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基于GBK标量散射模型的超光滑光学元件表面特性参数预测方法
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作者 刘春江 张耘豪 +1 位作者 钟哲强 张彬 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第10期152-160,共9页
在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量... 在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量散射模型的光学元件表面特性参数预测方法。利用GBK标量散射模型和基于光腔衰荡技术的表面散射测量方法,建立了表征超光滑光学元件表面特性参数(表面粗糙度和自相关长度)的方程组,进而利用图解法求解得到超光滑光学元件的表面特性参数。为了验证预测方法的适应性,对不同表面特性参数下的多种待测光学元件进行了预测,获得了不同表面特性参数下元件表面粗糙度和自相关长度预测值的相对误差曲线。结果表明:表面粗糙度在0.1064~1.064 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内;自相关长度在1064~3192 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内。因此,在文中提出的表面特性参数范围内,该预测方法能快速准确预测超光滑光学元件的表面特性参数,具有较好的适应性和有效性,可为引力波探测系统中超光滑光学元件散射特性的测量提供参考。 展开更多
关键词 引力波探测 超光滑光学元件 GBK标量散射模型 表面粗糙度 自相关长度
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无定型Si-C-O-N涂层用于SSiC陶瓷的表面改性研究 被引量:4
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作者 唐惠东 孙媛媛 +1 位作者 李龙珠 谭寿洪 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期248-252,共5页
为了改善SSiC陶瓷反射率较低的情况,采用RF磁控溅射法在SSiC陶瓷表面涂覆了无定型Si-C-O-N涂层。借助XRD、FTIR、XPS等手段对涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率。结果显示:涂层主要由Si-N、Si-C和Si-O键组成,涂层... 为了改善SSiC陶瓷反射率较低的情况,采用RF磁控溅射法在SSiC陶瓷表面涂覆了无定型Si-C-O-N涂层。借助XRD、FTIR、XPS等手段对涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率。结果显示:涂层主要由Si-N、Si-C和Si-O键组成,涂层抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度可达埃级,在可见光波段可将反射率的最低值提升至90%。并运用标量散射理论分析了反射率提高的主要原因。 展开更多
关键词 SSiC Si-C-O-N涂层 反射率 标量散射理论
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微波谐振器无载品质因素的测量方法研究 被引量:1
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作者 吴昌英 李建周 +1 位作者 韦高 许家栋 《中国电子科学研究院学报》 2008年第2期128-130,共3页
提出了一种利用微波谐振器散射参数的幅度信息测量无载品质因素的方法。该方法认为在谐振点附近,耦合电路的参数和谐振器的参数相比可以忽略,因此采用简化的等效电路模型,利用谐振点附近的标量散射参数测量值来计算无载品质因素。为了... 提出了一种利用微波谐振器散射参数的幅度信息测量无载品质因素的方法。该方法认为在谐振点附近,耦合电路的参数和谐振器的参数相比可以忽略,因此采用简化的等效电路模型,利用谐振点附近的标量散射参数测量值来计算无载品质因素。为了消除散射参数曲线左右不对称所产生的影响,不采用散射曲线上独立的点来计算,而是采用带宽来计算。选取无载品质因素曲线平缓部分进行平均作为测量结果,测量精度接近临界点法。 展开更多
关键词 谐振器 品质因素 谐振点 标量散射参数
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一种测量微波谐振器无载品质因素的方法
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作者 吴昌英 李建周 +1 位作者 韦高 许家栋 《计量技术》 2008年第4期21-23,共3页
提出了一种利用微波谐振器散射参数的幅度信息测量无载品质因素的方法。该方法认为在谐振点附近,耦合电路的参数和谐振器的参数相比可以忽略,因此采用简化的等效电路模型,利用谐振点附近的标量散射参数测量值来计算无载品质因素。计算... 提出了一种利用微波谐振器散射参数的幅度信息测量无载品质因素的方法。该方法认为在谐振点附近,耦合电路的参数和谐振器的参数相比可以忽略,因此采用简化的等效电路模型,利用谐振点附近的标量散射参数测量值来计算无载品质因素。计算时抛弃了谐振点附近很小一个区域内的数据和远离谐振点的数据,消除了测量频率离散误差和耦合电路引入的误差。选取无载品质因素曲线平缓部分进行平均作为测量结果,测量精度接近临界点法。 展开更多
关键词 谐振器 品质因素 谐振点 标量散射参数
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电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性 被引量:19
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作者 侯海虹 孙喜莲 +3 位作者 申雁鸣 邵建达 范正修 易葵 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期3124-3127,共4页
利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632·8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和... 利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632·8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算,所得结果与测量结果相一致. 展开更多
关键词 氧化锆 表面粗糙度 标量散射 电子束蒸发
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测量薄膜微粗糙度的总积分散射仪 被引量:15
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作者 侯海虹 洪瑞金 +3 位作者 张东平 易葵 范正修 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1258-1261,共4页
