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193 nm激光下不同含量Y杂质CaF_(2)晶体辐照损伤研究 被引量：2
1
作者 王华进 寇华敏 +8 位作者 王墉哲 姜大朋 张博 钱小波 王静雅 朱琳玲 曾爱军 杨秋红 苏良碧 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期219-224,共6页
氟化钙晶体的抗辐照性能是其在深紫外光刻应用中的关键性能之一,目前氟化钙晶体在193 nm激光辐照下的损伤过程尚不清楚。本文报道了193 nm激光辐照下氟化钙晶体的损伤行为及影响损伤的关键缺陷因素。通过193 nm激光辐照试验,发现晶体损... 氟化钙晶体的抗辐照性能是其在深紫外光刻应用中的关键性能之一,目前氟化钙晶体在193 nm激光辐照下的损伤过程尚不清楚。本文报道了193 nm激光辐照下氟化钙晶体的损伤行为及影响损伤的关键缺陷因素。通过193 nm激光辐照试验,发现晶体损伤主要表现为晶体内部产生的辐照诱导色心与表面产生的辐照诱导损伤坑。通过紫外–可见分光光度计对辐照诱导色心分析,并将不同色心吸收系数与Y杂质含量进行线性拟合。结果表明:Y离子具有与F心结构波函数发生重叠的低位轨道,两者发生轨道杂化易形成色心稳定结构;线性拟合结果表明Y离子含量与氟化钙晶体本征色心之间存在线性关系,说明Y元素是影响色心形成的关键杂质离子。实验表征了辐照诱导损伤坑的元素分布和结构缺陷。EDS结果表明损伤坑处伴随着钙元素含量上升和氟元素含量下降,证实H心扩散、F心聚集导致了辐照损伤;EBSD结果表明表面辐照损伤优先在位错处产生。因此,降低杂质含量及位错密度是提高氟化钙晶体在193 nm激光下抗辐照损伤性能的重要途径。 展开更多
关键词 氟化钙晶体 色心 激光辐照损伤 杂质含量 位错密度
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激光辐照下熔石英表面损伤的原子模拟
2
作者 张学阳 陈军 胡望宇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第15期184-191,共8页
熔石英光学元件是惯性约束核聚变点火装置的核心部件,由于该装置严苛的点火条件对高功率激光的需求,熔石英光学元件在强激光下的损伤是制约点火装置运行的关键.因此,研究激光辐照下熔石英的表面损伤对惯性约束核聚变点火装置的研制至关... 熔石英光学元件是惯性约束核聚变点火装置的核心部件,由于该装置严苛的点火条件对高功率激光的需求,熔石英光学元件在强激光下的损伤是制约点火装置运行的关键.因此,研究激光辐照下熔石英的表面损伤对惯性约束核聚变点火装置的研制至关重要.本文采用大规模非平衡分子动力学模拟方法和适用于动态过程的微结构分析技术,研究激光加载下熔石英表面的损伤过程,基于理论研究的高温等离子体火球模型模拟高温熔石英等离子体球对熔石英表面的破坏,通过跟踪局域结构、温度分布和表面形貌状态,分析影响熔石英表面损伤的因素.研究表明,高温熔石英球的尺寸、距表面的距离和温度都对熔石英表面的破坏具有重要的影响.本文可为认识激光辐照下熔石英中复杂的损伤过程提供指导. 展开更多
关键词 激光辐照损伤 熔石英 分子动力学
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激光辐照薄膜镜面产生损伤现象的研究 被引量：6
3
作者 赖祖武 谈效华 +1 位作者 赖宗力 向伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1992年第2期255-259,共5页
描述了薄膜镜面因激光辐照产生的波纹现象,对产生机理进行了分析,提出热导波模型。热导波模型比通常的光学模型能更好的解释波纹现象。
关键词 激光辐照损伤 铜薄膜镜面 损伤机理
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杂质对溶胶-凝胶SiO_2薄膜激光损伤的影响 被引量：4
4
作者 章春来 李熙斌 +3 位作者 吕海兵 袁晓东 王治国 祖小涛 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1267-1271,共5页
采用溶胶-凝胶法制备了含有吸收性杂质和非吸收性杂质的SiO2增透膜,采用波长为1 064 nm的激光对其进行了小光斑激光预处理,对比研究了预处理前后的激光损伤差异,研究表明:激光预处理对于洁净的SiO2薄膜影响不大;含10μm SiO2颗粒杂质的... 采用溶胶-凝胶法制备了含有吸收性杂质和非吸收性杂质的SiO2增透膜,采用波长为1 064 nm的激光对其进行了小光斑激光预处理,对比研究了预处理前后的激光损伤差异,研究表明:激光预处理对于洁净的SiO2薄膜影响不大;含10μm SiO2颗粒杂质的样品微透镜效应很明显,容易成为损伤起始的种子,激光预处理后情况有所改善;含有CeO2颗粒杂质的样品表现出了很强的吸收性质,损伤阈值降低到不足洁净样品的一半。所有样品激光预处理后损伤形貌未发生变化,透光率峰值均有约50 nm的蓝移。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 SiO2增透膜 激光预处理 激光辐照损伤
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单层SiO_2物理膜与化学膜激光损伤机理的对比研究 被引量：18
5
作者 陈习权 祖小涛 +5 位作者 郑万国 蒋晓东 吕海兵 任寰 张艳珍 刘春明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期1201-1206,共6页
采用离子束溅射沉积技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了厚度相近的SiO2单层介质膜,用表面热透镜技术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试,结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测,对相同基底、相同膜层材料而采... 采用离子束溅射沉积技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了厚度相近的SiO2单层介质膜,用表面热透镜技术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试,结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测,对相同基底、相同膜层材料而采用不同方法镀制的光学膜层,发现化学膜的强激光损伤阈值远高于相应物理膜;从热力学响应及膜层特性差异的角度揭示了化学膜层的强激光损伤阈值远高于相应物理膜层的微观机理,即物理膜具有高吸收下的致密膜层快传导的基底热冲击效应,而化学膜则有低吸收下的疏松空隙填充慢传导的延缓效应,大量的实验数据及现象都证实了这一结论. 展开更多
关键词 强激光辐照损伤 损伤形貌 热冲击 热吸收
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