304不锈钢的微弧等离子体放电抛光机理与试验研究

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作者 赵智渊 贾祯 +2 位作者 刘旭 麻高领 李淑娟 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2023年第6期906-913,共8页

针对目前用于抛光不锈钢的方法普遍存在抛光质量差、抛光效率低以及环境污染严重的问题,本文以304不锈钢为加工对象,将电化学加工与放电加工相结合,提出了微弧等离子体放电抛光方法。基于电化学理论和流注理论对微弧等离子体放电抛光机... 针对目前用于抛光不锈钢的方法普遍存在抛光质量差、抛光效率低以及环境污染严重的问题,本文以304不锈钢为加工对象,将电化学加工与放电加工相结合,提出了微弧等离子体放电抛光方法。基于电化学理论和流注理论对微弧等离子体放电抛光机理进行了研究。通过设计正交试验并采用田口分析法和方差分析法对试验结果进行了分析,找到了关于材料去除率和表面粗糙度的优化参数组合并进行了试验验证。结果表明,电源电压、抛光时间和电解液温度对材料去除率具有显著影响,抛光时间和电源电压对表面粗糙度具有显著影响。微弧等离子体放电抛光304不锈钢的材料去除率最大可以达到11.73μm/min,表面粗糙度最小可以达到29.1 nm。 展开更多

关键词 304不锈钢 等离子体 抛光机理 表面粗糙度

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镁合金抛光机理与CMP工艺研究 被引量：5

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作者 陈景 刘玉岭 +3 位作者 王晓云 王立发 马振国 武亚红 《微纳电子技术》 CAS 2008年第2期114-117,122,共5页

将化学机械抛光(CMP)技术引入到镁合金片(MB2)的抛光中,打破过去镁合金以单一化学或机械加工为主的加工手段,用自制的抛光液对镁合金片进行抛光实验。结果发现,抛光液中加入双氧水易产生胶体,不利于抛光的进行,因此提出无氧化剂SiO2碱... 将化学机械抛光(CMP)技术引入到镁合金片(MB2)的抛光中,打破过去镁合金以单一化学或机械加工为主的加工手段,用自制的抛光液对镁合金片进行抛光实验。结果发现,抛光液中加入双氧水易产生胶体,不利于抛光的进行,因此提出无氧化剂SiO2碱性抛光。同时分析了镁合金的抛光机理,抛光中压力、转速和抛光液流量参数对抛光过程的影响,利用Olympus显微镜对抛光前后镁合金表面进行观察,通过合理控制工艺参数,能够得到较佳的镁合金抛光表面,远优于单一的机械加工,为镁合金抛光工艺和进一步研究抛光液的配比奠定了基础。 展开更多

关键词 镁合金(MB2) 化学机械抛光 抛光机理 抛光速率 抛光液

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钽抛光及抛光机理的探究 被引量：5

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作者 王娟 刘玉岭 +1 位作者 张建新 舒行军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期361-362,366,共3页

为拓宽CMP技术应用领域,研究了中国工程物理研究院机械制造工艺研究所提供的钽片的抛光,打破过去以机械加工为主的加工手段,采用提高化学作用的方法,加入螯合剂、有机碱、活性剂等助剂,对钽进行抛光。结果发现,钽表面的粗糙度较小,表面... 为拓宽CMP技术应用领域,研究了中国工程物理研究院机械制造工艺研究所提供的钽片的抛光,打破过去以机械加工为主的加工手段,采用提高化学作用的方法,加入螯合剂、有机碱、活性剂等助剂,对钽进行抛光。结果发现,钽表面的粗糙度较小,表面状态良好,说明增强化学作用可以提高抛钽效果。对钽的CMP机理做了分析与推测,为钽CMP进一步研究奠定了基础。 展开更多

关键词 钽 化学机械抛光 抛光机理

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LBO晶体超光滑表面抛光机理 被引量：4

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作者 李军 朱镛 陈创天 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期18-21,共4页

胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理。在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了... 胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理。在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系。LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除。酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度。 展开更多

关键词 LBO晶体 化学机械抛光 超光滑表面 抛光机理 材料去除

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利用化学和机械协同作用的CVD金刚石抛光机理与技术 被引量：1

