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丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用 被引量：8
1
作者 秦健 刘泽文 +1 位作者 钟艳 王太宏 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第7期454-459,共6页
对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光... 对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光时间设定曝光剂量梯度的方法,研究了干胶的曝光特性。采用不同质量分数的显影液,研究干胶的显影特性,获得了优化的结果。采用干胶系统进行了微流体沟道制作,得到了侧壁陡直的微沟道结构。实验发现,65mJ/cm2及以上的曝光剂量可使厚度为50μm的干膜光刻胶充分曝光并获得形貌效果良好的微结构,质量分数为5%的显影液具有最快的显影速度。 展开更多
关键词 干膜光刻胶(DFP) 微电子机械系统(MEMS) 曝光 显影 微流道
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ITO电极的湿膜光刻与干膜光刻制备研究 被引量：1
2
作者 严慧敏 郭颖 +4 位作者 朱华新 刘桂林 朱冰洁 李帅 李果华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1143-1147,共5页
聚合物太阳电池的制备中,阳极ITO的制备是决定器件效率的重要工艺之一。本文主要对ITO电极的湿膜光刻和干膜光刻制备方法进行了比较,并用光学相干断层扫描(OCT)技术等方法对制备的电极进行了检测,结果表明湿膜光刻可以获得较为精细的电... 聚合物太阳电池的制备中,阳极ITO的制备是决定器件效率的重要工艺之一。本文主要对ITO电极的湿膜光刻和干膜光刻制备方法进行了比较,并用光学相干断层扫描(OCT)技术等方法对制备的电极进行了检测,结果表明湿膜光刻可以获得较为精细的电极结构。 展开更多
关键词 湿膜光刻 干膜光刻 OCT ITO电极
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用于微电子机械系统的干膜光刻工艺研究 被引量：5
3
作者 朱昊枢 胡进 朱新生 《苏州大学学报（自然科学版）》 CAS 2011年第4期53-56,共4页
干膜光阻的光刻工艺因简单廉价,正在逐渐替代传统的光刻工艺.本文针对干膜光刻的贴膜、曝光和显影等工艺参数进行优化,并将其应用于深槽刻蚀.试验结果表明:整套工艺过程简单可靠,几何尺寸控制良好,产品质量高.
关键词 干膜光刻胶 深度刻蚀 准LIGA
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超高清晰度电路干膜光刻胶
4
作者 左麟 《国外科技消息》 1989年第6期12-13,共2页
关键词 干膜光刻胶 电路
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