激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究 被引量：5

1

作者 公衍生 涂溶 後藤孝 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期391-395,共5页

采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜... 采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜组成和结构进行了表征.结果表明:所得到的TiNx薄膜成分均匀,其取向与衬底预热温度有关,随着预热温度的升高,TiNx薄膜的取向由(111)变为(200),薄膜的取向与其微观结构一致.TiNx薄膜的沉积速率随着激光功率升高而增大,在PL=100W时,达到最大值90μm/h(沉积面积为300mm2),显著高于采用其它方法制备的TiNx薄膜. 展开更多

关键词 TiNx薄膜 快速生长 取向 激光化学气相沉积(LCVD)

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TiN类薄膜的激光化学气相沉积 被引量：7

2

作者 张鸿俭 冯钟潮 张鹤 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期41-44,共4页

研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄... 研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄，成份均匀，其平均显微硬度为ＨＫ２５００，耐磨 性比基材提高了六倍。 展开更多

关键词 TiN类薄膜 钛合金 激光化学气相沉积

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激光化学气相沉积(连载之一) 被引量：4

3

作者 张魁武 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期118-126,共9页

本讲座介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。

关键词 激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光

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激光化学气相沉积(连载之二) 被引量：1

4

作者 张魁武 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期94-101,共8页

介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。

关键词 激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光

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激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜 被引量：4

5

作者 王豫 《热处理》 CAS 2004年第2期33-36,共4页

研究了在W 1 8Cr4V高速钢基体上 ,用CO2 连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能 6 0 0W ,在H2 、N2 、TiCl4 反应系统中沉积出TiN薄膜 ,薄膜的颜色呈金黄色 ,显微硬度为 2 5 0 0HV。

关键词 激光化学气相沉积 LCVD TIN薄膜 高速钢

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激光化学气相沉积(连载之三)

6

作者 张魁武 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期105-113,共9页

本讲座介绍了激光化学气相沉积的基本原理,较详细地讲述了制备金属薄膜、金刚石薄膜、类金刚石薄膜、氢化非晶硅薄膜、化合物半导体薄膜及绝缘体薄膜等所用的激光器、工艺参数以及薄膜的性能。

关键词 激光化学气相沉积 激光诱导 激光辅助 光解激光 热解激光 光热共解激光

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 被引量：3

7

作者 黄河 朱晓 +4 位作者 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期330-332,共3页

为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密... 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。 展开更多

关键词 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式

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激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜 被引量：4

8

作者 陈志杰 潘天宇 +1 位作者 徐源来 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2022年第1期42-47,共6页

为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形... 为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形貌和晶粒尺寸的影响。实验结果表明,制备出了单相(100)氧化铈薄膜。随着薄膜层数的增加,其面内取向变好。薄膜结晶度在2层时最低,在5层时最高。随着氧化铈薄膜层数从2层增加到6层,氧化铈薄膜的平均晶粒尺寸从28.98 nm增加到86.10 nm。氧化铈晶粒形状从大部分正方金字塔形变为相互正交的矩形棱台形并且晶粒间出现10~50 nm的孔洞。通过引入激光加速前驱体分解,2层氧化铈薄膜的厚度达到136 nm,薄膜沉积速率高达2.45μm·h^(-1)。 展开更多

关键词 氧化铈缓冲层薄膜 激光化学气相沉积 晶粒尺寸 多层薄膜

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前驱体温度对激光化学气相沉积YBa2 Cu3 O7δ超导薄膜结构及性能的影响

9

作者 张琼 赵培 +3 位作者 吴慰 戴武斌 GOTO Takashi 徐源来 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期9-17,共9页

采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,B... 采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,Ba、Cu、Y前驱体加热温度分别为603、478、459 K时制备的薄膜在经813 K高温热处理12 h后,临界温度可达83 K。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积 YBA2 Cu3 O7-δ薄膜 高速沉积

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激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用 被引量：4

10

作者 张伟 陈小英 +6 位作者 马永生 付婉霞 王磊 周贺 徐智俊 王博 阮毅松 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第8期755-763,共9页

为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究... 为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解。 展开更多

关键词 TFT-LCD 激光化学气相沉积法 缺陷维修 W(CO)6 电阻率

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激光化学气相沉积法制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜 被引量：2

11

作者 吴慰 张琼 +1 位作者 苏轼 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2018年第5期514-523,共10页

采用激光化学气相沉积法在(100)取向Al_2O_3衬底上制备了第二代高温超导YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)薄膜,研究了前驱体Y(DPM)3、Ba(DPM)2、Cu(DPM)2的蒸发温度对YBCO薄膜成分的影响规律。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、背散射电子显微镜... 采用激光化学气相沉积法在(100)取向Al_2O_3衬底上制备了第二代高温超导YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)薄膜,研究了前驱体Y(DPM)3、Ba(DPM)2、Cu(DPM)2的蒸发温度对YBCO薄膜成分的影响规律。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、背散射电子显微镜对薄膜进行了表征。结果表明:制备的YBCO薄膜样品成分中含有以下化合物:YBCO、CuYO_2、Cu_2O、Cu_4O_3、Y_2O_3、CuO、CuBaO_2、BaY2O_4、Ba_2Cu_3O_x。在激光功率为130 W,沉积温度为1 123 K,腔体压强为1 kPa,前驱体蒸发温度分别为TY=453 K、TBa=603 K和TCu=453 K的条件下制得成分较单一的c-轴取向YBCO薄膜。同时结果表明载流气Ar气的流速对薄膜成分存在一定影响。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积法 YBA2CU3O7-Δ 超导薄膜 显微结构

