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题名基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法
被引量：2
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作者
龚健文
王建
刘俊伯
孙海峰
胡松
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
电子科技大学光电科学与工程学院
中国科学院大学
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第12期81-90,共10页
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基金
国家重点研发计划项目(2021YFB3200204)
国家自然科学基金项目(61604154,61875201,61975211,62005287)
+2 种基金
中国科学院青年创新促进会项目(2021380)
中国科学院西部之光项目(YA23K056)
四川省科技计划项目(2023JDRC0104)。
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文摘
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度。本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级。实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度。
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关键词
微透镜阵列
投影光刻技术
掩模移动滤波技术
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Keywords
microlens array
projection lithography
mask moving filtering technology
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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