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基于半导体光放大器的非相干光源抗反膜的优化设计 被引量:1
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作者 黄黎蓉 黄德修 张新亮 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1471-1475,共5页
对半导体光放大器(SOA)放大的自发发射(ASE)谱进行了实验和理论研究,并且分析了SOA端面反射率对ASE谱的谱宽以及平坦度的影响.结果表明,不恰当的抗反膜会严重减小输出光谱的带宽;而在采用具有宽带材料增益谱的有源区基础上,结合抗反膜... 对半导体光放大器(SOA)放大的自发发射(ASE)谱进行了实验和理论研究,并且分析了SOA端面反射率对ASE谱的谱宽以及平坦度的影响.结果表明,不恰当的抗反膜会严重减小输出光谱的带宽;而在采用具有宽带材料增益谱的有源区基础上,结合抗反膜的优化设计,则可以获得既宽又平坦的非相干光源. 展开更多
关键词 半导体光放大器 非相干光源 带宽 平坦度 抗反膜
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2 维光子晶体抗反膜的制作及其特性分析
2
作者 赵凤梅 张向苏 +1 位作者 刘守 任雪畅 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期645-647,共3页
为了研究2维亚波长光栅的抗反射特性,分析了2维光子晶体的2维光栅结构,通过全息3束光干涉的方法,在光刻胶上制作了六角结构的2维全息光子晶体结构。把具有2维全息光子晶体结构的光刻胶作为母版采用全息模压的方法,将结构复制到薄膜材料... 为了研究2维亚波长光栅的抗反射特性,分析了2维光子晶体的2维光栅结构,通过全息3束光干涉的方法,在光刻胶上制作了六角结构的2维全息光子晶体结构。把具有2维全息光子晶体结构的光刻胶作为母版采用全息模压的方法,将结构复制到薄膜材料上。结果表明,这种抗反膜在红外波段具有增透作用,与理论分析相吻合。 展开更多
关键词 全息 抗反膜 等效介质理论 亚波长光栅
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高数值孔径光刻成像中顶层抗反膜的优化 被引量:4
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作者 周远 李艳秋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期337-343,共7页
高数值孔径光学光刻中,成像光分布在较大的入射角范围内,传统顶层抗反膜优化方法只对垂直光来减小光刻胶上表面反射率,难以保证光在整个入射角范围实现反射率最小。提出全入射角范围顶层抗反膜优化方法,即在入射角范围内实现光刻胶-顶... 高数值孔径光学光刻中,成像光分布在较大的入射角范围内,传统顶层抗反膜优化方法只对垂直光来减小光刻胶上表面反射率,难以保证光在整个入射角范围实现反射率最小。提出全入射角范围顶层抗反膜优化方法,即在入射角范围内实现光刻胶-顶层抗反膜-空气(或浸没液体)界面的最小平均反射率,并优化顶层抗反膜参量。结果表明,该方法能减小薄膜干涉引起的成像线宽(CD)变化,有效控制成像摆效应,增大顶层抗反膜透射率,提高横电和横磁偏振光透射率之比,从而提高扫描曝光系统的生产率,进一步改善成像衬比度。 展开更多
关键词 光学光刻 摇摆线效应 高数值孔径 顶层抗反膜
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高数值孔径光刻成像中双层底层抗反膜的优化 被引量:3
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作者 周远 李艳秋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期472-477,共6页
在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的... 在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的最小权重平均值来配置膜层。针对传统掩模、衰减相移掩模以及交替相移掩模的情况,用该方法优化双层底层抗反膜。结果表明,如果成像时进入物镜光瞳的高阶光越多,高阶光光强越大,则掩模对底层抗反膜优化的影响越大。在某些成像条件下,如使用交替相移掩模实现成像,有必要在底层抗反膜优化中考虑掩模的影响。 展开更多
关键词 光学光刻 衬底射率 底层抗反膜(BARC) 高数值孔径
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GaInAsSb/GaSb红外探测器抗反膜的研究 被引量:1
5
作者 刘延祥 夏冠群 +2 位作者 唐绍裘 李志怀 程宗权 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期327-332,共6页
简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件... 简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件的I-V特性及黑体探测率的测试表明:蒸镀ZrO2膜后GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器的黑体探测率平均提高了60.28%,远大于蒸镀A l2O3、SiO2后的48.91%和40.04%,说明ZrO2膜是一种较理想的单层抗反膜,使器件性能有所提高。 展开更多
关键词 抗反膜 GAINASSB/GASB 射率I-V 黑体探测率
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抗反膜设计改善半导体光放大器偏振不灵敏性的理论研究 被引量:1
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作者 黄黎蓉 李含辉 +2 位作者 胡振华 黄永箴 黄德修 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期633-636,共4页
通过理论分析和计算表明,适当地增加反射率,在同样的工作电流下,半导体光放大器(SOA)的增益将有所增大。合理地调节抗反膜的折射率和厚度,可以使TM模的反射率R_(TM)在一段波长范围内大于TE模的反射率R_(TE)。这样的反射率分布可以相对提... 通过理论分析和计算表明,适当地增加反射率,在同样的工作电流下,半导体光放大器(SOA)的增益将有所增大。合理地调节抗反膜的折射率和厚度,可以使TM模的反射率R_(TM)在一段波长范围内大于TE模的反射率R_(TE)。这样的反射率分布可以相对提高TM模的增益,在一定程度上改善SOA的偏振不灵敏性。通过抗反膜的设计来辅助解决偏振不灵敏的问题,可以使SOA在有源区和波导设计中获得更大的灵活性,更好地兼顾其他的性能要求。 展开更多
关键词 物理学 半导体光放大器 偏振不灵敏 抗反膜 射率
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基于等离子体增强化学气相沉积技术的光电子器件多层抗反膜的设计和制作 被引量:2
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作者 袁贺 孙长征 +3 位作者 徐建明 武庆 熊兵 罗毅 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期7239-7244,共6页
针对光电子器件端面抗反镀膜的要求,研究了基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术的多层抗反膜的设计和制作.首先,对影响SiNx折射率的因素进行了实验研究,确定了具有大折射率差的SiO2/SiNx材料的PECVD沉积条件.根据理论计算分析,设... 针对光电子器件端面抗反镀膜的要求,研究了基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术的多层抗反膜的设计和制作.首先,对影响SiNx折射率的因素进行了实验研究,确定了具有大折射率差的SiO2/SiNx材料的PECVD沉积条件.根据理论计算分析,设计了四层SiO2/SiNx抗反膜结构,能够在70nm的波长范围内实现低于10-4的反射率,并且当单层膜厚度变化在±5nm以内时,中心波长1550nm处的反射率低于5×10-4.根据计算结果,在F-P激光器端面进行了SiO2/SiNx多层抗反镀膜的制作.对输出光功率谱的测试分析表明,在1535—1565nm范围内的残余反射率达到了10-4量级。 展开更多
