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离子注入制备Al_2O_3阻氚涂层中氧元素分布的研究
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作者 冯军 金凡亚 +5 位作者 陈美艳 但敏 沈丽如 童洪辉 李炯 赖新春 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期504-509,共6页
对离子注入制备Al_2O_3涂层中的氧元素分布进行了分析,研究在不同加速电压、剂量离子注入参数下,氧元素的深度、浓度的变化规律,并根据相关规律对涂层进行了优化。结果表明:在单一加速电压下,氧元素分布符合准高斯分布;加速电压的增大... 对离子注入制备Al_2O_3涂层中的氧元素分布进行了分析,研究在不同加速电压、剂量离子注入参数下,氧元素的深度、浓度的变化规律,并根据相关规律对涂层进行了优化。结果表明:在单一加速电压下,氧元素分布符合准高斯分布;加速电压的增大将使氧元素分布深度变大,但浓度分布梯度将变小。在剂量达到8×1017ions/cm^2及以上时,由于离子注入使晶粒纳米化,氧元素浓度分布变得很均匀。通过以上分析,进行了叠加注入优化氧元素分布,具体参数为:加速电压分别为30,50,70 k V,剂量分别为2.5×1017,2×1017,3.5×1017ions/cm^2,测试结果表明,浓度分布更均匀,阻氚性能也得到较大提高。 展开更多
关键词 离子注入 氧元素分布 加速电压 剂量
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