5

作者 苑泽伟 金洙吉 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期182-182,共1页

金刚石是集多种优越的物理、化学、光学和热学性能于一身的材料极品。它不但是自然界已知材料中硬度最大、摩擦因数最小、导热性能最好的材料，而且具有优良的电绝缘性、较宽的透光波段、优秀的半导体特性和化学惰性，被视为21世纪最有... 金刚石是集多种优越的物理、化学、光学和热学性能于一身的材料极品。它不但是自然界已知材料中硬度最大、摩擦因数最小、导热性能最好的材料，而且具有优良的电绝缘性、较宽的透光波段、优秀的半导体特性和化学惰性，被视为21世纪最有发展前途的工程材料，具有广泛的应用前景和巨大的市场潜力。 展开更多

关键词 CVD金刚石 化学惰性 抛光机理 协同作用 工程材料 技术 机械 利用

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歙砚抛光机理研究

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作者 胡鹏浩 费业泰 安成祥 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第7期736-738,共3页

采用先进的聚氨酯抛光片抛光技术，替代其陈旧的手工打磨工艺，采用正交试验探求加工规律和获知最佳工艺参数，借助于扫描电镜、轮廓仪等测试手段，对歙砚的岩石结构、发墨原理和歙砚抛光的机理进行了较深入的研究，为歙砚加工机械化提... 采用先进的聚氨酯抛光片抛光技术，替代其陈旧的手工打磨工艺，采用正交试验探求加工规律和获知最佳工艺参数，借助于扫描电镜、轮廓仪等测试手段，对歙砚的岩石结构、发墨原理和歙砚抛光的机理进行了较深入的研究，为歙砚加工机械化提供了必要的理论依据和实用的工艺参数。生产率可提高２倍～３倍，歙砚表面质量大大提高。 展开更多

关键词 歙砚 抛光机理 正交试验 工艺参数

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化学气相沉积碳化硅超光滑抛光机理与表面粗糙度影响因素

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作者 康念辉 李圣怡 郑子文 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期89-94,共6页

为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了... 为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究。研究结果表明:化学气相沉积碳化硅的稳定抛光过程是磨粒对碳化硅表面的塑性域划痕过程;CVD SiC的晶粒不均匀与表面高点会降低最终所能达到的表面质量;表面粗糙度在一定范围内随磨粒粒度增加呈近似线性增长,随抛光模硬度的增加而增长;抛光压强对表面粗糙度的影响规律与抛光模的变形行为相关,当抛光模处于弹性或弹塑性变形阶段时,表面粗糙度随抛光压强的增加呈小幅增长,而当抛光模包含塑性变形之后,表面粗糙度基本与抛光压强无关;此外,抛光速度和抛光液pH值对表面粗糙度的影响不大。研究结论为CVD SiC超光滑抛光的工艺参数优化选择提供了定量的试验依据。 展开更多

关键词 化学气相沉积碳化硅 纳米划痕试验 抛光机理 表面粗糙度

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聚氨酯抛光材料抛光机理的研究 被引量：2

8

作者 黄其圣 《内燃机燃油喷射和控制》 1996年第2期39-49,49,共11页

聚氨酯抛光材料是一种新型的抛光材料,具有抛光效率高,废品率低等优点。本文讨论了这种材料的抛光机理。

关键词 聚氨酯材料 抛光机理 内燃机

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二维超声无磨料抛光机理研究 被引量：3

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作者 蒋建军 郑建新 刘传绍 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2012年第5期89-92,共4页

根据二维超声振动无磨料抛光过程,从变速特性、占空率、工件表层金属的变形、能量集中效应、抗振性和摩擦性质等方面研究了二维超声无磨料抛光加工机理。

关键词 二维超声无磨料抛光 表面质量 抛光机理

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超声无磨料抛光机理研究 被引量：5

10

作者 李义辉 刘传绍 《现代机械》 2009年第6期81-83,共3页

介绍了超声抛光的优缺点,重点从超声无磨料抛光脉冲特点和能量集中效应、工艺系统的刚化、工件表层金属的变形及超声振动改变抛光过程的摩擦性质四个方面探讨了超声无磨料抛光机理。并与常规挤压抛光进行了对比分析。

关键词 超声振动 无磨料抛光 抛光机理 表面质量

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金刚石涂层激光抛光机理及加工工艺研究进展 被引量：1

11

作者 王海航 马玉平 +2 位作者 武晓龙 韩源 章星星 《材料保护》 CAS CSCD 2021年第6期136-146,共11页

CVD金刚石涂层表面粗糙度高、颗粒大,不能满足精密和超精密加工的要求,在一定程度上制约了其发展和应用,降低CVD金刚石涂层表面粗糙度是迫切需要解决的难题。阐述了激光抛光CVD金刚石涂层机理,对比了微观抛光和宏观抛光的差异,总结了国... CVD金刚石涂层表面粗糙度高、颗粒大,不能满足精密和超精密加工的要求,在一定程度上制约了其发展和应用,降低CVD金刚石涂层表面粗糙度是迫切需要解决的难题。阐述了激光抛光CVD金刚石涂层机理,对比了微观抛光和宏观抛光的差异,总结了国内外激光抛光金刚石涂层研究进展,探讨了目前激光抛光金刚石涂层的挑战和亟待解决的难点。 展开更多

