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1
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硅片键合套刻偏差测量技术 |
李运锋
蓝科
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《光学仪器》
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2021 |
1
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2
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基于刻痕的云南绝版套刻的数字模拟合成 |
李杰
侯剑侠
王雪松
徐丹
普园媛
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《系统仿真学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2016 |
3
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3
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八台阶二元光学器件套刻误差的逐层分析法研究 |
叶钧
许乔
侯西云
杨国光
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《浙江大学学报（自然科学版）》
CSCD
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1999 |
2
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4
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分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究 |
陈世杰
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《微细加工技术》
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1995 |
1
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5
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一种激光直写机特殊样品套刻的样品台 |
李喜玲
李华
郭党委
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《高校实验室工作研究》
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2015 |
0 |
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6
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提高整机套刻精度的软件处理方法 |
田宏
吕晓真
郭黎
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《电子工业专用设备》
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1999 |
0 |
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7
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云南绝版套刻版画的数字模拟合成技术研究 |
李倩
解婉誉
李玉润
普园媛
徐丹
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《图学学报》
CSCD
北大核心
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2013 |
3
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8
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套刻成像技术中波长可调性的准确度优化 |
SK现代有限公司
KLA公司
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《中国集成电路》
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2019 |
0 |
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65nm技术节点套刻控制的经济价值(英文) |
John A.Allgair
Kevin M.Monahan
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《电子工业专用设备》
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2004 |
0 |
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电场诱导压印模具的套刻制备及其实验 |
黎相孟
田洪淼
祝锡晶
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《电加工与模具》
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2020 |
0 |
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11
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新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU |
Ilan Englard
Rich Piech
Liraz Gershtein
Ram Peltinov
Ofer Adan
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《集成电路应用》
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2008 |
1
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12
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GCA8500SE光刻机套刻精度的误差分析和校正 |
周虎明
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《电子工业专用设备》
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1996 |
1
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13
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PDMS微流控芯片光刻加工的套刻对准方法 |
赵幸福
冯泽宇
陈荣进
袁佳琪
赵晓晓
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《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
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2021 |
0 |
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14
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铝金属溅射工艺优化改善光刻套刻精度 |
陈菊英
姚亮
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《集成电路应用》
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2016 |
0 |
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ASML推出创新光刻平台TWINSCAN NXT套刻精度及生产能力显著提高 |
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《电子工业专用设备》
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2008 |
0 |
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自动套刻仪（AUR）对位标记腐蚀工艺研究 |
李国喜
徐恭文
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《江南半导体通讯》
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1991 |
0 |
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0.18μm铜金属双重镶嵌工艺中空间成像套刻精度分析 |
Bernd Schulz
Harry J. Levinson
Rolf Seltmann
Joel Seligson
Pavel Izikson
Anat Ronen
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《电子工业专用设备》
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2005 |
0 |
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1.0μm微细图形套刻精度研究 |
陶建中
邓小军
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《微电子技术》
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1993 |
0 |
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19
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改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统(英文) |
Jan Mulkens
Bob Streefkerk
Hans Jasper
Jos de Klerk
Fred de Jong
Leon Levasier
Martijn Leenders
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《电子工业专用设备》
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2008 |
0 |
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20
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借助光刻成像仿真软件的μDBO穿线套刻标记 |
陈天元
周钰颖
高安
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《清华大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2023 |
0 |
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