关键词 抗反膜 等离子体增强化学气相沉积 二氧化硅/氮化硅多层
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高数值孔径光刻中衬底反射率的控制 被引量:1
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作者 周远 刘安玲 刘光灿 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期730-736,共7页
高数值孔径(N4)光刻中,需要控制衬底反射率以减小薄膜干涉对光刻性能的影响。采用薄膜光学方法研究了高NA光刻中底层抗反膜(BARC)对衬底反射率的控制。针对硅基底对单层和双层BARC进行优化以探索满足高NA光刻要求的BARC材料光学参数容... 高数值孔径(N4)光刻中,需要控制衬底反射率以减小薄膜干涉对光刻性能的影响。采用薄膜光学方法研究了高NA光刻中底层抗反膜(BARC)对衬底反射率的控制。针对硅基底对单层和双层BARC进行优化以探索满足高NA光刻要求的BARC材料光学参数容限。结果表明,当NA超过0.8时,单层BARC无法控制衬底反射率而有必要采用双层BARC。横电(TE)比横磁(TM)偏振光的衬底反射率更难以控制。NA越大,单层BARC折射系数的优化值越大。双层BARC中的顶层膜应采用低吸收率材料而底层膜应采用高吸收率材料。本研究可为高NA光刻中的BARC材料研制及衬底反射率控制提供理论依据。 展开更多
关键词 光学 衬底射率 底层抗反膜优化 高数值孔径光刻
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微细加工技术与设备
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《中国光学》 EI CAS 2008年第3期85-86,共2页
关键词 光刻胶 数学模型 离心式涂胶 掩模 技术与设备 曝光量 微细加工 工件台 光电工程 抗反膜
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Production of D-p-Hydroxyphenylglycine from DL-5-p-Hydroxyphenyl Hydantoin by Immobilized Pseudomonas Putida Cells in a Hollow Fiber Membrane Bioreactor
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作者 张铭俊 张衍坤 +2 位作者 李京华 李曙光 虞星炬 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第1期86-90,共5页
An immobilized cell membrane bioreaction system was developed to promote cell stability. The hollow fiber membrane bioreactor with immobilized Pseudomonas putida cells, operating in continual repeated batch operation ... An immobilized cell membrane bioreaction system was developed to promote cell stability. The hollow fiber membrane bioreactor with immobilized Pseudomonas putida cells, operating in continual repeated batch operation mode was used for producing D-p-hydroxyphenylglycine from DL-5-p-hydroxyphenyl hydantoin. The concentration of N-carbamyl-D-p-hydroxyphenylglycine and D-p-hydroxyphenylglycine in the efflux was analyzed by high performance liquid chromatography at different intervals. 展开更多
关键词 D-P-HYDROXYPHENYLGLYCINE immobilized Pseudomonas putida cells hollow fiber mem-brane bioreactor
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基于FDTD仿真算法的硅基光子集成分析
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作者 仝香 《电子技术(上海)》 2023年第7期36-38,共3页
阐述硅基微结构材料在界面光学调控中的应用,包括多种平面光学结构设计在宽谱透反射的特性,目标是实现一种具有高抗反射性质以及便于微加工的硅基光学抗反射膜。
关键词 硅基光子学 抗反膜 微加工技术
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高数值孔径光学光刻成像中的体效应 被引量:3
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作者 周远 李艳秋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1091-1095,共5页
为有效控制成像线宽,研究了高数值孔径光学光刻中的体效应并提出一种光刻胶膜层优化方法,利用成像中的摇摆效应平衡体效应对成像线宽的影响。首先根据系统数值孔径和照明相干因子确定成像光入射角分布,相对所有入射光求出光刻胶底面单... 为有效控制成像线宽,研究了高数值孔径光学光刻中的体效应并提出一种光刻胶膜层优化方法,利用成像中的摇摆效应平衡体效应对成像线宽的影响。首先根据系统数值孔径和照明相干因子确定成像光入射角分布,相对所有入射光求出光刻胶底面单位体积吸收的能量平均值。然后用最小二乘法拟合得到能量平均值随光刻胶厚度变化的解析式并求能量平均值的导数。最后通过优化光刻胶膜层,使能量平均值的导数绝对值最小。按优化结果设计光刻胶膜层,利用商业光刻软件Prolith9.0得到成像线宽随光刻胶厚度的变化。结果表明,该方法能在3040nm的光刻胶厚度范围,有效地减小由体效应引起的成像线宽的变化。 展开更多
关键词 光刻 体效应 层优化 高数值孔径 底层抗反膜
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Enhanced CMOS image sensor by flexible 3D nanocone anti-reflection film 被引量:2
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作者 Li Tian Xiaolei Luo +3 位作者 Min Yin Dongdong Li Xinzhong Xue Hui Wang 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第2期130-135,共6页