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钨膜的激光化学气相沉积 被引量：1

12

作者 周政卓 顾原岗 邱明新 《激光杂志》 CAS 1985年第4期211-213,184,共4页

本文报道用XeCl准分子激光分解W(CO)_6气体分子沉积钨膜,面积约2.6cm^2。测量了膜层的厚度,电学性质和光学性质,并用扫描电镜观察了膜层的微观结构和用x光电子能谱仪分析了膜层的组分。

关键词 激光化学气相沉积 钨膜 XECL准分子 X光电子能谱 扫描电镜观察 分子沉积 光学性质 电学性质 微观结构 光分解

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一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法（专利号：95111978．8）

13

《工业金刚石》 2004年第6期37-37,共1页

一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反... 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积 工作台 金刚石膜 反应室 沉积温度 衬底 激光辐照 高导热 氢气 抽真空

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激光化学气相沉积法制备TiO_2薄膜 被引量：8

14

作者 孙利平 邓辉球 +2 位作者 刘晓芝 佘彦武 黄飞江 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2007年第8期57-61,共5页

利用激光化学气相沉积（LCVD）方法，以钛金属有机化合物为前驱体，以O2为反应气体，在激光功率PL为0～200W、基板预热温度为400～700℃的条件下，制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明，激光功率和基... 利用激光化学气相沉积（LCVD）方法，以钛金属有机化合物为前驱体，以O2为反应气体，在激光功率PL为0～200W、基板预热温度为400～700℃的条件下，制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明，激光功率和基板预热温度对所沉积的TiO2薄膜的物相组成、截面组织，表面形貌和薄膜生长速度均有着显著的影响。 展开更多

关键词 功能材料 二氧化钛 激光化学气相沉积 薄膜

原文传递

激光诱导化学气相沉积法制备a-Si_3N_4纳米粒子研究 被引量：6

15

作者 凤雷 郑韬 李道火 《中国粉体技术》 CAS 1999年第3期30-32,共3页

给出激光化学气相沉积法制备ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子的原理和经验公式，在特定工艺参数下获得平均粒径为１０ｎｍ左右的优良ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子。红外吸收和拉曼光谱研究表明，ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子中存在Ｓｉ－Ｎ，Ｓｉ－Ｈ，Ｎ... 给出激光化学气相沉积法制备ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子的原理和经验公式，在特定工艺参数下获得平均粒径为１０ｎｍ左右的优良ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子。红外吸收和拉曼光谱研究表明，ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子中存在Ｓｉ－Ｎ，Ｓｉ－Ｈ，Ｎ－Ｈ，Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ键，分析了ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子在不同的温度和气氛退火后的变化情况。 展开更多

关键词 非晶态氮化硅 纳米粒子 激光化学气相沉积法

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激光辅助化学气相沉积研究进展 被引量：7

16

作者 范丽莎 刘帆 +2 位作者 吴国龙 Volodymyr S.Kovalenko 姚建华 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期1-29,共29页

激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发... 激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发解离作用机制,同时介绍了各类LCVD的常用设备,着重总结了LCVD在金属材料、碳基材料、氧化物材料以及半导体材料等各类材料制备应用上的最新研究进展,特别介绍了LCVD制备过程中常用的检测与分析方法,最后讨论了激光化学气相沉积技术目前所面临的挑战与机遇,并展望了该技术的发展前景。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积 薄膜制备 热解离 光解离 共振激发解离

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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量：7

17

作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页

使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据，使用焦距移动方法，生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多

关键词 激光诱导化学气相沉积 生长速度 直径 微碳柱

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激光诱导化学气相沉积制膜技术 被引量：11

18

作者 葛柏青 王豫 《安徽工业大学学报（自然科学版）》 CAS 2004年第1期7-10,22,共5页

综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向。阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点。分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响。

关键词 激光诱导化学气相沉积 薄膜性能 工艺参数 LCVD技术 表面改性 薄膜制备

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人工神经网络—遗传算法优化激光—等离子体化学气相沉积Si_3N_4薄膜制备工艺 被引量：2

19

作者 张勤俭 吴春丽 +4 位作者 李敏 张勤河 秦勇 毕进子 张建华 《陶瓷学报》 CAS 2002年第2期116-118,共3页

应用人工神经网络建立了激光—等离子体辅助化学气相沉积 (LPCVD)工艺参数与Si3 N4薄膜显微硬度的关系。并运用遗传算法优化出了最佳工艺。

关键词 激光-等离子体辅助化学气相沉积 Si3N4薄膜 人工神经网络 遗传算法

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退火处理对激光诱导化学气相沉积制备纳米硅红外光谱的影响

20

作者 张海燕 陈可心 +2 位作者 刘颂豪 梁礼正 王卫乡 《中山大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2000年第S2期169-173,共5页

研究激光诱导化学相沉积（ＬＩＣＶＤ）法制备纳米硅粒子的工艺过程，分析了影响纳米硅形成及尺寸的主要工艺参数，获得了最佳的工艺条件并讨论了退火处理对纳米硅红外光谱各吸收峰的强度。

关键词 纳米硅 激光诱导化学气相沉积(LICVD) 红外光谱

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