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Step-by-Step Laser Crystallization of Amorphous Si:H/SiNx:H Multilayer for Active Layer in Microcavities
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作者 钱波 陈三 +6 位作者 岑展鸿 陈坤基 刘艳松 徐骏 马忠元 李伟 黄信凡 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第5期1302-1305,共4页
我们报导结晶化和非结晶的 Si 的光致发光(PL ) 性质: H/SiNx : H 多层(ML ) 电影由一步一步的激光退火对待。结果 ofRaman 大小证明 nanocrystalline Si (nc-Si ) 谷物在 a-Si 被形成: 在抑制生长机制下面的 H 层。有谷物尺寸的 PL 山... 我们报导结晶化和非结晶的 Si 的光致发光(PL ) 性质: H/SiNx : H 多层(ML ) 电影由一步一步的激光退火对待。结果 ofRaman 大小证明 nanocrystalline Si (nc-Si ) 谷物在 a-Si 被形成: 在抑制生长机制下面的 H 层。有谷物尺寸的 PL 山峰的蓝移动被观察并且能被归因于量监禁效果。为比较,我们也报导 a-Si 的结晶化和 PL : H/SiNx : 由正常一步舞处理的 H ML 样品。这个方法 ofstep-by-step 激光处理将是一个候选人在非结晶的 Si 使 nc-Si 成为量点: H/SiNx : HML 作为在微洞的活跃的层。 展开更多
关键词 激光器结晶化 无定形Si:H/SiNx:H多分层 活跃分层 微空腔
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