期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到3篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
火焰水解法制作SiO_2平面波导材料 被引量：4
1
作者 吴远大 邢华 +4 位作者 张乐天 韦占雄 郑伟 刘国范 张玉书 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期117-120,共4页
采用火焰水解法在Si基上淀积SiO2 /GeO2 :SiO2 预制材料 ,然后在真空中 /空气气氛中高温处理 ( 1380℃ )后 ,制得玻璃化的SiO2 /GeO2 :SiO2 膜材料。该材料膜厚适中 ( 10～ 30μm)、平整度好、光滑透明和适合制作单模、多模列阵平面波... 采用火焰水解法在Si基上淀积SiO2 /GeO2 :SiO2 预制材料 ,然后在真空中 /空气气氛中高温处理 ( 1380℃ )后 ,制得玻璃化的SiO2 /GeO2 :SiO2 膜材料。该材料膜厚适中 ( 10～ 30μm)、平整度好、光滑透明和适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。利用XRD ,SEM和台阶仪等仪器对SiO2 展开更多
关键词 火焰水解法 光波导 二氧化硅 平面波导材料
下载PDF
火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
2
作者 郑伟 吴远大 +4 位作者 邢华 张乐天 李爱武 刘国范 张玉书 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第0Z2期253-256,共4页
本文采用火焰水解法（FHD）在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜，再经过高温玻璃化处理，获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm，波长1550nm处的折射率为1.4462，芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm，折射率为1.463... 本文采用火焰水解法（FHD）在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜，再经过高温玻璃化处理，获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm，波长1550nm处的折射率为1.4462，芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm，折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。 展开更多
关键词 火焰水解法 Si02-Ge02平面波导材料 玻璃态 折射率 表面特性 测试 二氧化硅 二氧化锗
下载PDF
硅基平面波导材料的制作
3
作者 吴远大 张乐天 +4 位作者 邢华 韦占雄 郑伟 刘国范 张玉书 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第4期432-435,共4页
采用火焰水解法 (FHD)在Si基上淀积SiO2 预制材料 ,然后在真空中 空气气氛中高温处理 (1 380℃ ) ,制得玻璃化的SiO2 膜材料 ;该材料膜厚适中 (1 0 30 μm)、平整度好、光滑透明 ,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。并利用XRD、SEM... 采用火焰水解法 (FHD)在Si基上淀积SiO2 预制材料 ,然后在真空中 空气气氛中高温处理 (1 380℃ ) ,制得玻璃化的SiO2 膜材料 ;该材料膜厚适中 (1 0 30 μm)、平整度好、光滑透明 ,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO2 膜进行了测试分析。 展开更多
关键词 火焰水解法 硅基平面波导材料 波分复用技术
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部