Complementary metal oxide semiconductor(CMOS) image sensors(CIS) are being widely used in digital video cameras, web cameras, digital single lens reflex camera(DSLR), smart phones and so on, owing to their high level ... Complementary metal oxide semiconductor(CMOS) image sensors(CIS) are being widely used in digital video cameras, web cameras, digital single lens reflex camera(DSLR), smart phones and so on, owing to their high level of integration, random accessibility, and low-power operation. It needs to be installed with the cover glass in practical applications to protect the sensor from damage, mechanical issues,and environmental conditions, which, however, limits the accuracy and usability of the sensor due to the reflection in the optical path from air-to-cover glass-to-air. In this work, the flexible 3D nanocone anti-reflection(AR) film with controlled aspect ratio was firstly employed to reduce the light reflection at air/cover glass/air interfaces by directly attaching onto the front and rear sides of the CIS cover glass.As both the front and rear sides of cover glass were coated by the AR film, the output image quality was found to be improved with external quantum efficiency increased by 7%, compared with that without AR film. The mean digital data value, root-mean-square contrast, and dynamic range are increased by45.14%, 38.61% and 57, respectively, for the output image with AR films. These results provide a novel and facile pathway to improve the CIS performance and also could be extended to rational design of other image sensors and optoelectronic devices. 展开更多
关键词 CMOS image sensor Nancone anti-reflection film Quantum efficiency Digital data value Root-mean-square contrast
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Durable, superhydrophobic, antireflection, and low haze glass surfaces using scalable metal dewetting nanostructuring 被引量:6
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作者 Daniel Infante Karl W. Koch +5 位作者 Prantik Mazumder Lili Tian Albert Carrilero Domenico Tullit David Baker Valerio Pruneri 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第6期429-440,共12页
In this paper we report a multifunctional nanostructured surface on glass that, for the first time, combines a wide range of optical, wetting and durability properties, including low omnidirectional reflectivity, low ... In this paper we report a multifunctional nanostructured surface on glass that, for the first time, combines a wide range of optical, wetting and durability properties, including low omnidirectional reflectivity, low haze, high transmission, superhydrophobicity, oleophobicity, and high mechanical resistance. Nanostructures have been fabricated on a glass surface by reactive ion etching through a nanomask, which is formed by dewetting ultrathin metal films (〈 10 nm thickness) subjected to rapid thermal annealing (RTA). The nanostructures strongly reduce the initial surface reflectivity (-4%), to less than 0.4% in the 390--800 nm wavelength range while keeping the haze at low values (〈 0.9%). The corresponding water contact angle (0c) is -24.5~, while that on a flat surface is -43.5~. The hydrophilic wetting nanostructure can be changed into a superhydrophobic and oleophobic surface by applying a fluorosilane coating, which achieves contact angles for water and oil of -156.3~ and -116.2~, respectively. The multicomponent composition of the substrate (Coming~ glass) enables ion exchange through the surface, so that the nanopillars' mechanical robustness increases, as is demonstrated by the negligible changes in surface morphology and optical performance after 5,000-run wipe test. The geometry of the nanoparticles forming the nanomask depends on the metal material, initial metal thickness and RTA parameters. In particular we show that by simply changing the initial thickness of continuous Cu films we can tailor the metal nanoparticles' surface density and size. The developed surface nanostructuring does not require expensive lithography, thus it can be controlled and implemented on an industrial scale, which is crucial for applications. 展开更多
关键词 nanostructures surface modification ANTIREFLECTIVE superhydrophobic/philicsurfaces self-assembly DEWETTING
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