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题名导体镶嵌型巨电流变抛光液及其对硅材料的抛光
被引量：1
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作者
邱昭晖
江波
陆坤权
沈容
熊小敏
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机构
中山大学物理学院
中山大学电子与信息工程学院
中国科学院物理研究所
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第5期218-225,共8页
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基金
国家自然科学基金(11874430)。
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文摘
目的 解决现有电流变抛光液在电场下强度低和使用寿命短等问题。方法 分析现有电流变抛光液的缺点及其原因,提出将新型巨电流变液——导体镶嵌型电流变液应用于抛光领域,并研制出以二氧化硅为磨料,以镶嵌了纳米碳的二氧化钛为电介质颗粒的硅油基电流变抛光液。测定添加了不同粒径磨料抛光液的剪切强度与电场强度、温度、使用时间的关系。搭建简易的旋转式电流变抛光装置,对不同粒径磨料的电流变抛光液在硅片表面的抛光效果进行试验。结果 碳镶嵌二氧化钛基电流变抛光液具有高剪切强度(>30kPa)、低漏电流(<1μA)、高温度稳定性(25~125℃)、长使用寿命和对少量磨料不敏感等优点。抛光实验结果表明,在电压2.5 kV下,硅片经过添加了2μm磨料的电流变抛光液持续抛光3 h后,其表面粗糙度从206nm降至6.4nm。之后再采用添加200nm磨料和20nm磨料的抛光液先后继续精抛后,其粗糙度降至0.46 nm和0.36 nm。结论 碳镶嵌二氧化钛基巨电流变抛光液能有效降低表面粗糙度,改善表面质量,很好地应用于精密抛光领域,展示出良好的应用前景。
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关键词
导体镶嵌型电流变液
剪切强度
电流变抛光
硅片
表面粗糙度
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Keywords
nano-conductor dominated electrorheological fluid
shear strength
electrorheological polishing
silicon wafer
surface roughness
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分类号
TG580.692
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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