关键词 抛光机理 金刚石涂层 粗糙度 激光抛光 刀具

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铜电致化学抛光机理及性能研究

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作者 单坤 郭东明 《金属加工（冷加工）》 2018年第5期83-83,共1页

超平滑无损伤铜表面的超精密加工技术在微电子器件和微机电系统制造中具有广泛的需求。现有的化学抛光和电化学抛光等无应力抛光方法虽可获得高完整性无损伤的铜表面，但化学抛光仅能达到亚微米级表面粗糙度且无法改善工件表面的平面度... 超平滑无损伤铜表面的超精密加工技术在微电子器件和微机电系统制造中具有广泛的需求。现有的化学抛光和电化学抛光等无应力抛光方法虽可获得高完整性无损伤的铜表面，但化学抛光仅能达到亚微米级表面粗糙度且无法改善工件表面的平面度，电化学抛光虽可达到纳米级表面粗糙度，但也无法实现高精度平坦化加工，所以均无法满足超平滑无损伤铜表面需求。 展开更多

关键词 电化学抛光 抛光机理 铜表面 超精密加工技术 表面粗糙度 性能 微机电系统 微电子器件

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碳化硅光学表面抛光机理研究 被引量：5

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作者 范镝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2012年第2期127-130,共4页

碳化硅光学反射镜已经在国民生活各个领域得到广泛应用,但是其抛光机理尚不明确。对碳化硅光学表面抛光机理进行了研究。介绍了陶瓷材料的磨削机理——压痕断裂模型。应用压痕断裂模型分析了理想状态下的碳化硅抛光过程,并研究了实际抛... 碳化硅光学反射镜已经在国民生活各个领域得到广泛应用,但是其抛光机理尚不明确。对碳化硅光学表面抛光机理进行了研究。介绍了陶瓷材料的磨削机理——压痕断裂模型。应用压痕断裂模型分析了理想状态下的碳化硅抛光过程,并研究了实际抛光过程中碳化硅光学表面的抛光机理。 展开更多

关键词 光学制造 抛光机理 碳化硅 压痕断裂模型

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用电子显微镜研究花岗石的抛光机理 被引量：2

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作者 杨中喜 刘晓鸿 陈军 《山东建材学院学报》 1999年第4期308-310,共3页

以扫描电子显微镜和透射电子显微镜为主要测试手段,研究了花岗石石材磨削抛光后其表面的微观结构特点,发现了花岗石抛光层的存在,以及抛光层内矿物为晶质的,进而得知花岗石的抛光机理是以热物理作用为主。

关键词 扫描电镜 透射电镜 花岗石 抛光机理

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二氧化铈浆料抛光机理的研究进展 被引量：5

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作者 刘军 宋晓岚 《稀土》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期68-73,共6页

由于具有抛光速率快、选择性好、自动停止等特点,二氧化铈浆料被广泛用于材料的表面抛光处理,但抛光机理研究的相对滞后严重制约其物化改性和推广。针对这一现状,本文介绍了二氧化铈浆料抛光过程中的物理作用及化学作用,总结了化学机械... 由于具有抛光速率快、选择性好、自动停止等特点,二氧化铈浆料被广泛用于材料的表面抛光处理,但抛光机理研究的相对滞后严重制约其物化改性和推广。针对这一现状,本文介绍了二氧化铈浆料抛光过程中的物理作用及化学作用,总结了化学机械抛光机理,并对今后研究方向提出了展望。 展开更多

关键词 二氧化铈 抛光机理 物理作用 化学作用 化学机械抛光

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新型钢抛光液中磨料的种类及其性能研究进展

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作者 陈倚 张偲淼 +3 位作者 屈蔚然 郑书佳 孙一嘉 弓爱君 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期88-100,122,共14页

