镀铜新体系中添加剂对铜电沉积及镀层结构的影响机制
被引量:
1
1
作者
李威青
金磊
杨家强
王赵云
杨防祖
詹东平
田中群
机构
厦门大学化学化工学院
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第9期2919-2925,共7页
基金
国家自然科学基金(批准号:21972118,21827802,22021001,22132003)资助.
文摘
以低主盐浓度、弱碱性、复合配位的柠檬酸盐电子电镀铜新体系为研究对象,阐明了新型添加剂XNS(聚胺类化合物和含氮化合物的混合物)在新电沉积铜体系中的作用.恒电流沉积实验结果表明,添加剂XNS能够提高铜沉积的电流效率,特别是在2.0 A/dm^(2)电流密度下,添加剂XNS使铜沉积电流效率达到95.4%,提高了17.5%.电化学实验的结果表明,添加剂XNS改变了铜沉积的电极过程,由原来的两步单电子还原过程[Cu(Ⅱ)+e→Cu(Ⅰ)+e→Cu]转变为一步两电子还原过程[Cu(Ⅱ)+2e→Cu].虽然添加剂XNS呈现促进铜电沉积的特征,即还原电流增大,但铜镀层颗粒却更细小、更致密均匀.在2.0 A/dm2电流密度下,铜镀层晶体结构由无添加剂时的(111)晶面重构为高择优取向的(200)晶面.
关键词
电子电镀铜
添加剂
复合配位体系
弱碱性低浓度工艺
晶面高择优取向
Keywords
Electronic copper electroplating
Additive
Multi coordination
Weakly alkaline and low concentration process
Highly preferred crystal orientation
分类号
O646 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子电镀铜新体系中添加剂对铜电沉积及镀层结构的影响机制
李威青
金磊
杨家强
王赵云
杨防祖
詹东平
田中群
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021
1
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