介绍了一种检测光学薄膜表面总积分散射(TIS)分布的总积分散射仪.对仪器的基本结构、理论基础、测量原理以及系统性能等进行了阐述,提出了抑制系统噪音和提高测量精度的有效措施.利用该仪器对K9基底上的银(Ag)膜和氧化锆(ZrO2)薄膜进行... 介绍了一种检测光学薄膜表面总积分散射(TIS)分布的总积分散射仪.对仪器的基本结构、理论基础、测量原理以及系统性能等进行了阐述,提出了抑制系统噪音和提高测量精度的有效措施.利用该仪器对K9基底上的银(Ag)膜和氧化锆(ZrO2)薄膜进行了测量,并根据标量散射理论得到了表面均方根(RMS)粗糙度.利用光学轮廓仪和原子力显微镜(AFM)分别测量了上述Ag膜和ZrO2薄膜的表面均方根粗糙度,并与总积分散射仪所得的粗糙度进行了比较.结果表明,根据测量的薄膜表面总积分散射计算得到的表面均方根粗糙度与光学轮廓仪及原子力显微镜测量得到的表面均方根粗糙度符合得较好,相差在0.01~0.13 nm范围内. 展开更多
关键词 测量 表面粗糙度 标量散射 散射
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粗糙表面散射特性对基于PSD的激光位移传感器测量精度的影响 被引量:10
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作者 陈浩 邾继贵 薛彬 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期165-171,共7页
激光位移传感器的测量是基于目标表面的散射效应,表面的粗糙度特性直接影响散射测量光斑的光强。为研究粗糙表面对成像光斑光强的影响,通过构建粗糙表面的散射几何模型,利用基尔霍夫标量散射的解析理论,结合遮蔽函数统计模型,获得被测... 激光位移传感器的测量是基于目标表面的散射效应,表面的粗糙度特性直接影响散射测量光斑的光强。为研究粗糙表面对成像光斑光强的影响,通过构建粗糙表面的散射几何模型,利用基尔霍夫标量散射的解析理论,结合遮蔽函数统计模型,获得被测表面的粗糙特性与成像光斑光强的函数关系。根据传感器中位置敏感探测器(PSD)的检测原理,感光面上成像光斑光强大小将直接影响传感器的测量精度。实验分析了基于PSD的位移传感器对标准粗糙度样块的测量数据,结果表明不同的表面粗糙度将产生不同的测量误差,表面粗糙度Rq值越大散射光斑光强越大,但伴随遮蔽系数的显著增强,光斑光强将逐渐被削弱,而测量误差大小与光强的变化趋势相同,其中对Rq=0.8mm左右的粗糙表面的测量误差最小。 展开更多
关键词 测量 激光位移传感器 标量散射 表面粗糙度 遮蔽效应 位置敏感探测器
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Exotic Beam for Direct Measurement of the 22^Mg+a
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作者 Nguyen Ngoc Duy Shiregu Kubono +9 位作者 Hidetoshi Yamaguchi David Kahl Takashi Hashimoto Shinsuke Ota Yasuo Wakabayashi Takashi Teranishi Yoong Hee Kim Joeng Soeg Song L.H. Khiem Jun Hu 《Journal of Physical Science and Application》 2013年第2期83-86,共4页
The scattering and resonance reactions of ^22Mg+p and ^22Mg+α play crucial roles for studying deeply not only in the structure of proton-rich nuclei of ^23A1 and ^26Si but also for the interest of astrophysics. It ... The scattering and resonance reactions of ^22Mg+p and ^22Mg+α play crucial roles for studying deeply not only in the structure of proton-rich nuclei of ^23A1 and ^26Si but also for the interest of astrophysics. It is believed that ^22Mg nucleus is a waiting point in the αp-process of nucleosynthesis in novae. We supposed to perform direct measurement the ^22Mg+α system in invert kinematics using radioactive ion (RI) beam. The ^22Mg beam of 3.73 MeV/u was produced at CRIB facility of the University of Tokyo located at RIKEN, Japan in 2011. In this paper, we report the results the scattering and resonance reactions with the alpha target. of the ^22Mg beam production used for the direct measurement of 展开更多
关键词 Radioactive ions stellar reaction CRIB nuclear astrophysics.
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软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析 被引量:14
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作者 王洪昌 王占山 +4 位作者 秦树基 李佛生 陈玲燕 朱杰 崔明启 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1362-1365,共4页
由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素 ,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率 ,因此 ,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段... 由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素 ,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率 ,因此 ,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域 ,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度 ,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合 ,得到了非常好的拟合结果 ,从而确定了多层膜结构参量 ,同时分析了多层膜周期厚度 ,厚度比率 ,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响 ,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。 展开更多
关键词 薄膜光学 软X射线 界面缺陷 参量估算 反射率拟合 钼/硅多层膜 标量散射理论 界面散射 光谱分辨率
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