磨料在抛光液中主要起机械作用,磨料的理化性质,如硬度、粒径、浓度等,是影响化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)性能的重要因素,对抛光效率有较大影响。针对我国抛光液对外依赖、需求量大,但精度等指标达不到市场要求等... 磨料在抛光液中主要起机械作用,磨料的理化性质,如硬度、粒径、浓度等,是影响化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)性能的重要因素,对抛光效率有较大影响。针对我国抛光液对外依赖、需求量大,但精度等指标达不到市场要求等问题,同时由于磨料在抛光液的抛光性能中起着至关重要的作用,因此寻求效果更好的改性磨料或新型磨料材料,以促进化学机械抛光技术的发展势在必行。故此,归纳汇总近年来国内外研制出的新型钢抛光液,聚焦于抛光液磨料这一重要组分中不同物质的物化性质及其作用,对抛光性能(如材料去除率、表面粗糙度和光泽度等)的影响等,分类别阐述了不同物质的优劣势、复配协同作用以及在现有抛光液中的效果,为之后抛光液配方研究中磨料的选择提供参考。归纳总结发现,混合与复合磨料较单一磨料有较大的提升,稀土掺杂、核/壳结构等改进存在较大的研究价值,组分间的复配协同作用对抛光性能的提升有一定作用。最后,基于目前钢抛光液应用中存在的问题以及现有的具有前景的技术,对钢抛光液中磨料的发展进行了展望。 展开更多

关键词 化学机械抛光 抛光液 钢 磨料 抛光机理

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谷物抛光机控制系统的研制

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作者 王晓光 《武汉理工大学学报（信息与管理工程版）》 CAS 2002年第4期120-123,共4页

精米抛光机的计算机控制能较大程度地提高抛光机的性能 ,对提高粮食加工机械设备机电一体化水平有着十分重要的意义 ,也有着广泛的市场需求。介绍了一种符合我国现阶段的谷物加工现状的基于单片机的谷物抛光机实用控制系统 。

关键词 谷物抛光机 控制系统 精米抛光机 单片机 线性化 粮食加工机械 抛光机理

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关于饰面石材抛光的理论与试验 被引量：1

18

作者 舒士韬 《广东建材》 2000年第1期8-10,共3页

如所周知,天然饰面石材(大理石、花岗石)是以岩石的自然美来美化建筑物的。这种自然美包括两方面,一是它们绚丽的颜色与千姿百态的图案;二是光彩照人的色泽。所以,饰面石材的光泽度,成为评价其使用价值的一个非常重要的指标。为了探明... 如所周知,天然饰面石材(大理石、花岗石)是以岩石的自然美来美化建筑物的。这种自然美包括两方面,一是它们绚丽的颜色与千姿百态的图案;二是光彩照人的色泽。所以,饰面石材的光泽度,成为评价其使用价值的一个非常重要的指标。为了探明抛光的机理,明确光泽和光泽度的物理意义十分必要。 展开更多

关键词 石材抛光 抛光机理 抛光效果 饰面石材 大理石 光泽度 束缚电子 磨头 白云岩 反射波

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化学机械抛光技术研究进展 被引量：46

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作者 宋晓岚 李宇焜 +2 位作者 江楠 屈一新 邱冠周 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期26-31,共6页

通过回顾化学机械抛光技术的发展历史,概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况,着重阐述了几种重要抛光浆料(如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料)的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法,进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型... 通过回顾化学机械抛光技术的发展历史,概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况,着重阐述了几种重要抛光浆料(如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料)的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法,进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型抛光浆料的开发方向。 展开更多

关键词 化学机械抛光 抛光浆料 抛光机理

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金属材料表面的电子束抛光研究进展 被引量：8

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作者 戴伟 郑志镇 +1 位作者 李建军 黄齐文 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期582-596,共15页

电子束技术应用于金属材料表面的抛光,作为一种新型的材料加工工艺,具有抛光效率高、材料去除效果好、抛光表面性能优良等优点。本文在探讨电子束抛光(EBP)技术机理的基础上,介绍了国内外EBP技术所使用的材料和设备类型,给出了EBP技术... 电子束技术应用于金属材料表面的抛光,作为一种新型的材料加工工艺,具有抛光效率高、材料去除效果好、抛光表面性能优良等优点。本文在探讨电子束抛光(EBP)技术机理的基础上,介绍了国内外EBP技术所使用的材料和设备类型,给出了EBP技术的数值模型,分析了工件材料、脉冲电压、能量密度和脉冲次数等不同的因素对EBP的影响规律。在总结EBP技术的优点和缺点的基础上,对EBP金属材料的现状和发展方向进行了评价和展望。 展开更多

关键词 电子束 金属表面 抛光机理 影响因素

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